CN107787309A - 基材表面的装饰方法以及利用该方法得到的制品 - Google Patents

基材表面的装饰方法以及利用该方法得到的制品 Download PDF

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Abstract

一种经过装饰的玻璃‑陶瓷制品，其包含：至少三种不同的光泽度对比区域，所述至少三种不同的光泽度对比区域具有至少三种光泽度水平，当从20度、60度或85度中的至少一种入射角度进行测量时，所述光泽度水平具有至少20单位的相对光泽度差异。本文还公开了一种装饰表面的方法，所述方法使得被装饰表面在如本文所定义的原始基材表面的至少一部分上具有一种或更多种对比水平。

Description

基材表面的装饰方法以及利用该方法得到的制品
本申请依据35 U.S.C.§119要求于2015年6月19日提交的系列号为62/182030的美国临时申请的优先权，本文以该申请的内容为基础并通过引用将其全文纳入本文。
相关申请的交叉引用
本申请涉及共同拥有和受让的提交于2012年11月2日的题为《不透明、着色和半透明材料的纹理化方法》(METHODS TO TEXTURE OPAQUE,COLORED AND TRANSLUCENTMATERIALS)的美国发明申请：USSN61/721797，其中提到了一种对玻璃-陶瓷制品的表面进行改性的方法，所述方法包括提供具有未损伤表面和初始光泽度值的玻璃-陶瓷制品；向玻璃-陶瓷制品的未损伤表面施加化学蚀刻溶液，以进行约5秒至小于15分钟的蚀刻；以及除去化学蚀刻溶液，本申请还涉及提交于2014年10月14日的题为《在基材上印刷装饰的方法》(METHOD OF PRINTING DECORATIONS ON SUBSTRATES)的USSN 14513407，其中提到了一种在基材上印刷装饰的方法，包括：利用喷墨印刷在基材上以预定设计施加油墨涂层，本申请还涉及联合拥有和受让的提交于2012年11月28日的题为《纹理化表面和制造和使用该纹理化表面的方法》(TEXTURED SURFACES AND METHODS OF MAKING AND USING SAME)的第9023457号美国专利，其中提到了用于制造具有改善的防指纹性的纹理化制品的方法及其使用方法。这些方法总体上使用包含纳米结构化的含金属特征的遮蔽物来生成也包含纳米结构化特征的纹理化表面。本申请不要求共同或联合拥有和受让的相关专利文件。
通过引用将本文所提及的各出版物或专利文件的全部公开内容纳入本文。
背景
本公开涉及表面的装饰方法以及利用该方法制得的制品。
概述
在一些实施方式中，本公开提供了一种经过装饰的制品以及一种经过装饰的制品的制造方法。所述经过装饰的制品可在光泽基材或哑光精整(“粗切”)基材上，例如在制品的至少一个表面上具有美观的特征或多个特征，且这些美观的特征可具有一种或更多种对比水平，例如多对比水平。
附图说明
在本公开的实施方式中：
图1显示了本文公开的一种经过装饰的制品的制造方法的总结。
图2A至2G显示了利用本文公开的条件蚀刻成不同灰度的光泽基材试样。
图3A至3D显示了选自图2的本文公开的经过装饰的光泽基材部件的反射光谱和颜色。
图4A和4B分别为用于生成在光泽表面(4A)或粗切表面(4B)上具有多对比水平的美观特征的示例性工艺的示意性总结。
图5A至5D显示了由本文公开的方法制得的美观或经过装饰的光泽基材表面的例子。
图6显示了在光泽基材表面上的图5B(右侧)中所示的星形图案的Zygo图像。
图7显示了光泽基材表面在本文公开的方法图案化步骤之前(右侧)和之后(左侧)的环叠环(RoR)和磨损环叠环(aRoR)结果。
图8显示了柱状图，它证明了可由抛光试样或粗切试样(即，未抛光的试样)开始，随后使用本文公开的蚀刻方法在表面上制造灰度图案，而不会显著损失制品强度。
图9显示了含有氟化铵和氢氟酸的蚀刻剂组合物的等值线图，所述蚀刻剂组合物可被用于随时间得到所需的光泽度水平。
图10显示了用于蚀刻白色陶瓷基材以得到不同光泽度的含有HF和硫酸的蚀刻剂的光泽度60随时间而变化的图线。
发明详述
下面参考附图(如果有的话)对本公开的各种实施方式进行详细描述。参考各种实施方式不限制本公开的范围，本公开的范围仅受所附权利要求书的范围限制。此外，在本说明书中列出的任何实施例都不是限制性的，且仅列出要求保护的发明的诸多可能的实施方式中的一些实施方式。
定义
本文所使用的“光泽基材”“光泽表面”等术语是指，例如具有光泽特征的玻璃、玻璃-陶瓷、陶瓷或它们的组合中的至少一种，例如具有50光泽度单位(GU)或更高、例如55或更高、例如55至90GU(包括中间数值和范围)的光泽度60值的基材、组件或部件，所述光泽度范围是利用60°光泽计程序测量的。可利用所选入射角度，例如60°(例如半光泽度：-10至70GU)、20°(例如高光泽度：大于70GU)和85°(例如低光泽度：小于10GU)来测量光泽度范围，这取决于光泽度的水平(参见gloss-meters.com/GlossIntro2.htm)。
本文所用的“粗切基材”“粗切表面”“哑光精整表面”“哑光精整”等术语是指，例如玻璃、玻璃-陶瓷、陶瓷或它们的组合中的至少一种，特指粗切基材或粗切表面不具有光泽特征，例如具有49光泽度单位(GU)或更小、例如49以及更低、例如49至0.001GU、45至0.1GU、40至1GU(包括中间数值和范围)的光泽度60值的未抛光的基材、组件或部件。
“粗糙”“粗糙化”“化学粗糙化”“蚀刻”“化学蚀刻”等术语是指例如使第一表面与化学蚀刻剂组合物接触，以生成具有更大表面粗糙度的第二表面，例如第一光泽表面生成第二哑光精整表面。
“抛光”“进行抛光”“进行化学抛光”“抛光蚀刻”“进行抛光蚀刻”等术语是指例如使第一表面与化学抛光组合物接触，以生成具有减小了的表面粗糙度且在表面形貌或表面颜色外观中的一者或两者上发生变化的第二化学抛光表面。
“包括”、“包含”或类似术语意为包括但不限于，即内含而非排它。
用来描述本公开实施方式的修饰例如组合物中成分的量、浓度、体积、过程温度、过程时间、产量、流速、压力、粘度等数值及它们的范围或者组件尺寸等数值及它们的范围的“约”是指数量的变化，可发生在例如：制备材料、组合物、复合物、浓缩物、组件零件、制品制造或应用制剂的典型测定和处理步骤中；这些步骤中的无意误差；制造、来源或用来实施所述方法的原料或成分的纯度方面的差异中；以及类似的考虑因素中。术语“约”还包括由于组合物或制剂的老化而与特定的初始浓度或混合物不同的量，以及由于混合或加工组合物或制剂而与特定的初始浓度或混合物不同的量。
“任选的”或“任选地”表示随后描述的事件或情形可能发生，也可能不发生，而且该描述包括事件或情形发生的实例和所述事件或情形不发生的实例。
除非另有说明，否则，本文所用的不定冠词“一个”或“一种”及其相应的定冠词“该/所述”表示至少一(个/种)，或者一(个/种)或多(个/种)。
可采用本领域普通技术人员熟知的缩写(例如，表示小时的“h”或“hrs”、表示克的“g”或“gm”、表示毫升的“mL”、表示室温的“rt”，表示纳米的“nm”以及类似缩写)。
在组分、成分、添加剂、尺度、条件、时间和类似方面公开的具体和优选的数值及其范围仅用于说明，它们不排除其他限定数值或限定范围内的其他数值。本公开的组合物和方法可包括本文所描述的任何数值或数值、具体数值、更具体的数值和优选数值的任何组合，包括显义或隐义的中间值和中间范围。
陶瓷材料被广泛用于消费品电子装置(例如手机、计算机和电视机)中，因为它们具有作为绝缘体和半导体的独特的功能性。最近，陶瓷和玻璃-陶瓷材料还被用作电子装置的盖板。功能性、外观、“触感”(即，触摸时的材质感觉)或上述组合可成为这些材料的所需特征。
蚀刻被广泛用于制造具有磨砂表面的玻璃。通过对玻璃表面施加耐蚀刻遮蔽物，蚀刻处理可选择性地使未遮蔽的区域变成磨砂状，从而在玻璃上引入例如图像或特征(并且增强美观外观)。现有的工艺只能够生成具有二元体系(即，两种水平，例如磨砂-非磨砂或蚀刻-非蚀刻)的特征。
在本文的其它地方使用“光泽基材”来描述由康宁股份有限公司(Corning,Inc)开发的合成光泽黑色玻璃陶瓷材料。康宁先前的研究开发了用于蚀刻光泽基材表面以生产哑光精制件的方法(参见上述共同拥有的申请USSN61/721797)。
玻璃陶瓷在例如JPH11100229A和JPH11100230A中有所描述，它们提到了不含环境污染且适合作为烹饪炊具的顶板的红外线传输玻璃陶瓷。KR1336935B1提到了用于蚀刻玻璃表面以实现美观表面外观的方法。
