CN107755343B - 用于全反射x射线荧光分析的石英玻璃基体的清洗方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于全反射X射线荧光分析的石英玻璃基体的清洗方法，包括如下步骤：获取清洗液：所述清洗液为高锰酸钾的硫酸溶液，其中高锰酸钾的浓度为4‑6wt％；清洗：将待清洗石英玻璃基体置于所述清洗液中，加热至沸腾，即可。上述石英玻璃基体的清洗方法适用于清洗试样中含有Cr元素的情况，可以在较短时间内去除包括Cr在内的各种残留元素，清洗时间短，元素去除效果好。
Description
技术领域
本发明涉及化学分析技术领域，特别是涉及一种用于全反射X射线荧光分析的石英玻璃基体的清洗方法。
背景技术
全反射X射线荧光分析通常使用石英玻璃基体作为样品的载体，由于全反射X射线荧光分析的技术优势在于检出限非常低，如果在石英玻璃基体表面存在元素污染或残留，将会对定性和定量分析产生非常显著影响，导致性能降低甚至误判。对于一般元素材料可以采用普通洗涤剂进行清洗，但水样中含有Cr元素时，直接烘干制膜后难以清除，采用稀硝酸短时间浸泡也存在残留，所需浸泡清洗时间较长。
因此，需要开发一种能够清洗石英玻璃基体上残留的Cr元素的清洗方法。
发明内容
基于此，本发明的目的是提供一种用于全反射X射线荧光分析的石英玻璃基体的清洗方法。
具体的技术方案如下：
一种用于全反射X射线荧光分析的石英玻璃基体的清洗方法，包括如下步骤：
获取清洗液：所述清洗液为高锰酸钾的硫酸溶液，其中高锰酸钾的浓度为4-6wt％；
清洗：将待清洗石英玻璃基体置于所述清洗液中，加热至沸腾，即可。
在其中一些实施例中，所述高锰酸钾的硫酸溶液中硫酸的体积浓度为8-12％。
在其中一些实施例中，所述清洗步骤中，所述石英玻璃基体于沸腾状态下的所述清洗液中清洗8-12min。
在其中一些实施例中，所述清洗步骤后，所述石英玻璃基体还使用去离子水进行清洗。
在其中一些实施例中，所述待清洗石英玻璃基体由如下步骤得到：于洁净的石英玻璃基体上滴加水样，烘干后所述水样形成试样，即得所述待清洗石英玻璃基体。
在其中一些实施例中，所述试样含有Cr元素。
上述石英玻璃基体的清洗方法适用于清洗试样中含有Cr元素的情况，可以在较短时间内去除包括Cr在内的各种残留元素，清洗时间短，元素去除效果好。
附图说明
图1为试样制备流程示意图；
图2为石英玻璃基体清洗示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明能够以很多不同于在此描述的其他方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
以下通过实施例对本申请做进一步阐述。
采用全反射X射线荧光分析水样的方法(流程示意图如图1所示)如下：
取待测水样，于洁净的石英玻璃基体上滴加水样，烘干后所述水样形成试样，然后用于全反射X射线荧光(TXRF)检测。
检测后的待清洗石英玻璃基体采用如下方法清洗：
本实施例一种用于全反射X射线荧光分析的石英玻璃基体的清洗方法，包括如下步骤：
获取清洗液：所述清洗液为高锰酸钾的硫酸溶液，其中高锰酸钾的浓度为4-6wt％，硫酸的体积浓度为8-12％；
清洗：将待清洗石英玻璃基体置于所述清洗液中(如图2所示)，加热至沸腾，所述石英玻璃基体于沸腾状态下的所述清洗液中清洗8-12min，即可。
所述清洗步骤后，所述石英玻璃基体还使用去离子水进行清洗。
采用上述石英玻璃基体的清洗方法，可以在较短时间内去除包括Cr在内的各种残留元素，清洗时间短，元素去除效果好。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (2)
1.一种用于全反射X射线荧光分析的石英玻璃基体的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：
获取清洗液：所述清洗液为高锰酸钾的硫酸溶液，其中高锰酸钾的浓度为4-6wt％；所述高锰酸钾的硫酸溶液中硫酸的体积浓度为8-12％；
清洗：将待清洗石英玻璃基体置于所述清洗液中，加热至沸腾，即可；
所述待清洗石英玻璃基体由如下步骤得到：于洁净的石英玻璃基体上滴加水样，烘干后所述水样形成试样，即得所述待清洗石英玻璃基体；
所述清洗步骤中，所述待清洗石英玻璃基体于沸腾状态下的所述清洗液中清洗8-12min；
所述试样含有Cr元素。
2.根据权利要求1所述的用于全反射X射线荧光分析的石英玻璃基体的清洗方法，其特征在于，所述清洗步骤后，所述石英玻璃基体还使用去离子水进行清洗。
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