CN107606501A - 激光发光装置及其制备方法、激光照明系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提出了激光发光装置及其制备方法、激光照明系统。该激光发光装置包括：激光发光部件；玻璃层，该玻璃层设置在激光发光部件的发光面之上；以及荧光釉层，荧光釉层设置在玻璃层远离激光发光部件的一侧；其中，荧光釉层是由陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉组成的。本发明所提出的激光发光装置，其激光发光部件表面的玻璃层上形成有荧光釉层，该荧光釉层由陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉组成，具有低膨胀系数和耐高温的陶瓷釉可有效地保其内均匀分布的钇铝石榴石荧光粉，从而该荧光釉层可使激光发光装置具有高耐久性、高稳定性和高效性。
Description
技术领域
本发明涉及激光照明技术领域，具体的，本发明涉及激光发光装置及其制备方法、激光照明系统。
背景技术
现阶段，随着照明技术的飞速发展，各种各样的照明产品层出不穷。同时人们对视觉健康以及节能高效的要求也日益提高，人们不再仅仅局限于灯光效果的绚丽夺目以及价格低廉。现在市场覆盖率最广的发光二极管(LED)照明光源，也由于其蓝光含量高、发光寿命短以及发光效率低等劣势，逐渐开始受到市场冲击。所以，随着蓝光的激光二极管(LD)技术的日益成熟，其显著的激发荧光材料的高效率、高色域、蓝光含量少等突出特点受到人们的全面关注。并且，中村修二也预言将来LD光源将取代LED光源，这也越来越加深了人们对激光照明的信心。
只是，现阶段距离激光照明全面覆盖市场还有很大一段距离。具体的，由于激光呈高斯分布且激光的光密度很大，这就制约了普通荧光材料在LD光源中的使用，所以LD光源无法采用LED光源一样的环氧树脂混合荧光材料。并且，激光光源的温度较高则混合荧光材料易灼烧，还存在影响荧光激发效率的技术问题，从而使得替代环氧树脂的材料还需具有耐高温、耐烧灼且不会影响荧光激发效率的功能。
因此，现阶段的LD光源可采用的掺杂荧光材料的混合基材还有待研究。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
本发明是基于发明人的下列发现而完成的：
针对上述本申请的发明人在研究过程中，研制出一种可以耐高温、耐灼烧且不影响荧光激发效率的混合材料，该材料以陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉作为原料，在经过高温烧结处理后可在玻璃层表面形成耐久性好、稳定性高且高效性的荧光釉层；其中，作为组成荧光釉层的主要成分，陶瓷釉经过烧结处理后可在玻璃层表面形成均匀的荧光釉层，而其中的钇铝石榴石荧光粉可在荧光釉层中均匀分布的同时，还可被陶瓷釉保护而能耐受住激光光源的高温度，从而使该激光发光装置的耐久性好、稳定性高且发光效率高。
有鉴于此，本发明的一个目的在于提出一种耐久性好、稳定性高或者荧光发光效率高的激光发光装置。
在本发明的第一方面，本发明提出了一种激光发光装置。
根据本发明的实施例，所述激光发光装置包括：激光发光部件；玻璃层，所述玻璃层设置在所述激光发光部件的发光面之上；以及荧光釉层，所述荧光釉层设置在所述玻璃层远离所述激光发光部件的一侧；其中，所述荧光釉层是由陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉组成的。
发明人意外地发现，本发明实施例的激光发光装置，其激光发光部件表面的玻璃层上形成有荧光釉层，该荧光釉层由陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉组成，具有低膨胀系数和耐高温的陶瓷釉可有效地保其内均匀分布的钇铝石榴石荧光粉，从而该荧光釉层可使激光发光装置具有高耐久性、高稳定性和高效性。
另外，根据本发明上述实施例的激光发光装置，还可以具有如下附加的技术特征：
根据本发明的实施例，基于所述荧光釉层的总重量，所述陶瓷釉的含量为50～75w/w％，以及所述钇铝石榴石荧光粉的含量为25～50w/w％。