在一些实施方式中，本公开提供了一种经过装饰的制品以及一种经过装饰的制品的制造方法。经过装饰的制品可具有一种或更多种美观特征，所述一种或更多种美观特征包含添加至制品的初始光泽基材或哑光精整基材的对比水平，且可具有一种或更多种多对比水平，例如多对比水平。
在一些实施方式中，本文公开的起始于光泽基材的方法包括：至少一个遮蔽步骤，例如两个或更多个遮蔽步骤；至少一个化学粗糙化步骤；至少一个化学抛光步骤；以及至少一个去遮蔽步骤。
在一些实施方式中，本文公开的起始于哑光精整基材的方法包括：至少一个遮蔽步骤，例如两个或更多个遮蔽步骤；至少一个化学抛光步骤，例如两个或更多个抛光步骤；以及至少一个去遮蔽步骤。
在一些实施方式中，本文公开的方法能够生产具有改进的表面功能性和美观面貌的光泽基材或哑光精整基材材料。
在一些实施方式中，本文公开的方法对化学粗糙化、遮蔽和化学抛光步骤进行结合，以在光泽基材表面上生成特征。
在一些实施方式中，本文公开的方法可应用于任意玻璃、玻璃-陶瓷、陶瓷材料或它们的组合，例如白色、黑色或中间的灰度。然而，也可选择色彩丰富的陶瓷或玻璃陶瓷材料。陶瓷基材可具有均匀镶嵌的晶体，这些晶体能够在蚀刻处理过程中促进均匀的哑光精整表面的形成。相比之下，对于玻璃基材而言，生成均匀的外观要更加困难。此外，色彩丰富的陶瓷基材上的光泽表面与哑光精整表面之间的对比比透明玻璃表面上的更加显著，或者说差别更大。“色彩丰富”等术语是指具有人类可视的颜色(即，着色的，包括灰度、白色或黑色)的半透明或不透明的陶瓷或玻璃-陶瓷材料。
化学粗糙化工艺可以是例如上述共同拥有和受让的专利申请USSN61/721797中所描述的用于光泽基材的任意化学粗糙化工艺。
遮蔽技术可以是能够将耐蚀刻材料施加至光泽基材表面的任意技术。化学抛光试剂可以是含有氢氟酸(HF)和任选的无机酸或有机酸(例如硫酸、盐酸、硝酸、柠檬酸、醋酸以及类似的酸)的蚀刻剂中的任一种。总的来说，所述工艺能够使光泽基材表面产生多水平的颜色和对比，并且在表面上生成美观特征(参见例如图5)。
相比于现有方法，本文公开的方法在许多方面都有所不同，例如：本文公开的方法对许多表面有效，包括玻璃陶瓷(例如光泽基材)，而大部分现有方法对玻璃有效；且本文公开的方法能够生成多水平的颜色和灰度，而其它方法只能够生成两个水平的对比(即，二元体系)。而且，利用本文公开的方法处理的光泽基材部件可具有例如哑光精整和美观外观，其(例如在蚀刻和离子交换后)具有优异和可选择的触感、防指纹性和良好的机械强度。
本文公开的方法能够提供若干优势，包括：
本文公开的方法的粗糙化和抛光步骤能够将光泽基材的颜色、光泽度和对比度改变成不同的水平(多水平)。
本文公开的方法能够在光泽基材表面上或者在粗切或哑光精整基材表面上生成美观的外观，或者能够在光泽基材表面和粗切基材表面的组合上生成美观的外观。
经过精整的表面具有例如良好的美观外观、一定范围内的触感(参见例如C.J.Barnes等人的《表面精整和触摸—新人为因素摩擦学的个案研究》(Surface finishand touch-a case study in a new human factors tribology)，Wear，257(2004)(740～750)以及一定范围内的良好的机械强度，所述机械强度利用例如环叠环方法以及例如100至250kgf的失效负荷分析来测量。在一些实施方式中，可通过例如应用已知的方法来评估触感，例如用有代表性的试样和对照例对评议组作调查，并且分配相对触感值。
粗糙化的区域不会像未粗糙化的光泽部分那样显示出例如指纹和污迹。
值得注意的是，不像激光烧蚀或喷砂，本文公开的装饰方法不会使玻璃强度发生明显退化。
本公开的方法使用光泽和纹理来向图案化的设计添加视觉的“出平面”维度，所述维度在印刷或涂漆的部件上并不容易实现，且所述维度对于3D效果而言特别有利。
所产生的装饰或图像是材料的一个组成部分，且不会划伤、剥落、褪色或风化，这些是例如由颜料或油墨制成的装饰或图像所面临的问题。
在一些实施方式中，本公开能够提供一种用于进行蚀刻并将光泽基材材料的表面外观、感觉纹理(“触感”)和颜色调整成不同水平的方法(参见图1)。在一些实施方式中，表面遮蔽和蚀刻的结合能够在光泽基材表面上生成一种或更多种装饰，例如规则图案、不规则图案、线条艺术、图形图像、3D图像、美观特征以及类似的装饰或者它们的组合(参见图5A至5D)。
在一些实施方式中，本公开提供了一种经过装饰的玻璃-陶瓷制品，其包含：
至少三种不同的光泽度对比区域，所述至少三种不同的光泽度对比区域具有至少三种光泽度水平，当从20度、60度或80度中的至少一种入射角度进行测量时，所述光泽度水平具有至少20单位的相对光泽度差异。
在一些实施方式中，本公开提供了一种经过装饰的光泽制品，其包含：
基材，所述基材具有光泽外观和平滑表面纹理；以及
多个对比区域，所述多个对比区域位于所述基材的表面上，且包含：
第一哑光对比区域，所述第一哑光对比区域具有第一粗糙纹理，所述第一粗糙纹理具有第一粗糙度；以及
第二哑光对比区域，所述第二哑光区域具有第二粗糙纹理，所述第二粗糙纹理具有第二粗糙度，其中，所述第一粗糙度大于所述第二粗糙度。
在一些实施方式中，哑光表面可具有例如大于80nm的粗糙度值(Ra)。哑光表面的粗糙度相对于其它对比区域的粗糙度的差异可以是例如大于100nm，例如为110至500nm。
在一些实施方式中，本公开提供了一种经过装饰的哑光制品，其包含：
基材，所述基材具有第一哑光外观和具有第一粗糙度的第一粗糙表面纹理；以及
多个对比区域，所述多个对比区域位于所述基材的表面上，且包含：
第二哑光对比区域和具有第二粗糙度的第二粗糙纹理；以及
第三哑光对比区域和具有第三粗糙度的第三粗糙纹理，
其中，第一粗糙表面纹理的粗糙度小于第二粗糙度，且第二粗糙度不同于(即，小于或大于)第一或第三粗糙度。粗糙度相对于其它对比区域的粗糙度的差异可以是例如大于100nm，例如为110至500nm。
用于光泽基材的程序
在一些实施方式中，本公开提供了一种制造制品的方法，所述制品在能够进行化学蚀刻的原始基材的表面的至少一部分上具有美观的表面特征，所述美观的表面特征具有两种或更多种(即，至少两种)对比水平，所述方法包括：
在基材的原始表面区域的至少一部分上进行第一遮蔽，以形成局部遮蔽基材；
在遮蔽基材的未遮蔽的表面区域部分的至少一部分上进行第一化学粗糙化，以在遮蔽基材上生成哑光精整区域；
除去第一遮蔽物，以生成与原始表面区域和哑光精整区域形成对比的第一区域；
在哑光精整表面区域的至少一部分上进行第二遮蔽，以形成遮蔽哑光精整区域；
在未遮蔽的哑光精整区域的至少一部分上进行第一化学抛光，以生成第一抛光哑光精整区域；以及
除去第二遮蔽物，以生成与未遮蔽的原始表面区域、哑光精整表面区域以及抛光哑光精整区域形成对比的第二区域。
在一些实施方式中，第一遮蔽施加了耐蚀刻材料，所述耐蚀刻材料选自下组中的至少一种：蜡、聚合物、不溶于水的膜或涂层、能够UV固化的膜或涂层、粘合剂、层压层或它们的组合，且第一遮蔽通过喷墨印刷、丝网印刷、层压或它们的组合来将遮蔽物施加至表面。
在一些实施方式中，第一化学粗糙化生成了具有哑光精整外观的粗糙化表面，且原始表面是基材，所述基材选自以下中的至少一种：光泽玻璃、光泽玻璃-陶瓷、光泽陶瓷或它们的组合。
在一些实施方式中，第一化学粗糙化包括用含有氢氟酸(HF)的蚀刻剂对原始表面基材(即，光泽玻璃或光泽玻璃陶瓷)进行蚀刻，从而生成表面粗糙度为200至1000nm RMS的粗糙化表面，且第一化学抛光完成了以下中的至少一项：
对哑光精整表面进行抛光；
减小表面粗糙度；
改变原始表面的颜色；
或者上述各项的组合。
在一些实施方式中，第一化学抛光只改变哑光精整表面的视觉外观，而非原始表面的视觉外观。
在一些实施方式中，可通过例如在合适的有机溶剂中接触被遮蔽的原始表面区域的遮蔽物来完成第一遮蔽物的除去。
在一些实施方式中，原始基材可具有50微米至100毫米的厚度，例如在典型的电子应用中为50微米至1.5毫米，而在典型的消费品应用中为3至100毫米，原始基材具有选自平坦、弯曲或它们的组合的几何构型，且所产生的制品的强度相比于原始基材的强度未改变或者减小了0.1至20％，即，所述方法不会显著降低所产生的制品相比于原始基材的强度。
在一些实施方式中，与原始表面区域形成对比的第一区域、与原始表面区域形成对比的第二区域以及哑光精整区域各自具有5至25％的相对反射率差异。
在上述方法的实施方式中：
如果原始基材是黑色不透明的光泽陶瓷基材，则其具有90至99％的总反射率，包括0.001至20％的镜面部分，且具有0.001至20％的总透射率；
