CN107687026A - 一种用于人工晶体生长的装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于人工晶体生长的装置，包括托盘、固设于托盘上的与其同轴分布的转轴、多个以托盘的轴心线为环绕中心的环设于托盘上的坩埚、用于驱动转轴绕自身轴心线方向转动的第一驱动机构、用于驱动多个坩埚分别绕自身轴心线方向转动的设于托盘上的第二驱动机构。本发明一种用于人工晶体生长的装置，通过设置第一驱动机构驱动托盘带动多个坩埚在热场中公转；同时通过设置第二驱动机构驱动多个坩埚在热场中自转，使各坩埚和坩埚各部位的受热情况保持均匀，提高了人工晶体的生长质量和生长效率。
Description
技术领域
本发明涉及人工晶体生长技术领域，特别涉及一种用于人工晶体生长的装置。
背景技术
下降法、热交换法、温度梯度法等人工晶体生长技术逐步向多坩埚方向发展。由于热场一般是固定的，各坩埚和坩埚的各部位的受热情况受热场的影响也是固定的。当热场不均匀时，各坩埚和坩埚各部位的受热情况则会相应的不均匀，影响人工晶体的生长质量。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于人工晶体生长的装置，使各坩埚和坩埚各部位的受热情况保持均匀，提高了人工晶体的生长质量和生长效率。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：
一种用于人工晶体生长的装置，包括托盘、固设于所述托盘上的与其同轴分布的转轴、多个以所述托盘的轴心线为环绕中心的环设于所述托盘上的坩埚、用于驱动所述转轴绕自身轴心线方向转动的第一驱动机构、用于驱动多个所述坩埚分别绕自身轴心线方向转动的设于所述托盘上的第二驱动机构。
优选地，所述第一驱动机构包括环设于所述转轴外侧周部的第一带轮、用于驱动所述第一带轮转动的第一电机。
优选地，所述第二驱动机构包括设于所述托盘上的与多个所述坩埚一一对应的同轴固定分布的第二带轮、张紧在多个所述第二带轮之间的用于带动多个所述第二带轮绕自身轴心线方向转动的第一传送带、设于所述托盘上的与其中一个所述第二带轮同轴固定分布的从动轮、设于所述托盘上的与所述从动轮通过第二传送带传动连接的主动轮、用于驱动所述主动轮绕自身轴心线方向转动的第二电机。
更优选地，所述第二带轮有八个，所述第一传送带沿多个所述第二带轮的排列方向依次张紧在相邻的一个所述第二带轮靠近所述环绕中心的一侧和相邻的另一个所述第二带轮远离所述环绕中心的一侧。
更优选地，所述第二电机设于所述转轴中。
更优选地，所述主动轮与所述转轴同轴分布。
优选地，所述装置还包括设于所述托盘上的用于罩设所述第二驱动机构的水冷防护罩。
优选地，所述装置包括安装座，所述转轴绕自身轴心线方向转动的设于所述安装座中。
由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：本发明一种用于人工晶体生长的装置，通过设置第一驱动机构驱动托盘带动多个坩埚在热场中公转；同时通过设置第二驱动机构驱动多个坩埚在热场中自转，使各坩埚和坩埚各部位的受热情况保持均匀，提高了人工晶体的生长质量和生长效率。
附图说明
附图1为本发明装置的结构示意图；
附图2为附图1沿KK线的剖视图。
其中：1、托盘；2、转轴；3、坩埚；4、第一带轮；5、第二带轮；6、第一传送带；7、从动轮；8、主动轮；9、第二电机；10、水冷防护罩；11、安装座；12、第二传送带。
具体实施方式
下面结合附图来对本发明的技术方案作进一步的阐述。
参见图1-2所示，上述一种用于人工晶体生长的装置，包括分布在水平面内的托盘1、固设于托盘1下方的与其同轴分布的转轴2、多个以托盘1的轴心线为环绕中心的环设于托盘1上的坩埚3、用于驱动转轴2绕自身轴心线方向转动的第一驱动机构、用于驱动多个坩埚3分别绕自身轴心线方向转动的设于托盘1上的第二驱动机构。在本实施例中，该转轴2和该坩埚3的轴心线方向均沿竖直方向分布。该装置还包括安装座11，该转轴2绕自身轴心线方向转动的设于该安装座11中。该转轴2和该安装座11之间设有轴承。
上述第一驱动机构包括固定的套设于该转轴2外侧周部的第一带轮4、用于驱动该第一带轮4转动的第一电机（图中未示出）。