根据本发明的实施例，所述玻璃层由高硼硅玻璃组成的。
根据本发明的实施例，所述玻璃层的厚度为0.25～1.5mm，所述荧光釉层的厚度为0.5～2mm。
在本发明的第二方面，本发明提出了一种制备激光发光装置的方法。
根据本发明的实施例，所述方法包括：在玻璃层的表面形成荧光釉层，其中，进一步包括：(1)配制荧光釉浆，其中，所述荧光釉浆含有陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉；(2)在玻璃层的表面分布所述荧光釉浆；(3)将分布有所述荧光釉浆的所述玻璃层进行烧结处理，以便获得表面形成有所述荧光釉层的所述玻璃层。
发明人意外地发现，采用本发明实施例的制备方法，可在玻璃层的表面以陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉为原料烧结形成荧光釉层，该方法充分利用陶瓷釉的高透明性、高稳定性和烧结温度低的特点，且烧结过程中的温度比较低气且无需保护气体，从而可有效地解决钇铝石榴石荧光粉易被灼烧的问题，并且形成的荧光釉层具有耐高温、耐灼烧和不影响荧光激发效率的优点，进而使制备的激光发光装置具有高耐久性、高稳定性和高效性。本领域技术人员能够理解的是，前面针对激光发光装置所描述的特征和优点，仍适用于该制备激光发光装置的方法，在此不再赘述。
另外，根据本发明上述实施例的制备方法，还可以具有如下附加的技术特征：
根据本发明的实施例，所述陶瓷釉和所述钇铝石榴石荧光粉的质量比为(1～3):(1～2)。
根据本发明的实施例，所述荧光釉浆还含有水，且基于所述荧光釉浆的总重量，所述水的含量为50～75w/w％。
根据本发明的实施例，所述烧结处理的温度高于所述陶瓷釉的软化温度且低于所述玻璃层的软化温度。
根据本发明的实施例，所述烧结处理采用分段升温的方式。
在本发明的第三方面，本发明提出了一种激光照明系统。
根据本发明的实施例，所述激光照明系统包括上述的激光发光装置。
发明人意外地发现，本发明实施例的激光照明系统，由于其激光发光装置具有高耐久性、高稳定性和高效性，从而使得该激光照明系统的使用寿命更长、使用稳定性更好且激光发光效率更高。本领域技术人员能够理解的是，前面针对激光发光装置所描述的特征和优点，仍适用于该激光照明系统，在此不再赘述。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1是本发明一个实施例的激光发光装置的结构示意图；
图2是本发明另一个实施例的激光发光装置的结构示意图；
图3是本发明一个实施例的制备激光发光装置的方法流程图；
图4是本发明另一个实施例的制备激光发光装置的方法流程图；
图5是本发明一个实施例的制备方法中步骤S120的滴膜过程的示意图。
附图标记
100 激光发光部件
110 发光面
200 玻璃层
300 荧光釉层
310 荧光釉浆液滴
320 荧光釉浆层
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，本技术领域人员会理解，下面实施例旨在用于解释本发明，而不应视为对本发明的限制。除非特别说明，在下面实施例中没有明确描述具体技术或条件的，本领域技术人员可以按照本领域内的常用的技术或条件或按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可通过市购到的常规产品。
在本发明的一个方面，本发明提出了一种激光发光装置。参照图1～2，对本发明的激光发光装置进行详细的描述。
根据本发明的实施例，参照图1，该激光发光装置包括：激光发光部件100，玻璃层200以及荧光釉层300；其中，玻璃层200设置在激光发光部件100的发光面110之上；而荧光釉层300设置在玻璃层200远离激光发光部件100的一侧。而且，荧光釉层300是由陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉组成的。需要说明的是，本文中“陶瓷釉”具体是指常用于附着在陶瓷胚体表面的含有碱金属和碱土金属氧化物的原料，其主要成分为SiO2-B2O3-ZnO；而本文中钇铝石榴石(YAG)荧光粉的主要原料是氧化铝与氧化钇，以及少量的氧化铈。