如果原始基材是白色不透明的光泽陶瓷基材，则其具有75至99％的总反射率，包括0.001至20％的镜面部分，且具有0.001至20％的总透射率；且
如果原始基材是灰色不透明的光泽陶瓷基材，则其具有40至75％的总反射率，且具有0.001至20％的总透射率。
在一些实施方式中，除去第二遮蔽物生成与原始表面区域和哑光精整区域形成对比的第二区域，且所得到的基材具有两种或更多种表面纹理，所述两种或更多种表面纹理各自具有相对于其它表面纹理为5至20％的光泽度差异。
在一些实施方式中，第一蚀刻在包含选自HF、NH4F、NH5F2、KF、NaF、KHF2、NaHF2或它们的组合的氟化酸的溶液中完成，且第一化学抛光在包含HF、无机酸、有机酸或它们的组合的溶液中完成。无机酸可以是例如选自HCl、H2SO4、HNO3中的一种或更多种酸，有机酸可以是例如醋酸、柠檬酸以及类似的有机酸或它们的组合中的一种或更多种。
在实施方式中：
原始基材是具有80至100的光泽度值(光泽度85)和0.2nm RMS至10nm RMS的表面粗糙度的光泽基材；
哑光精整区域具有40至60的光泽度值(光泽度85)和10nm RMS至1000nm RMS的表面粗糙度；
第一对比区域具有80至100的光泽度值(光泽度85)和0.2nm RMS至100nm RMS的表面粗糙度；
第一化学抛光哑光精整区域具有40至60的光泽度值(光泽度85)和200nm RMS至1000nm RMS的表面粗糙度；且
第二对比区域具有10至30的光泽度值(光泽度85)和200nm RMS至小于第一化学抛光哑光精整区域的RMS的RMS的表面粗糙度，其中，第一化学抛光哑光精整区域的RMS为200nm RMS至1000nm RMS。
在一些实施方式中，所述方法还可包括以所列顺序一次或更多次反复进行上述方法步骤。
在一些实施方式中，本公开提供了一种制品，它有至少一个原始表面根据上述方法进行了装饰。
用于哑光基材的程序
在一些实施方式中，本公开提供了一种制造制品的方法，所述制品在能够进行化学蚀刻的哑光精整基材的表面的至少一部分上具有美观的表面特征，所述美观的表面特征具有两种或更多种(即，至少两种)对比水平，所述方法包括：
在哑光精整基材的表面区域的至少一部分上进行第一遮蔽，以形成局部遮蔽基材；
在遮蔽基材的未遮蔽的表面区域部分的至少一部分上进行第一化学抛光，以在局部遮蔽基材区域上生成第一化学抛光哑光精整基材区域；
除去第一遮蔽物，以生成与哑光精整基材区域和化学抛光哑光精整基材区域形成对比的第一区域；
在化学抛光哑光精整表面区域的至少一部分上进行第二遮蔽，以形成第二遮蔽哑光精整区域；
在未遮蔽的化学抛光哑光精整基材区域的至少一部分上进行第二化学抛光，以生成第二化学抛光哑光精整区域；以及
除去第二遮蔽物，以生成与未遮蔽的哑光精整基材表面区域、所述第一化学抛光哑光精整区域以及所述第一和第二化学抛光哑光精整区域形成对比的第二区域。
在一些实施方式中，哑光精整基材可具有例如50微米至100毫米的厚度，例如在典型的电子应用中为50微米至1.5毫米，而在典型的消费品应用中为3至100毫米，哑光精整基材具有选自平坦、弯曲或它们的组合的几何构型，且所产生的制品的强度相比于原始基材的强度未改变或者减小了0.1至20％，即，所述方法不会显著降低所产生的制品相比于原始哑光精整基材的强度。
在一些实施方式中，所述方法还可包括以所列顺序一次或更多次反复进行上述方法的步骤。
在一些实施方式中，所述方法能够生成至少两种不同的对比区域，每一个不同的对比区域相比于另一个对比区域具有不同的光泽度和不同的颜色性质。在一些实施方式中，本公开提供了一种制品，它有至少一个哑光精整表面根据上述方法进行了装饰。
参考附图，图1显示了所公开的能够改变光泽基材试样的颜色和外观的蚀刻工艺(100)的小结。新鲜的光泽基材部件(110)具有光泽表面(即，具有低表面粗糙度)且任选地具有黑色或其它颜色。化学粗糙化步骤(105)能够增加光泽基材的表面粗糙度。经过化学粗糙化后的光泽基材具有哑光精整外观(120)(高表面粗糙度)，并且可以是黑色或其它颜色。一段时间的化学抛光步骤(125)逐渐降低了表面粗糙度，并且能够改变表面的表面形貌。例如，经过化学抛光(125)的黑色哑光基材(120)可具有灰色的颜色(130)。
图2A至2F显示了利用表1所示的条件被蚀刻成不同灰度水平的光泽基材试样。图2A显示了光泽基材在粗糙化和抛光处理前后的图像。图2B至2F显示了仅进行了粗糙化步骤之后的500倍光学显微镜图像(2B)以及进行了粗糙化和1分钟、3分钟、6分钟、9分钟和12分钟抛光之后的500倍光学显微镜图像(2C至2F)(表1中的编号3至7的试样)。这些图像中的比例尺为1/2英寸＝64微米。
表1.光泽基材的表面粗糙化(蚀刻时间)和化学抛光1
1.色坐标是对于荧光(F02)灯，且包含光谱成分(spectral component included，SCI)。
在一些实施方式中，两个或更多个不同区域之间的对比不仅可由于光泽度或不同角度下的光泽度而产生，还可由于其它光学性质(例如DOI和颜色)而产生。在一个典型的例子中，不同对比区域的性质列于表1。例如，光泽区域的性质作为试样编号1列于表1。哑光精整区域的性质作为试样编号2列于表1。抛光区域的性质作为试样编号3至7列于表1。
图3A至3D显示了光泽基材部件(表1中的试样编号1至7)的反射光谱和颜色。图3A显示了表1中所列部件的SCI-反射率(包含镜面反射率部分)。
图3B和图3C分别显示了试样色坐标的L*值和a*-b*图。图3B显示了随抛光时间而变化的L*。数据点下的数字代表表1中的试样编号。图3C显示了a*b*，F02 SCI。数据点下的数字(1至7)代表表1中的试样编号。图3D显示了随表面粗糙度(单位为纳米)而变化的85度下的光泽度。数据点下的数字(1至7)代表表1中的试样编号。参考图3B和3C，在经过化学粗糙化之后(试样2)，粗糙化区域中的化学粗糙化光泽基材颜色更暗(较低的L*值)，而在起始基材为黑色光泽表面的例子中，相比于化学粗糙化之前的光泽基材，光泽基材的化学粗糙化区域具有蓝色外观。粗糙化光泽基材部件的持续化学抛光能够逐渐增加亮度(L*)，并且随着利用蚀刻剂的抛光时间或抛光深度，使化学抛光区域的颜色从蓝色转变为黄色(图3C)，所述蚀刻剂例如为1.5M的HF和0.6M的HCl。a*的改变很小。对光泽基材表面进行化学蚀刻的影响总结于表2，其中，向上的箭头(“↑”)表示相对增加，而向下的箭头(“↓”)表示相对减小。
表2.蚀刻处理对光泽基材的表面形貌以及颜色改变的影响
处理 粗糙度 特征尺寸 L* a* b*
粗糙化 ↑↑↑ 生成特征 ↓↓ ↓(略微) ↓↓↓(显著)
抛光 ↓ ↑ ↑↑ ↑(略微) ↑↑↑(显著)
参考附图，图4A例示了本文公开的起始于光泽表面基材的方法。图4A显示了一种工艺的示意性总结，所述工艺生成在起始材料上具有多对比水平的美观特征，所述起始材料包含具有光泽表面的基材或光泽基材。可利用图4A所示工艺实现的示例性美观特征可以是例如光泽基材表面上的立方体图案。
例如：步骤1是例如利用平行四边形形状的遮蔽物(415)对光泽基材表面(410)的所选区域进行第一遮蔽(保护)(405)，在遮蔽过程中保护遮蔽区域不经历后续的粗糙化步骤。在该步骤中，可通过例如喷墨印刷以及类似的合适技术将诸如单遮蔽物或多个呈阵列的遮蔽物这样的耐蚀刻遮蔽物材料施加于(405)光泽基材表面(415)。
步骤2是对表面(420)区域的所选部分或整个未保护或未遮蔽的光泽基材表面(420)区域进行化学粗糙化(425)。在该步骤中，未保护(即，未遮蔽)的区域发生粗糙化，从而生成哑光精整外观(430)。
在步骤3中，通过例如将遮蔽物选择性地或整体地浸入有机溶剂(例如丙酮)中、或者通过剥离技术来除去(435)第一遮蔽物(415)，以使之前受保护的光泽区域(442)显露。在显露的光泽区域(442)与相邻或环绕的哑光精整区域(444)之间实现了对比。
在步骤4中，完成了哑光精整区域的第二或新遮蔽(保护)(445)，从而形成第二遮蔽区域(415)，以保护新的遮蔽区域不经历后续的化学抛光。第二遮蔽方法可与步骤1的初始或第一遮蔽相似或相同。
在步骤5中，完成了对于具有遮蔽区域(415)的哑光精整基材表面(450)的化学抛光(455)。在步骤5中，含有例如氢氟酸(HF)的蚀刻剂对未保护的哑光精整表面进行抛光，降低了其表面粗糙度，并且改变了所得到的经过抛光的基材表面区域(460)的颜色。注意到化学抛光只会改变哑光精整表面的外观，而不会改变光泽表面区域(442)。
在步骤6中，可通过将部件被遮蔽的部分或整个部件浸入有机溶剂(例如丙酮)中来除去(465)第二遮蔽物(415)，以提供三水平图案化基材表面(470)。因此，可在经过上述替代性地在基材的一个或更多个区域上进行蚀刻和遮蔽的步骤之后，实现三个水平(即，三水平)对比和相关图案。