上述第二驱动机构包括设于托盘1上的与多个坩埚3一一对应的同轴固定分布的第二带轮5、张紧在多个第二带轮5之间的用于带动多个第二带轮5绕自身轴心线方向转动的第一传送带6。在本实施例中，该第二带轮5有八个，对应的，坩埚3也有八个。
该第一传送带6可以环设于八个第二带轮5的外侧周部。在本实施例中，第一传送带6沿八个第二带轮5的排列方向依次张紧在相邻的一个第二带轮5靠近环绕中心的一侧和相邻的另一个第二带轮5远离环绕中心的一侧。
上述第二驱动机构还包括设于托盘1上的与其中一个第二带轮5同轴固定分布的从动轮7、设于托盘1上的与该从动轮7通过第二传送带12传动连接的主动轮8、用于驱动该主动轮8绕自身轴心线方向转动的第二电机9。该从动轮7和该主动轮8均绕自身轴心线方向转动的设于托盘1上，该主动轮8与该转轴2同轴分布。该第二电机9固设于转轴2中。
该装置还包括设于托盘1上的用于罩设第二驱动机构的水冷防护罩10。通过设置水冷防护罩10罩设第二带轮5、第一传送带6、主动轮8、从动轮7、第二传送带12，能够保证第二驱动机构在低温环境中运行，提高其使用寿命。
以下具体阐述下本实施例的工作过程：
启动第一电机，通过第一带轮4带动转轴2和托盘1转动，使得八个坩埚3在热场中公转；同时启动第二电机9，通过主动轮8带动从动轮7转动，从动轮7带动对应的第二带轮5在热场中自转，第二带轮5再通过第一传送带6带动其余的第二带轮5在热场中自转。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。
Claims (8)
1.一种用于人工晶体生长的装置，其特征在于：包括托盘、固设于所述托盘上的与其同轴分布的转轴、多个以所述托盘的轴心线为环绕中心的环设于所述托盘上的坩埚、用于驱动所述转轴绕自身轴心线方向转动的第一驱动机构、用于驱动多个所述坩埚分别绕自身轴心线方向转动的设于所述托盘上的第二驱动机构。
2.根据权利要求1所述的一种用于人工晶体生长的装置，其特征在于：所述第一驱动机构包括环设于所述转轴外侧周部的第一带轮、用于驱动所述第一带轮转动的第一电机。
3.根据权利要求1所述的一种用于人工晶体生长的装置，其特征在于：所述第二驱动机构包括设于所述托盘上的与多个所述坩埚一一对应的同轴固定分布的第二带轮、张紧在多个所述第二带轮之间的用于带动多个所述第二带轮绕自身轴心线方向转动的第一传送带、设于所述托盘上的与其中一个所述第二带轮同轴固定分布的从动轮、设于所述托盘上的与所述从动轮通过第二传送带传动连接的主动轮、用于驱动所述主动轮绕自身轴心线方向转动的第二电机。
4.根据权利要求3所述的一种用于人工晶体生长的装置，其特征在于：所述第二带轮有八个，所述第一传送带沿多个所述第二带轮的排列方向依次张紧在相邻的一个所述第二带轮靠近所述环绕中心的一侧和相邻的另一个所述第二带轮远离所述环绕中心的一侧。
5.根据权利要求3所述的一种用于人工晶体生长的装置，其特征在于：所述第二电机设于所述转轴中。
6.根据权利要求3所述的一种用于人工晶体生长的装置，其特征在于：所述主动轮与所述转轴同轴分布。
7.根据权利要求1所述的一种用于人工晶体生长的装置，其特征在于：所述装置还包括设于所述托盘上的用于罩设所述第二驱动机构的水冷防护罩。
8.根据权利要求1所述的一种用于人工晶体生长的装置，其特征在于：所述装置包括安装座，所述转轴绕自身轴心线方向转动的设于所述安装座中。
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| JPH0530155U (ja) * | 1991-09-30 | 1993-04-20 | 新明和工業株式会社 | 多点蒸発源装置 |
| CN101070608A (zh) * | 2006-12-29 | 2007-11-14 | 万尤宝 | 旋转多坩埚下降法晶体生长系统 |
| CN200978306Y (zh) * | 2006-11-22 | 2007-11-21 | 嘉兴学院 | 晶体生长系统中的可旋转多坩埚支撑装置 |
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