本申请的发明人在研究过程中，研制出一种可以耐高温、耐灼烧且不影响荧光激发效率的混合材料，该材料以陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉作为原料，在经过高温烧结处理后可在玻璃层表面形成耐久性好、稳定性高且高效性的荧光釉层；其中，作为组成荧光釉层的主要成分，陶瓷釉经过烧结处理后可在玻璃层表面形成均匀的荧光釉层，而其中的钇铝石榴石荧光粉可在荧光釉层中均匀分布的同时，还可被陶瓷釉保护而能耐受住激光光源的高温度，从而使该激光发光装置的耐久性好、稳定性高且发光效率高。
根据本发明的实施例，陶瓷釉的具体种类不受特别的限制，只要该陶瓷釉的软化温度低于荧光粉的淬灭温度即可，本领域技术人员可根据该激光发光部件实际的发光温度和荧光粉的具体淬灭温度进行筛选。在本发明的一些实施例中，陶瓷釉可以采用低温陶瓷釉。需要说明的是，本文中的“低温陶瓷釉”具体是指烧成温度低于1120℃的陶瓷釉。如此，采用低温陶瓷釉形成的荧光釉层，可更好地保护钇铝石榴石荧光粉不会被激光的高温烧灼掉，且该荧光釉层更耐高温、更耐灼烧且更不会影响荧光激发的效率。
根据本发明的实施例，荧光釉层300中陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉的具体含量，都不受特别的限制，本领域技术人员可根据该激光发光装置实际的发光温度和钇铝石榴石荧光粉的耐温性进行选择和调整。在本发明的一些实施例中，基于荧光釉层的总重量，陶瓷釉的含量可以为50～75w/w％，以及钇铝石榴石荧光粉的含量可以为25～50w/w％。如此，在上述含量范围内的陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉，可使荧光釉层同时具有更好的耐高温性、更好的耐灼烧性以及更不会影响荧光激发效率的效果。
根据本发明的实施例，荧光釉层300的具体厚度不受特别的限制，只要该厚度的荧光釉层300含有充足的钇铝石榴石荧光粉即可，本领域技术人员可根据荧光釉层300中钇铝石榴石荧光粉的具体含量和该激光发光装置的实际发光效果进行调整。在本发明的一些实施例中，荧光釉层300的厚度可以为0.5～2mm。如此，采用上述厚度的荧光釉层300，可是该激光发光装置具有更好的荧光激发效率效果。
根据本发明的实施例，玻璃层200的具体材料不受特别的限制，本领域技术人员可根据激光发光部件100实际的发光温度和激光发光装置的具体使用要求进行选择。在本发明的一些实施例中，玻璃层200可以是由高硼硅玻璃组成的，需要说明的是，本文中高硼硅玻璃的主要成分为Si-B-Zn。如此，采用高硼硅玻璃组成的玻璃层200，具有更高的耐高温性、硬度、透光率和化学稳定性以及更低的膨胀系数，从而可使该激光发光装置的使用寿命更长且使用稳定性更好。
根据本发明的实施例，玻璃层200的具体厚度不受特别的限制，本领域技术人员可根据该激光发光装置的具体使用要求进行设计和调整。在本发明的一些实施例中，玻璃层200的厚度可以为0.25～1.5mm。如此，采用上述厚度的玻璃层200，可使该激光发光装置的使用寿命更长且使用稳定性更好。
根据本发明的实施例，玻璃层200的具体形状不受特别的限制，本领域技术人员可根据激光发光部件100实际的具体形状相应地进行设计，在此不再赘述。根据本发明的实施例，玻璃层200与激光发光部件100的具体位置关系也不受特别的限制，本领域技术人员可根据该激光发光装置的实际使用要求进行设计。在本发明的一些实施例中，参考图1，玻璃层200可以直接设置在激光发光部件100的发光面110上，如此，激光发光部件100发射出的激光可直接穿过玻璃层200并激发玻璃层200上表面的荧光釉层中的荧光粉，这样荧光激发的总效果更好。在本发明的另一些实施例中，参考图2，玻璃层200可以不完全覆盖激光发光部件100的发光面110，只要玻璃层200设置在发光面110之上即可，而玻璃层200与激光发光部件100之间也可以增设其他层结构，来增加该激光发光装置的功能性。
根据本发明的实施例，激光发光部件100的具体类型不受特别的限制，本领域内常用的激光发光部件种类均可，只要该激光发光部件100能发出激光即可，本领域技术人员可根据该激光发光装置的具体使用要求进行选择。在本发明的一些实施例中，激光发光部件100可以为蓝光激光发光部件，如此，发出的蓝色激光可激发荧光釉层300中的钇铝石榴石荧光粉，从而使该激光发光装置发出白光。