在一些实施方式中，经过光泽精整的部件可被选为用于本文公开的装饰方法的起始基材。参考图4A，当经过光泽精整的部件被选为起始基材时，可使用以下步骤顺序来实现三个水平的表面图像或纹理：
步骤1：利用例如至少一个遮蔽区域或更多个被遮蔽的区域(120)来对光泽精整基材(410)进行表面遮蔽(405)，其中所述光泽精整基材(410)具有例如精细的表面精整，且具有低Ra，且具有光泽外观，而所述遮蔽区域或被遮蔽的区域(120)具有例如美观或几何图案(参见对起始于光泽基材(410)的所有步骤进行图解总结的图4A)；
步骤2：对被遮蔽的光泽基材进行化学粗糙化(425)，以产生经过化学粗糙化的基材(430)和一个或更多个被遮蔽的区域(120)；
步骤3：除去遮蔽物(435)；
步骤4：向经过化学粗糙化且未遮蔽的基材(440)施加一个或更多个附加遮蔽物或被遮蔽的区域(445)；
步骤5：化学抛光(455)；以及
步骤6：除去第二遮蔽物(465)，以提供不含遮蔽物且经历了一次粗糙化(蚀刻)和一次化学抛光的基材(470)，所述基材(470)具有区域A、B和C，其中，这些区域的粗糙度或“暗度”满足以下顺序：A(粗糙化精整)大于C(粗糙化和抛光精整)大于B(原始的光泽精整410)。
在一些实施方式中，上述方法能够生产例如具有一个或更多个三维(“3D”)特征的表面经过装饰的制品，参考图4A的附图标记：
光泽基材(410)可具有例如80至100或更大的光泽度值(85度下的光泽度，即，“光泽度85”)；
经过哑光精整的区域(444)具有例如40至60的光泽度值(光泽度85)；
第一对比区域(430)具有例如80至100的光泽度值(光泽度85)；
第一抛光哑光精整区域(444)具有例如40至60的光泽度值(光泽度85)；且
第二对比区域(470)具有例如10至30的光泽度值(光泽度85)。或者，可使用光泽度60或光泽度20值来表征表面经过装饰的制品的光泽度性质。
在一些实施方式中，本公开提供了一种在哑光精整基材或粗切基材的表面的至少一部分上制造美观特征的方法，所述美观特征具有多个对比水平，例如至少两个(即，多个)，例如两个、三个或更多个对比水平。
参考附图，图4B例示了本文公开的起始于粗切或哑光表面基材的方法。例如：
在哑光精整基材(412)或粗切基材(412)的表面区域的至少一部分上进行第一遮蔽(406)，以形成遮蔽的哑光精整基材或遮蔽的粗切基材，即，利用可除去的保护性遮蔽物(416)(黑色平行四边形)覆盖哑光精整基材表面或遮蔽的粗切基材的一部分。
在遮蔽的哑光精整基材的未遮蔽的表面区域(412)的至少一部分上进行第一化学抛光(456)，以在遮蔽的哑光精整基材上生成第二哑光精整区域(432)；
除去第一遮蔽物或进行去遮蔽(436)，以产生具有第一对比区域(417)(即，双水平对比区域)的部件或组件(441)，该对比和纹理可不同于原始的第一哑光精整区域(412)或新形成的或转化的第二哑光精整区域(432)的纹理；
进行第二遮蔽(446)，以在第二哑光精整表面区域(441)的至少一部分上形成第二遮蔽物(418)；
在第二遮蔽哑光精整区域(451)的至少一部分上进行第二化学抛光(457)，以形成被遮蔽的组件(461)；以及
除去第二遮蔽物(467)(即，进行第二去遮蔽)，以产生具有第一对比区域(B)、通过除去遮蔽物(418)而产生的第二对比区域(A)(即三水平对比区域)和第二化学抛光且哑光精整区域(C)的组件(471)。
在一些实施方式中，具有“哑光”精整或“粗切”精整的部件可被选为用于本文公开的装饰方法的起始基材。参考图4B，当具有哑光精整或粗切精整的部件被选为起始基材时，可使用以下步骤顺序来替代性地实现三个水平的图像或纹理结果：
步骤1：利用例如至少一个遮蔽区域或更多个被遮蔽的区域(416)来对哑光精整基材(412)进行表面遮蔽(406)，其中所述哑光精整基材(412)具有例如哑光或粗切表面精整，且具有高Ra，且具有哑光、昏暗、低光泽或不闪亮的外观，而所述遮蔽区域或被遮蔽的区域(416)具有例如美观或几何图案(参见对起始于哑光基材(412)的所有步骤进行图解总结的图4B)；
步骤2：对被遮蔽的哑光基材完成第一化学抛光(456)，以产生经过化学抛光的基材(432)和一个或更多个被遮蔽的区域(416)；
步骤3：除去遮蔽物(436)或进行“去遮蔽”以提供经过化学抛光的基材(441)和具有哑光精整的之前已遮蔽或未遮蔽的区域(417)；
步骤4：向经过化学抛光且未遮蔽的基材(441)施加遮蔽物(446)，例如一个或更多个附加遮蔽物(418)或被遮蔽的区域，以提供第二遮蔽基材(451)；
步骤5：完成第二化学抛光(457)以提供具有仍然完整的被遮蔽的区域(418)的第二化学抛光基材(461)；以及
步骤6：除去(467)第二遮蔽物(418)，以提供不含遮蔽物且经历了两次化学抛光的基材(471)，所述基材(471)具有区域A、B和C，其中，这些区域的粗糙度或“暗度”外观满足以下顺序：A和B大于C，因为A和B都经过一次抛光，而C被抛光了两次。A和B之间哪个区域更暗取决于第一抛光(456)步骤和第二抛光(457)步骤中的哪个除去更多表面(或经过更长时间的抛光)。如果第一抛光(456)步骤比第二抛光(457)步骤的时间更长或范围更大，则在相对暗度方面，A大于B，且B大于C(即，A＞B＞C)。如果第二抛光(457)步骤比第一抛光(456)步骤的时间更长或范围更大，则在相对暗度方面，B大于A，且A大于C(即，B＞A＞C)。
在一些实施方式中，遮蔽物可以是任意合适的耐蚀刻材料。
在一些实施方式中，可例如利用喷墨印刷、丝网印刷、层压以及类似方法或它们的组合来将遮蔽物施加至基材表面。
在一些实施方式中，第一蚀刻在基材的表面上生成了例如具有哑光精整外观的粗糙化表面。
在一些实施方式中，第一化学抛光可包括利用含有氢氟酸(HF)的蚀刻剂来进行蚀刻，且第一化学抛光完成了以下中的至少一项：
对哑光精整表面进行抛光，即，生成弱化的或柔化的哑光精整外观表面，其表面粗糙度介于光泽基材与基材上的哑光精整外观之间；
减小表面粗糙度；
改变光泽表面的颜色；
或者上述各项的组合。
在一些实施方式中，第一化学抛光(455)只改变哑光精整表面的视觉外观，而非光泽表面的视觉外观。
在一些实施方式中，可通过例如在合适的有机溶剂中接触(例如浸渍、浸入、浸没等)被遮蔽的光泽区域的遮蔽物、或者通过使用合适的剥离技术来完成对第一遮蔽物(415或416)的除去或去遮蔽(435或436)。
在一些实施方式中，光泽基材(410)可以是例如以下中的至少一种：玻璃、玻璃-陶瓷、陶瓷或它们的组合。
在一些实施方式中，第一对比区域(A)和第二对比(B)区域具有5至25％的相对反射率差异。在一些实施方式中，基材的反射率最大的部分与反射率最小的部分之间的相对反射率差异可优选为10％，且可更优选为20％。
在一些实施方式中，任意遮蔽、表面改性或蚀刻之前的起始基材可具有例如0.001至20％且优选小于20％的总透射率和0.001至20％且优选小于20％的反射率，包含镜面部分。
在一些实施方式中，在为了生成第二对比区域(B)而除去(465或467)第二遮蔽物(415或418)之后，所得到的基材具有两种或更多种表面纹理，即，三水平表面纹理，且所述两种或更多种表面纹理相对于另一个表面纹理各自具有5至20％、优选10％的光泽度差异(即视觉对比)，且更优选在基材的反射率最大和最小部分之间具有至少20％的光泽度差异或对比。
在一些实施方式中，第一蚀刻可在包含例如选自HF、NH4F、NH5F2、KF、NaF、KHF2、NaHF2的氟化酸的溶液以及类似的蚀刻剂或它们的组合中完成。
在一些实施方式中，第一化学抛光可在包含例如选自HCl、H2SO4、HNO3、醋酸、柠檬酸以及类似的无机或有机酸或它们的组合的一种或更多种酸的溶液中完成。
在一些实施方式中，第一化学抛光可在含有例如HF、无机酸、有机酸或它们的组合的溶液中完成。
图5A至5D显示了由本文公开的方法制得的美观的光泽基材表面的例子。图5A显示了光泽基材上的表面特征的两个水平(双水平)设计(中空和充填的树叶和星星)。图5B显示了基于来自图5A的图像的设计的精整光泽基材表面的外观。图5C显示了立方体图案的三个水平(三水平)设计。图5D显示了基于来自图5C的图像的设计在光泽基材上实现的3D图案。
图6显示了通过按照本文公开的工艺来加工光泽基材表面而得到的星形图案的干涉仪图案，该星形图案还示于图5B的右侧。观察到在粗糙化区域与抛光区域之间存在清晰的边界。抛光步骤除去了约12微米的光泽基材表面。
