CN107732028A - 一种amoled显示屏的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种AMOLED显示屏的制作方法，包括以下步骤：(1)对阵列基板进行刻蚀，在所述阵列基板上开设有贯穿所述阵列基板的两侧的接口电路槽；在所述基板上沉积第一金属层，在所述接口电路槽处形成接口电路区域，并对所述第一金属层进行刻蚀，在所述第一金属层上形成连接所述接口电路区域的走线；(2)在所述第一金属层上沉积平坦化层，并对所述平坦化层进行刻蚀，在所述平坦化层上开设第一通孔，使得所述第一通孔连通到所述第一金属层；(3)在边框胶固化前，在阵列基板背面边框胶以内的区域设置避光层；对设置有避光层的阵列基板进行照射，完成边框胶的固化；(4)在边框胶固化完成后，去除所述避光层。

Description

一种AMOLED显示屏的制作方法
技术领域
本发明涉及AMOLED技术领域，具体涉及一种AMOLED显示屏的制作方法。
背景技术
随着液晶显示技术的发展，具有高品质、低功耗、无辐射等优越性能的薄膜晶体管液晶显示器已成为市场主流。液晶屏主要是由彩膜基板和阵列基板构成，并在上述彩膜基板与阵列基板之间充满液晶，液晶周边使用边框胶进行封闭。在液晶显示器制造过程中，液晶屏的成盒工艺是液晶显示器制造过程中一个重要的步骤，该步骤包括：A在第一玻璃基板上涂布边框胶，B在第二玻璃基板上滴注液晶，C将第一玻璃基板和第二玻璃基板对盒，D使用UV光对对盒完成后的边框胶进行固化处理。在该工艺过程中，将粘稠状边框胶涂布在液晶盒周围，待边框胶凝固后即可将阵列基板和彩膜基板粘合在一起，并能使充满在两极板间的液晶不至于泄露。
在采用UV光进行边框胶固化照射过程中掩模板的对位精度较低，使得掩模板与边框胶之间的水平距离易控制，水平距离过小容易造成掩模板对边框胶的遮挡，影响边框胶的固化，水平距离过大UV光照射到边框胶以内有效显示区域的液晶，破坏有效显示区域内的液晶分子；掩模板与阵列基板之间垂直方向存在间隙，使得UV光可以通过一定的角度照射到边框胶以内有效显示区域的液晶，破坏有效显示区域内的液晶分子，从而影响显示屏的显示效果和合格率，并且由于现在对显示装置的要求越来越高，显示屏边框胶与有效显示区的距离越来越窄，因此UV光容易照射到边框胶以内的有效显示区域的问题越来越明显。
发明内容
本发明旨在提供了一种AMOLED显示屏的制作方法。
本发明提供如下技术方案：
一种AMOLED显示屏的制作方法，包括以下步骤：
(1)对阵列基板进行刻蚀，在所述阵列基板上开设有贯穿所述阵列基板的两侧的接口电路槽；在所述基板上沉积第一金属层，在所述接口电路槽处形成接口电路区域，并对所述第一金属层进行刻蚀，在所述第一金属层上形成连接所述接口电路区域的走线；
(2)在所述第一金属层上沉积平坦化层，并对所述平坦化层进行刻蚀，在所述平坦化层上开设第一通孔，使得所述第一通孔连通到所述第一金属层；
(3)在边框胶固化前，在阵列基板背面边框胶以内的区域设置避光层；对设置有避光层的阵列基板进行照射，完成边框胶的固化；
(4)在边框胶固化完成后，去除所述避光层。
所述避光层用于在对设置有避光层的阵列基板进行照射时对边框胶以内的区域进行遮光。
所述避光层的覆盖区域包括第一覆盖区和第二覆盖区，其中所述第一覆盖区与有效显示区相对应，所述第二覆盖区与有效显示区与边框胶之间的区域相对应。
所述避光层的材料为黑色正性光刻胶、黑色负性光刻胶或不透光的金属材料。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明通过在阵列基板背面边框胶以内的区域设置避光层，在边框胶固化过程中对照射向有效显示区的光进行有效地遮挡，从而有效避免了有效显示区域内液晶分子被UV光破坏，使有效显示区域内的液晶分子在边框胶固化过程中始终处于未被照射状态，提高了显示屏的显示效果和合格率，有益于显示屏窄边框的设计。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一种AMOLED显示屏的制作方法，包括以下步骤：
(1)对阵列基板进行刻蚀，在所述阵列基板上开设有贯穿所述阵列基板的两侧的接口电路槽；在所述基板上沉积第一金属层，在所述接口电路槽处形成接口电路区域，并对所述第一金属层进行刻蚀，在所述第一金属层上形成连接所述接口电路区域的走线；
(2)在所述第一金属层上沉积平坦化层，并对所述平坦化层进行刻蚀，在所述平坦化层上开设第一通孔，使得所述第一通孔连通到所述第一金属层；
(3)在边框胶固化前，在阵列基板背面边框胶以内的区域设置避光层；对设置有避光层的阵列基板进行照射，完成边框胶的固化；
(4)在边框胶固化完成后，去除所述避光层。
所述避光层用于在对设置有避光层的阵列基板进行照射时对边框胶以内的区域进行遮光。
所述避光层的覆盖区域包括第一覆盖区和第二覆盖区，其中所述第一覆盖区与有效显示区相对应，所述第二覆盖区与有效显示区与边框胶之间的区域相对应。
所述避光层的材料为黑色正性光刻胶、黑色负性光刻胶或不透光的金属材料。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (4)

1.一种AMOLED显示屏的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)对阵列基板进行刻蚀，在所述阵列基板上开设有贯穿所述阵列基板的两侧的接口电路槽；在所述基板上沉积第一金属层，在所述接口电路槽处形成接口电路区域，并对所述第一金属层进行刻蚀，在所述第一金属层上形成连接所述接口电路区域的走线；
(2)在所述第一金属层上沉积平坦化层，并对所述平坦化层进行刻蚀，在所述平坦化层上开设第一通孔，使得所述第一通孔连通到所述第一金属层；
(3)在边框胶固化前，在阵列基板背面边框胶以内的区域设置避光层；对设置有避光层的阵列基板进行照射，完成边框胶的固化；
(4)在边框胶固化完成后，去除所述避光层。
2.根据权利要求1所述的一种AMOLED显示屏的制作方法，其特征在于：所述避光层用于在对设置有避光层的阵列基板进行照射时对边框胶以内的区域进行遮光。
3.根据权利要求1所述的一种AMOLED显示屏的制作方法，其特征在于：所述避光层的覆盖区域包括第一覆盖区和第二覆盖区，其中所述第一覆盖区与有效显示区相对应，所述第二覆盖区与有效显示区与边框胶之间的区域相对应。
4.根据权利要求1所述的一种AMOLED显示屏的制作方法，其特征在于：所述避光层的材料为黑色正性光刻胶、黑色负性光刻胶或不透光的金属材料。
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