根据本发明的实施例，激光发光部件100的具体结构也不受特别的限制，本领域内常用的激光发光部件结构均可，本领域技术人员可根据该激光发光装置的具体使用要求进行设计，在此不再赘述。
根据本发明的实施例，激光发光装置的具体类型受特别的限制，具体例如激光二极管(LD)灯泡、LD远光灯，等等，本领域技术人员可根据该激光发光装置的实际使用环境进行选择和设计，在此不再赘述。
综上所述，根据本发明的实施例，本发明提出了一种激光发光装置，其激光发光部件表面的玻璃层上形成有荧光釉层，该荧光釉层由陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉组成，具有低膨胀系数和耐高温的陶瓷釉可有效地保其内均匀分布的钇铝石榴石荧光粉，从而该荧光釉层可使激光发光装置具有高耐久性、高稳定性和高效性。
在本发明的另一个方面，本发明提出了一种制备激光发光装置的方法。根据本发明的实施例，参照图3，该方法可以包括：
S100：在玻璃层的表面形成荧光釉层。
在该步骤中，可在玻璃层200的一侧表面形成荧光釉层200。根据本发明的实施例，参考图4，步骤S100可进一步具体包括S110、S120和S130，下面分别对步骤S110～130进行描述：
S110：配制荧光釉浆。
在该步骤中，配制出荧光釉浆，其中，荧光釉浆含有陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉。
根据本发明的实施例，荧光釉浆中陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉的具体配比，不受特别的限制，本领域技术人员可根据配制荧光釉浆的实际情况和烧结处理后荧光釉层的具体性能进行调整。在本发明的一些实施例，陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉的质量比可以为(1～3):(1～2)。如此，可使制备出的荧光釉层同时具有更好的耐高温、更好的耐灼烧以及更不影响荧光激发效率的效果。
根据本发明的实施例，荧光釉浆中还可以含有溶剂，来充分溶解并混合均匀陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉。根据本发明的实施例，荧光釉浆中溶剂的具体类型不受特别的限制，只要该溶剂的沸点低于陶瓷釉的软化温度即可，本领域技术人员可根据陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉的溶解性进行选择。在本发明的一些实施例中，荧光釉浆中的溶剂可以选择水，且基于荧光釉浆的总重量，水的含量可以为50～75w/w％。如此，以水作为溶剂，可更好地溶解陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉，并且水的沸点更低，在烧结处理的过程中可完全挥发而不会残留在荧光釉层中，更环保高效。
S120：在玻璃层的表面分布荧光釉浆。
在该步骤中，在玻璃层200的一侧表面分布上述配置好的荧光釉浆。根据本发明的实施例，在玻璃层200表面分布荧光釉浆的具体方法不受特别的限制，只要该方法能在玻璃层200表面均匀分布荧光釉浆即可，具体例如滴膜法、旋涂法或者浸渍法，等等，本领域技术人员可根据实际的制备条件进行选择。在本发明的一些实施例中，参考图5，可采用胶头滴取混合均匀的荧光釉浆310并点滴在玻璃层200上，由于表面张力的作用，荧光釉浆320可自然地均匀布满整个玻璃层200的表面。如此，可快速高效地在玻璃层200的表面分布荧光釉浆320，该方法操作简单，环保简便。
根据本发明的实施例，在分布荧光釉浆的步骤之前，还可预先对玻璃层的表面经过酒精擦拭进行去渍处理。如此，在光洁的玻璃层200的表面更容易形成厚度均匀的荧光釉浆，在经过烧结处理，有利于含有陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉的厚度均匀且表面形貌规整的荧光釉层300.