图7显示了标称厚度为1mm的光泽基材表面在图案化处理前后的环叠环(RoR)和磨损环叠环(aRoR)结果。光泽基材图案化处理略微降低了组件相对于无图案组件的强度。aRoR结果显示光泽基材图案化处理不会改变(即，降低)光泽基材组件的残留强度。
在一些实施方式中，最大表面粗糙度可以是例如200nm RMS至1000nmRMS，且优选小于750nm，更优选小于500nm，例如200nm RMS至450nmRMS。
在一些实施方式中，本文公开的使用光泽基材的方法还可包括完全或部分重复以下步骤一次或更多次，例如1至100次：
在多个局部遮蔽光泽基材的未遮蔽的表面区域的至少一部分上进行第二化学粗糙化，以在局部遮蔽的光泽基材上生成哑光精整区域；
除去遮蔽物，以生成第三对比区域，即，光泽度值在光泽区域与哑光精整区域之间的中间对比区域；
在哑光精整表面区域的至少一部分上进行第三遮蔽，以形成局部遮蔽的哑光精整区域；
在未遮蔽的哑光精整区域的至少一部分上进行第二化学抛光，以生成第二抛光哑光精整区域；以及
除去第三遮蔽物，以生成第四对比区域，即，位于未遮蔽的光泽区域、哑光精整表面区域以及第二抛光哑光精整区域之间的第二个三水平对比区域。
图8所显示的柱状图证明了可由粗切试样(即，未抛光的试样)而非光泽试样开始，随后使用本文公开的遮蔽、蚀刻和抛光步骤在表面上制造灰度图案，而基本上不会损失制品的强度。用于测试失效负荷分析的示例性试样如下所示：粗切未磨损试样(800)；粗切5psi磨损试样(810)；粗切棋盘图案(“普瑞纳(purina)”)未磨损试样(820)；粗切普瑞纳5psi磨损试样(830)；抛光未磨损试样(840)；抛光5psi磨损试样(850)；抛光“3D正方形”设计未磨损试样(860)；抛光“3D正方形”设计5psi磨损试样(870)；抛光普瑞纳未磨损试样(880)；以及抛光普瑞纳5psi磨损试样(890)。初始的粗切试样具有0.9mm的标称厚度。初始的抛光试样具有0.7mm的标称厚度。对所得到的经过和未经图案化的粗切试样以及所得到的经过和未经图案化的抛光试样进行离子交换，例如，在KNO3中于430℃下进行8小时的离子交换。
起始于粗切表面试样的替代性方法(例如，图4B)可从上述有关的光泽基材方法(例如，图4A)中去除一些加工步骤。例如，在粗切方法中，可去除光泽基材方法的步骤2，因为无需对已经是粗糙的粗切表面或哑光表面进行粗糙化。任选地，可从粗切表面试样方法中去除光泽基材方法的步骤5，因为无需对(471)表面进行化学抛光来得到具有哑光表面精整的三水平装饰，因为(471)已经具有三水平装饰特征。
也可在由起始于抛光部件而制成的产品中得到相当的灰色。对具有粗切试样表面的试样施加图案。RoR和磨损RoR数据显示使用未抛光表面能够在去除一个或更多个用于制造灰度图案的上述方法步骤的同时提供可接受的强度值。
在一些实施方式中，抛光部件可具有例如标称0.1至10mm的厚度，粗切部件可具有例如0.1至10mm的厚度，包括中间值和范围。在一些实施方式中，相比于具有相当厚度的光泽部件，更薄的粗切部件的失效负荷值通常更低。
结合图7和8，显示了更厚的粗切部件具有略微更高的失效负荷值。由粗切部件得到的数据还显示图案化(即按照本文公开的方法对基材表面进行装饰)不会降低精整部件的强度。
在一些实施方式中，可使用粗切部件和本文公开的粗切表面装饰方法来提供满足制品强度和外观标准的所需表面装饰。
表面粗糙化和抛光可在含有例如氢氟酸(HF)、氟化铵(NH4F)以及丙二醇(PG)的化学蚀刻剂中对光泽基材表面进行粗糙化。在蚀刻过程中，晶体在光泽基材表面上生长，并且起到了逐渐形成粗糙表面的初始遮蔽物的作用。可利用含有HF和无机酸(例如H2SO4、HCl、HNO3或类似的酸以及它们的混合物)的蚀刻剂来对粗糙化玻璃表面进行化学抛光。抛光处理使经过蚀刻的基材上的锋利尖端或突起物钝化，并且能够改变经过蚀刻的基材表面的形貌。粗糙化和抛光步骤都能够改变光泽基材表面的表面形貌和表面粗糙度。
控制亮度和颜色在一些实施方式中，本公开能够提供在诸如粗糙化和抛光(参见图1)这样的化学处理后改变外观(即，颜色)的方法。例如，表1中，列出了七种经过不同化学处理后的初始光泽基材试样。经过蚀刻后，表面粗糙度显著增加至约560nm，且形成了小的表面突起物(图2B)。进一步的化学抛光逐渐降低了表面粗糙度，但会增加突起物的距离(或表1中的特征尺寸，如图2C至2F所示的图像)。形貌的变化会直接影响光泽基材的亮度和颜色。图3A显示了光泽基材在化学粗糙化和化学抛光前后的反射率光谱。当玻璃变粗糙时，反射光的总强度减小，而当对经过粗糙化的玻璃进行化学抛光时，反射光增强。这如F02SCIL*那样在图3B中以L*表示。同时，对于黑色的光泽基材，化学粗糙化使光泽基材的表面颜色从黑色转变为蓝色，而化学抛光使黑色的哑光基材表面颜色向相对更正的b*值转化(图3C)。对光泽基材表面的化学蚀刻的影响总结于表2。
在光泽基材表面上生成图案改变光泽基材组件的颜色、光泽度、纹理和外观的能力使得操作人员能够在光泽基材表面上生成图案和图像，认为这些图案和图像是无法利用诸如印刷或涂绘这样的其它方法来实现的。认为具有美观的图案、设计或图片的光泽基材组件对消费者更有吸引力且是消费者所需的。在一些实施方式中，本公开提供了一种通过结合蚀刻和表面遮蔽技术来在光泽基材表面上生成图案的方法。图4A显示了在光泽基材表面上生成立方体图案的工艺流程图。该方法使用六个步骤来实现设计，所述方法包括遮蔽、蚀刻(粗糙化和抛光)以及除去遮蔽物。所述发明构思和方法通过选择性地使表面暴露于粗糙化试剂、抛光试剂或这两者中来在同一表面上提供多水平的对比(颜色和灰度)。图4B显示了用于生成与图4A中相同的立方体图案、但起始于粗切或哑光精整基材表面的工艺流程图。
图5A至5D显示了经过装饰的光泽基材组件的设计图案以及相关精整外观的图像。可通过具有三个步骤的简单工艺来实现双水平对比，包括进行遮蔽；粗糙化；以及除去遮蔽物，例如图5A和5B中所示的树叶和星星。可通过具有六个步骤的序列来实现三个水平(三水平)对比(例如所例示的3D立方体设计)，包括：进行遮蔽；粗糙化；除去遮蔽物；对不同的区域进行遮蔽；化学抛光；以及除去遮蔽物，如图5C和5D所示。
本文公开的美观的光泽基材的附加特征是通过从不同角度观察组件部件来改变对比。例如，表1中的2号和6号试样分别只经过8分钟的粗糙化和经过8分钟的粗糙化加9分钟的抛光。相比于6号试样，2号试样具有更低的20°下的光泽度值，但具有更高的60°下的光泽度值(光泽度60)和85°下的光泽度值(光泽度85)(表1)。
机械性能—离子交换强化在KNO3(硝酸钾)中于430℃下对经过和未经图案化的光泽基材组件部件进行离子交换，并且利用RoR和aRoR测试进行评价。结果显示，相对表面强度由于光泽基材表面上的图案而略微减小，按照以下顺序：不具有图案的光泽基材表面的相对表面强度大于具有小的正方形图案(双水平对比)的光泽基材表面的相对表面强度，具有小的正方形图案(双水平对比)的光泽基材表面的相对表面强度大于具有3D正方形图案(三水平对比)的光泽基材表面的相对表面强度。aRoR结果显示未图案化的光泽基材部件与经过图案化的光泽基材部件之间在残留强度上没有明显差异。
程序
化学粗糙化一种示例性的粗糙化试剂可含有例如HF、NH4F和丙二醇(PG)的混合物。在一种典型的粗糙化工艺中，蚀刻剂含有例如6重量％的HF、5重量％的NH4F和25重量％的PG。将光泽基材部件垂直浸入蚀刻剂中8分钟，不进行机械搅动。随后，用DI水对粗糙化的部件进行简易冲洗，并将其浸入无机酸(例如3M的HCl)中5分钟，以除去难溶性淤渣。最后，在DI水中清洗部件。
化学抛光一种示例性的抛光蚀刻剂组合物可含有例如HF，且任选地混合有无机酸(例如H2SO4、HCl、HNO3或它们的混合物)。在一个典型的化学抛光步骤中，抛光蚀刻剂可含有例如2.5重量％的水性HF和1.5重量％的水性HCl，所述抛光蚀刻剂还可以1.45M的水性HF和0.6M的水性HCl的混合物存在。通过将经过粗糙化的光泽基材部件浸入抛光蚀刻剂不同时间(例如1至12分钟)，该部件能够实现不同(即有差异的)表面粗糙度、光泽度值、颜色、反射率或它们的组合中的至少一种。可例如通过在DI水中进行清洗来对经过抛光的部件进行清洁。
印刷方法使用标准喷墨印刷技术来将遮蔽物施加至光泽基材表面。替代地或附加地，还可通过例如丝网印刷、光刻法、涂绘、升华以及类似的方法或它们的组合来施加遮蔽物。
遮蔽物的除去在经过化学蚀刻(即，粗糙化)或化学抛光之后，可从光泽基材表面除去遮蔽物。在一些实施方式中，通过例如将被遮蔽的部件浸入丙酮中2分钟从而遮蔽物从光泽基材表面上脱离来除去遮蔽物。为了除去遮蔽物而选用的溶剂可取决于例如为了产生遮蔽物而选用的材料或涂层(例如油墨、粘合剂、涂料以及类似的材料或涂层)以及遮蔽物在该溶剂中的溶解性。