S130：将分布有荧光釉浆的玻璃层进行烧结处理。
在该步骤中，将分布有荧光釉浆的玻璃层100放入高温炉中进行烧结处理，以便获得表面形成有荧光釉层300的玻璃层200。根据本发明的实施例，烧结处理的温度需要高于陶瓷釉的软化温度且低于玻璃层的软化温度。如此，在玻璃层的表面固化形成荧光釉层300的强度更高。
根据本发明的实施例，烧结处理的具体工艺参数，具体例如温度范围、保温时间和升温速率等，都不受特别的限制，本领域技术人员可根据烧结处理过程的实际情况和首节后形成的荧光釉层300的性能进行工艺优化。在本发明的一些实施例中，申请人选择了分段升温的方式。具体的，第一阶段选定低于100摄氏度的温度，当高温炉的温度升到第一阶段温度后，保温5～10分钟；随后，第二阶段选定低于陶瓷釉软化温度的温度，当高温炉的温度升到第二阶段温度后，保温5～10分钟；再将第三阶段选定高于陶瓷釉软化温度的温度，当高温炉的温度升到第三阶段温度后，保温5～10分钟；最后，将第四阶段的温度选定为陶瓷釉的工作温度，当高温炉的温度升到第四阶段温度后，保温5～10分钟；停止加热，将产品随炉冷却至室温，再取出可获得表面形成有荧光釉层300的玻璃层200。其中，各个阶段的具体温度，本领域技术人员可进行微调。如此，可获得厚度更均匀、表面形貌更规整且耐高温性能更好的荧光釉层300。
需要说明的是，该制备方法除了步骤S100以外，还包括其他必要的步骤，具体例如激光发光部件的制备、玻璃层与激光发光部件的固定，等等，本领域技术人员可根据该激光发光部件的具体结构进行设计和补充。在本发明的一些实施例中，参考图2，该制备方法还可进一步包括：
S200：提供激光发光部件，并将表面形成有荧光釉层的玻璃层固定到激光发光部件上。
在该步骤中，提供激光发光部件100，并将步骤S100获得的表面形成有荧光釉层300的玻璃层200与该激光发光部件100进行固定，以便获得激光发光装置。
根据本发明的实施例，提供激光发光部件100的具体方法不受特别的限制，本领域技术人员可根据该激光发光部件100的具体结构进行设计，在此不再赘述。根据本发明的实施例，将表面形成有荧光釉层300的玻璃层200与该激光发光部件100进行固定的具体方法，也不受特别的限制，本领域技术人员可根据玻璃层200与激光发光部件100的具体的固定方法，也不受特别的限制，本领域技术人员可根据玻璃层200与激光发光部件100的具体固定方式进行相应地选择，在此不再赘述。
综上所述，根据本发明的实施例，本发明提出了一种制备激光发光装置的方法，可在玻璃层的表面以陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉为原料烧结形成荧光釉层，该方法充分利用陶瓷釉的高透明性、高稳定性和烧结温度低的特点，且烧结过程中的温度比较低气且无需保护气体，从而可有效地解决钇铝石榴石荧光粉易被灼烧的问题，并且形成的荧光釉层具有耐高温、耐灼烧和不影响荧光激发效率的优点，进而使制备的激光发光装置具有高耐久性、高稳定性和高效性。本领域技术人员能够理解的是，前面针对激光发光装置所描述的特征和优点，仍适用于该制备激光发光装置的方法，在此不再赘述。
在本发明的另一个方面，本发明提出了一种激光照明系统。根据本发明的实施例，该激光照明系统包括上述的激光发光装置。
根据本发明的实施例，激光照明系统的具体类型不受特别的限制，本领域内常用的激光照明系统均可，本领域技术人员可根据该激光照明系统的具体使用要求进行选择，在此不再赘述。需要说明的是，该激光照明系统出了激光发光装置以外，还包括其他必要的装置和组成，具体例如电路、开关控制装置、电源或外壳，等等，本领域技术人员可根据该激光照明系统的设计进行补充，在此不再赘述。
综上所述，根据本发明的实施例，本发明提出了一种激光照明系统，由于其激光发光装置具有高耐久性、高稳定性和高效性，从而使得该激光照明系统的使用寿命更长、使用稳定性更好且激光发光效率更高。本领域技术人员能够理解的是，前面针对激光发光装置所描述的特征和优点，仍适用于该激光照明系统，在此不再赘述。