实施例
以下实施例展示了本文公开的经过装饰的制品的制造、使用和分析、以及按照上述一般程序进行的制造方法。
实施例1
生成双水平对比图像：在光泽基材表面上生成树叶和星星图案的演示为了实现双水平对比图像，在6重量％的HF/5重量％的NH4F/25重量％的丙二醇(PG)的混合物中对光泽基材组件进行8分钟的粗糙化。按照以下步骤对表面进行逐步清洁：在DI水中清洗；浸入3M的水性HCl中5分钟；以及在DI水中清洗。利用喷墨印刷在粗糙化的光泽基材表面上印刷“树叶”和“星星”的图像遮蔽物。随后，在2.5重量％的水性HF和1.5重量％的水性HCl的混合物中对被遮蔽的组件进行6分钟的抛光，并且在DI水中进行清洗。通过将组件浸入丙酮中2分钟来除去遮蔽物。设计和所实现的表面装饰示于图5A和5B中。利用干涉仪(Zygo公司)对化学抛光的深度进行表征，除去深度约为12微米。
本实施例提供了用于控制所得到的经过装饰的玻璃、玻璃-陶瓷或陶瓷材料或部件的颜色(外观)和表面粗糙度(即，触感)的化学策略的一般方法。
实施例2
生成三水平对比图像：在光泽基材表面上生成3D正方形(立方体)图案的演示使用了图4A中所例示的六个步骤方法。在对三个正方形区域中的每一个进行第一正方形或菱形遮蔽后，按照实施例1中的程序在6重量％的HF/5重量％的NH4F/25重量的PG的水性混合物中对光泽基材进行8分钟的化学粗糙化。随后，通过将粗糙化的组件部件浸入丙酮中2分钟来除去遮蔽物。随后对该部件进行清洁，并且在其它正方形或长斜方形区域上进行第二次遮蔽。随后，在2.5重量％的HF/1.5重量％的HCl的水性混合物中对经过第二次遮蔽或重新遮蔽的部件进行6分钟的化学抛光，并且用DI水进行清洁。通过在丙酮中浸没2分钟来除去第二遮蔽物。经过装饰的光泽基材组件的设计和最终外观分别示于图5C(模板)和5D(成品组件)中。
实施例3
具有较少改性剂的玻璃基材以及光泽基材粗糙化蚀刻剂在含有6重量％的氢氟酸和5重量％的水性氯化钾的水性混合物的蚀刻剂中对具有诸如小于5摩尔％这样的低百分比改性剂和被黑色油墨(参见下文)遮蔽的表面区域的玻璃板进行8分钟的蚀刻而成为哑光精整，以在未受到表面遮蔽物保护的玻璃区域中提供经过蚀刻的表面，所述改性剂例如为诸如K2O、Na2O、Li2O以及类似的氧化物或它们的混合物这样的碱金属氧化物，诸如MgO、CaO、SrO以及类似的氧化物或它们的混合物这样的碱土金属氧化物。测得蚀刻区域中的玻璃的表面粗糙度(Ra)约为300nm(例如267nm)。工艺流程与图4A中的类似，除了将步骤(425)中的粗糙化试剂替换为本实施例中的粗糙化试剂。
实施例4
白色玻璃陶瓷和主要是晶相的陶瓷可通过改变蚀刻剂的组成来控制光泽度水平。在特定蚀刻剂中对部件进行8分钟的蚀刻，以实现所需的光泽度水平和表面外观。图9显示了一种含有氟化铵和氢氟酸的水性蚀刻剂的光泽度60等值线图，其中氟化铵和氢氟酸的重量百分比标在图中的坐标轴上，这些组合物能够确定在选用的蚀刻时间间隔(例如约8分钟蚀刻)后的最终光泽度水平。通过使用本文公开的遮蔽和差异化蚀刻方法，能够实现具有多对比水平的图案化表面。本文公开的遮蔽和差异化蚀刻方法能够提供起始于不同灰度水平(例如白色、黑色和中间灰色水平的光谱)图案化的玻璃陶瓷材料。
在一些实施方式中，可通过使用不同的蚀刻剂来实现图9中所示的相同或相似的光泽度值。还可通过使用水性氢氟酸(例如0.1M至3M的水性HF(即，溶于水中的0.17至5重量％的HF))且任选地包含无机酸(例如H2SO4、HNO3、HCl以及类似的酸或它们的混合物(例如0.1M至3M的水性无机酸))蚀刻玻璃陶瓷材料来实现类似的光泽度水平。例如，使用含有溶于水中的1.5M的HF和0.9M的硫酸的蚀刻剂，可通过对白色陶瓷材料进行不同时间的蚀刻来实现不同的光泽度水平，如表3和图10中所总结的那样。
表3用于实现光泽度目标值而使用混合有1.5M的HF和0.9M的H2SO4的水性蚀刻剂。
试样 HF(M) H2SO4(M) 时间(分钟) 光泽度601
1 0 0 0 83.4
2 1.5 0.9 1 57.4
3 1.5 0.9 1 54.9
4 1.5 0.9 2 9.1
5 1.5 0.9 2 7
6 1.5 0.9 4 8.2
7 1.5 0.9 4 8.8
8 1.5 0.9 8 9.1
9 1.5 0.9 8 10.9
10 1.5 0.9 12 8.1
11 1.5 0.9 12 9.6
12 1.5 0.9 16 9.1
1.利用光泽计进行测量。
认为黑色油墨(购自太阳化学品公司(Sun Chemicals)的商业上被称为SQS黑的黑色油墨，其被用于制造黑色遮蔽物)包含40至70重量％的多官能丙烯酸盐、25至40重量％的N-乙烯基己内酰胺(n-vinylcaprolactam)、2.5至5重量％的氧化三甲基苯甲酰二苯基膦(trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide)和1至2.5重量％的丙烯酸十三烷基酯。
利用例如喷墨和固化来沉积该黑色油墨遮蔽物，且通过使遮蔽物溶解在合适的溶剂中来除去沉积和固化的黑色油墨遮蔽物。将被遮蔽和蚀刻的试样浸没于丙酮中1至3分钟。可使用其它溶剂来除去基材表面上的黑色油墨，但这会需要更长的浸泡时间。
在一些实施方式中，可进一步对用溶剂处理过的基材进行加热，以烧除残留的表面污染物。在一些实施方式中，用于白色玻璃陶瓷的烧除方法需要在空气中于600℃下进行至少一个小时的加热。对烧除温度进行选择，以使其足够高而能够烧除残留的有机物，但不会高至使玻璃陶瓷或形成的图像弯曲或扭曲，或者导致晶相变大或改变形貌。
在一些实施方式中，油墨是一种耐蚀刻材料，其在商业上被称为MacDermidCircuitJet 200UV喷墨耐蚀刻材料，购自麦德美电子解决方案公司(MacDermidElectronics Solutions)。
在一些实施方式中，遮蔽、化学粗糙化、除去遮蔽物以及基材清洁可包括例如：以例如25秒/部件施加耐蚀刻材料，例如MacDermid CircuitJet 200；进行例如10分钟/批的酸蚀刻；以例如5分钟/批使用例如MacDermid CircuitJet Stripper NP(N-甲基吡咯烷酮)或其它合适的有机溶剂或合适的有机溶剂的混合物来剥除耐蚀刻材料；以及用具有约3重量％的水性KOH的半清洁试剂来进行清洁。
在一些实施方式中，以下关于使用MacDermid Circuitjet遮蔽物材料和蚀刻程序的本文公开的基材装饰方法的备注是值得注意的。
印刷和固化耐蚀刻材料：展现出优异的印刷品质。未发现散落在周围的墨滴或断线。
蚀刻：过早地将一个或两个利用CircuitJet进行遮蔽的基材的试样组提出蚀刻浴中，起始于5分钟至10分钟的时间间隔，该组具有较高的线重量。第二组利用CircuitJet进行遮蔽的试样在蚀刻浴中在整个10分钟后幸存，且这些试样具有较高的线重量。
剥除：可利用MacDermid Circuit Stripper NP或诸如N-甲基吡咯烷酮(NMP)这样的有机溶剂来剥除或除去耐蚀刻材料(ER)。
清洁：使用半清洁清洁溶液(约3重量％的水性KOH)来除去遮蔽物。
所以，MacDermid Circuitjet遮蔽材料和方法可用于替代本文公开的方法。然而，厚度太薄的遮蔽物可过早地在蚀刻浴中脱离基材。
已经参考各种具体实施方式和技术描述了本公开。但是，应当理解，可以在本公开的范围内做出许多变化和改进。

Claims (22)

1.一种经过装饰的玻璃-陶瓷制品，其包含：
至少三种不同的光泽度对比区域，所述至少三种不同的光泽度对比区域具有至少三种光泽度水平，当从20度、60度或85度中的至少一种入射角度进行测量时，所述光泽度水平具有至少20单位的相对光泽度差异。
2.一种经过装饰的光泽制品，其包含：
基材，所述基材具有光泽外观和平滑表面纹理；以及
多个对比区域，所述多个对比区域位于所述基材的表面上，且包含：
第一哑光对比区域，所述第一哑光对比区域具有第一粗糙纹理，所述第一粗糙纹理具有第一粗糙度；以及
第二哑光对比区域，所述第二哑光区域具有第二粗糙纹理，所述第二粗糙纹理具有第二粗糙度，其中，所述第一粗糙度大于所述第二粗糙度。
3.一种经过装饰的哑光制品，其包含：
基材，所述基材具有第一哑光外观和具有第一粗糙度的第一粗糙表面纹理；以及
多个对比区域，所述多个对比区域位于所述基材的表面上，且包含：
第二哑光对比区域和具有第二粗糙度的第二粗糙纹理；以及
第三哑光对比区域和具有第三粗糙度的第三粗糙纹理，
其中，所述第一粗糙度小于所述第二粗糙度，且所述第二粗糙度不同于所述第一和第三粗糙度。
4.一种制造制品的方法，所述制品在能够进行化学蚀刻的原始基材的表面的至少一部分上具有美观的表面特征，所述美观的表面特征具有两种或更多种对比水平，所述方法包括：
在基材的原始表面区域的至少一部分上进行第一遮蔽，以形成局部遮蔽基材；
在所述遮蔽基材的未遮蔽的表面区域部分的至少一部分上进行第一化学粗糙化，以在所述遮蔽基材上生成哑光精整区域；
除去第一遮蔽物，以生成与所述原始表面区域和所述哑光精整区域形成对比的第一区域；
在所述哑光精整表面区域的至少一部分上进行第二遮蔽，以形成遮蔽哑光精整区域；
在未遮蔽的哑光精整区域的至少一部分上进行第一化学抛光，以生成第一抛光哑光精整区域；以及
除去第二遮蔽物，以生成与未遮蔽的原始表面区域、所述哑光精整表面区域以及所述抛光哑光精整区域形成对比的第二区域。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一遮蔽施加了耐蚀刻材料，所述耐蚀刻材料选自下组中的至少一种：蜡、聚合物、不溶于水的膜或涂层、能够UV固化的膜或涂层、粘合剂、层压层或它们的组合，且所述第一遮蔽通过喷墨印刷、丝网印刷、层压或它们的组合来将所述遮蔽物施加至所述表面。
6.如权利要求4或5所述的方法，其特征在于，所述第一化学粗糙化生成了具有哑光精整外观的粗糙化表面，且所述原始表面是基材，所述基材选自以下中的至少一种：光泽玻璃、光泽玻璃-陶瓷、光泽陶瓷或它们的组合。
7.如权利要求4～6中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一化学粗糙化包括用含有氢氟酸(HF)的蚀刻剂对原始表面基材进行蚀刻，从而生成表面粗糙度为200至1000nmRMS的粗糙化表面，且所述第一化学抛光包括以下中的至少一种：
对所述哑光精整表面进行抛光；
减小所述表面粗糙度；
改变所述原始表面的颜色；
或者上述各项的组合。
8.如权利要求4～7中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一化学抛光只改变所述哑光精整表面的视觉外观，而非所述原始表面的视觉外观。
9.如权利要求4～8中任一项所述的方法，其特征在于，通过在合适的有机溶剂中接触遮蔽的原始表面区域来完成所述第一遮蔽物的除去。
10.如权利要求4～9中任一项所述的方法，其特征在于，所述原始基材具有50微米至100毫米的厚度，所述原始基材具有选自平坦、弯曲或它们的组合的几何构型，且所产生的制品的强度相比于所述原始基材的强度未改变或者减小了0.1至20％。
11.如权利要求4～10中任一项所述的方法，其特征在于，与所述原始表面区域形成对比的所述第一区域、与所述原始表面区域形成对比的所述第二区域以及哑光精整区域各自具有5至25％的相对反射率差异。
12.如权利要求4～11中任一项所述的方法，其特征在于：
如果所述原始基材是黑色不透明的光泽陶瓷基材，则其具有90至99％的总反射率，包括0.001至20％的镜面部分，且具有0.001至20％的总透射率；
如果所述原始基材是白色不透明的光泽陶瓷基材，则其具有75至99％的总反射率，包括0.001至20％的镜面部分，且具有0.001至20％的总透射率；且
如果所述原始基材是灰色不透明的光泽陶瓷基材，则基材具有40至75％的总反射率，且具有0.001至20％的总透射率。
13.如权利要求4～12中任一项所述的方法，其特征在于，除去所述第二遮蔽物生成与所述原始表面区域和所述哑光精整区域形成对比的第二区域，且所得到的基材具有两种或更多种表面纹理，所述两种或更多种表面纹理各自具有相对于其它表面纹理为5至20％的光泽度差异。
14.如权利要求4～13中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一蚀刻在包含选自HF、NH4F、NH5F2、KF、NaF、KHF2、NaHF2或它们的组合的氟化酸的溶液中完成，且所述第一化学抛光在包含HF、无机酸、有机酸或它们的组合的溶液中完成。
15.如权利要求4～14中任一项所述的方法，其特征在于：
所述原始基材是具有80至100的光泽度值(光泽度85)和0.2nm RMS至10nm RMS的表面粗糙度的光泽基材；
所述哑光精整区域具有40至60的光泽度值(光泽度85)和10nm RMS至1000nm RMS的表面粗糙度；
所述第一对比区域具有80至100的光泽度值(光泽度85)和0.2nm RMS至100nm RMS的表面粗糙度；
所述第一化学抛光哑光精整区域具有40至60的光泽度值(光泽度85)和200nm RMS至1000nm RMS的表面粗糙度；且
所述第二对比区域具有10至30的光泽度值(光泽度85)和200nm RMS至小于所述第一化学抛光哑光精整区域的RMS的RMS的表面粗糙度，其中，所述第一化学抛光哑光精整区域的RMS为200nm RMS至1000nm RMS。
16.如权利要求4～15中任一项所述的方法，其特征在于，还包括以所列顺序一次或多次反复进行权利要求1的各步骤。
17.一种制品，其具有至少一个根据权利要求4～16中任一项所述的方法进行装饰的原始表面。
18.一种制造制品的方法，所述制品在能够进行化学蚀刻的哑光精整基材的表面的至少一部分上具有美观的表面特征，所述美观的表面特征具有两种或更多种对比水平，所述方法包括：
在所述哑光精整基材的所述表面区域的至少一部分上进行第一遮蔽，以形成局部遮蔽基材；
在所述遮蔽基材的未遮蔽的表面区域部分的至少一部分上进行第一化学抛光，以在所述局部遮蔽基材区域上生成第一化学抛光哑光精整基材区域；
除去第一遮蔽物，以生成与所述哑光精整基材区域和所述化学抛光哑光精整基材区域形成对比的第一区域；
在所述化学抛光哑光精整表面区域的至少一部分上进行第二遮蔽，以形成第二遮蔽哑光精整区域；
在未遮蔽的化学抛光哑光精整基材区域的至少一部分上进行第二化学抛光，以生成第二化学抛光哑光精整区域；以及
除去第二遮蔽物，以生成与未遮蔽的哑光精整基材表面区域、所述第一化学抛光哑光精整区域以及所述第一和第二化学抛光哑光精整区域形成对比的第二区域。
19.如权利要求18所述的方法，其特征在于，所述哑光精整基材具有50微米至100毫米的厚度，所述哑光精整基材具有选自平坦、弯曲或它们的组合的几何构型，且所产生的制品的强度相比于所述哑光精整的强度未改变或者减小了0.1至20％。
20.如权利要求18或19所述的方法，其特征在于，还包括以所列顺序一次或更多次反复进行权利要求15的各步骤。
21.如权利要求18～20中任一项所述的方法，其特征在于，所述方法生成至少两种不同的对比区域，每一种不同的对比区域具有不同的光泽度和不同的颜色性质。
22.一种制品，其具有至少一个根据权利要求18～21中任一项所述的方法进行装饰的哑光精整表面。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110958791A (zh) * 2018-09-27 2020-04-03 苹果公司 具有喷砂的表面纹理的钛部件
CN113646279A (zh) * 2019-03-29 2021-11-12 皮尔斯协议有限公司 玻璃蚀刻制备方法和系统

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10473829B2 (en) 2016-01-18 2019-11-12 Corning Incorporated Enclosures having an improved tactile surface
US11198639B2 (en) * 2016-06-13 2021-12-14 Corning Incorporated Multicolored photosensitive glass-based parts and methods of manufacture
KR102426299B1 (ko) * 2017-10-13 2022-07-27 후아웨이 테크놀러지 컴퍼니 리미티드 고강도 지문 방지 글라스, 그의 제조 방법, 고강도 지문 방지 글라스의 외부 부분, 및 그의 제조 방법
FR3072958B1 (fr) 2017-10-30 2022-05-06 Eurokera Article vitroceramique muni d'une couche et procede d'obtention
TWI821234B (zh) 2018-01-09 2023-11-11 美商康寧公司 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法
CN110049645B (zh) * 2019-04-10 2021-03-02 Oppo广东移动通信有限公司 电子设备壳体及其制作方法和电子设备
UA121010C2 (uk) * 2019-04-19 2020-03-10 Денисенко Олег Іванович Спосіб виготовлення виробу образотворчого та декоративного мистецтв
US11109500B2 (en) * 2019-06-05 2021-08-31 Apple Inc. Textured glass component for an electronic device enclosure
MX2020010622A (es) * 2019-06-25 2021-03-29 Yorglass Cam Sanayi Ve Ticaret Anonim Sirketi Sistema y metodo de produccion de vidrio mate o con efecto mate.
CN111285611B (zh) * 2020-02-17 2022-08-26 蓝思科技（长沙）有限公司 一种玻璃面板蒙砂工艺
US20220009824A1 (en) 2020-07-09 2022-01-13 Corning Incorporated Anti-glare substrate for a display article including a textured region with primary surface features and secondary surface features imparting a surface roughness that increases surface scattering
US20220256720A1 (en) * 2021-02-08 2022-08-11 Apple Inc. Electronic devices with textured zirconia-based components
KR20220129848A (ko) * 2021-03-17 2022-09-26 삼성전자주식회사 하우징을 포함하는 전자 장치 및 그의 제조 방법
EP4207961A4 (en) 2021-03-17 2024-04-10 Samsung Electronics Co., Ltd. ELECTRONIC DEVICE WITH HOUSING AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
CN113620610A (zh) * 2021-08-06 2021-11-09 安徽金龙浩光电科技有限公司 一种组合雾面效果的玻璃及其制备方法
KR20230043523A (ko) * 2021-09-24 2023-03-31 삼성전자주식회사 하우징을 포함하는 전자 장치 및 이를 제조하는 방법
WO2023101837A1 (en) * 2021-11-30 2023-06-08 Corning Incorporated Low warp chemically strengthened glass textured by modified laser and etching process
CN118219699A (zh) * 2022-12-20 2024-06-21 比亚迪股份有限公司 外观装饰件、外观装饰件的制作方法和电子设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5843546A (en) * 1996-04-09 1998-12-01 Glass Unlimited Of High Point, Inc. Sheet of glass with roughed band and groove pattern to provide decorative visual effect
US20120134025A1 (en) * 2010-11-30 2012-05-31 Shandon Dee Hart Anti-glare glass sheet having compressive stress equipoise and methods thereof
WO2014070859A1 (en) * 2012-10-30 2014-05-08 H. Lee Moffitt Cancer Center And Research Institute, Inc. Stat3 dimerization inhibitors

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3148994A (en) * 1962-06-20 1964-09-15 Corning Glass Works Glass-ceramic bodies and method of making
WO2006081006A2 (en) * 2004-12-21 2006-08-03 Corning Incorporated Light polarizing products and method of making same
JP2008529950A (ja) * 2005-02-18 2008-08-07 エージーシー フラット グラス ユーロップ エスエー ガラス物品表面の選択的エッチングのための方法
FR2894328B1 (fr) * 2005-12-05 2017-10-06 Eurokera Plaque vitroceramique transparente ou translucide et son procede de fabrication
US8598771B2 (en) * 2009-09-15 2013-12-03 Corning Incorporated Glass and display having anti-glare properties
JP6462579B2 (ja) * 2012-11-02 2019-01-30 コーニング インコーポレイテッド 不透明材料、着色材料および半透明材料をテクスチャー処理する方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5843546A (en) * 1996-04-09 1998-12-01 Glass Unlimited Of High Point, Inc. Sheet of glass with roughed band and groove pattern to provide decorative visual effect
US20120134025A1 (en) * 2010-11-30 2012-05-31 Shandon Dee Hart Anti-glare glass sheet having compressive stress equipoise and methods thereof
WO2014070859A1 (en) * 2012-10-30 2014-05-08 H. Lee Moffitt Cancer Center And Research Institute, Inc. Stat3 dimerization inhibitors

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110958791A (zh) * 2018-09-27 2020-04-03 苹果公司 具有喷砂的表面纹理的钛部件
US11493957B2 (en) 2018-09-27 2022-11-08 Apple Inc. Titanium parts having a blasted surface texture
CN113646279A (zh) * 2019-03-29 2021-11-12 皮尔斯协议有限公司 玻璃蚀刻制备方法和系统
CN113646279B (zh) * 2019-03-29 2023-04-11 皮尔斯协议有限公司 玻璃蚀刻制备方法和系统

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