下面参考具体实施例，对本发明进行描述，需要说明的是，这些实施例仅是描述性的，而不以任何方式限制本发明。
实施例1
在该实施例中，制备激光发光装置中的玻璃层表面的荧光釉层。具体的，按照下述步骤进行制备：
1、将低温陶瓷釉、YAG荧光粉与水按1:1:2的质量比均匀混合，保证混合后的荧光釉浆整体有一定的流动性，同时用酒精擦拭玻璃层200的表面，去除表面污渍。参考图5，采用胶头滴取混合均匀的荧光釉浆310并点滴在玻璃层200上，待荧光釉浆320均匀布满整个玻璃层200的表面；
2、再将均匀分布有荧光釉浆320的玻璃层200，置于高温炉中进行烧结处理；并采用分段升温方法，先将温度设定为60℃，待温度稳定后保持5分钟，再将温度设定为500℃，待温度稳定后保持10分钟，然后将温度设定为550℃，待温度稳定后保持5分钟，最后将温度设定为600℃，待温度稳定后保持10分钟，待固化完成后静置，待自然冷却后取出成品。其中低温陶瓷釉以及玻璃基片参数如下表所示：
表1低温陶瓷釉和玻璃层的性能参数
| 材料 | 软化温度 | 工作温度 | 主要成分 |
| 低温陶瓷釉 | 550℃ | 560℃-850℃ | SiO2-B2O3-ZnO |
| 玻璃层 | 680℃ | / | Si-B-Zn |
该实施例的在玻璃层表面形成的荧光釉层，可对荧光釉层进行X射线衍射分析(XRD)，分析结果表明该荧光釉层表面保留了荧光粉的原始晶相；还可对荧光釉层进行光谱分析，而分析结果显示发射谱峰值波长为545nm、激发谱峰值波长为450nm，表明该荧光釉层与荧光粉胶体具有相同的发射谱峰值波长545nm不变。所以，从XRD和光谱的分析结果可知，该荧光釉层可以取代现有的荧光粉胶体使用。
实施例2
在该实施例中，按照与实施例1基本相同的方法和条件，制备激光发光装置中的玻璃层表面的荧光釉层。区别在于，在该实施例中：
1、低温陶瓷釉、YAG荧光粉以及水按2:1:2的质量比进行混合。
该实施例的在玻璃层表面形成的荧光釉层，可对荧光釉层进行X射线衍射分析(XRD)，分析结果表明该荧光釉层表面保留了荧光粉的原始晶相；还可对荧光釉层进行光谱分析，而分析结果显示发射谱峰值波长为545nm、激发谱峰值波长为450nm，表明该荧光釉层与荧光粉胶体具有相同的发射谱峰值波长545nm不变。所以，从XRD和光谱的分析结果可知，该荧光釉层可以取代现有的荧光粉胶体使用。
实施例3
在该实施例中，按照与实施例1基本相同的方法和条件，制备激光发光装置中的玻璃层表面的荧光釉层。区别在于，在该实施例中：
1、低温陶瓷釉、YAG荧光粉以及水按3:1:12的质量比进行混合。
该实施例的在玻璃层表面形成的荧光釉层，可对荧光釉层进行X射线衍射分析(XRD)，分析结果表明该荧光釉层表面保留了荧光粉的原始晶相；还可对荧光釉层进行光谱分析，而分析结果显示发射谱峰值波长为545nm、激发谱峰值波长为450nm，表明该荧光釉层与荧光粉胶体具有相同的发射谱峰值波长545nm不变。所以，从XRD和光谱的分析结果可知，该荧光釉层可以取代现有的荧光粉胶体使用。
总结
综合实施例1～3可得出，本发明所提出的制备激光发光装置的方法，可在玻璃层的表面以陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉为原料烧结形成荧光釉层，该方法充分利用陶瓷釉的高透明性、高稳定性和烧结温度低的特点，且烧结过程中的温度比较低气且无需保护气体，从而可有效地解决钇铝石榴石荧光粉易被灼烧的问题，并且形成的荧光釉层具有耐高温、耐灼烧和不影响荧光激发效率的优点，进而使制备的激光发光装置具有高耐久性、高稳定性和高效性。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种激光发光装置，其特征在于，包括：
激光发光部件；
玻璃层，所述玻璃层设置在所述激光发光部件的发光面之上；以及
荧光釉层，所述荧光釉层设置在所述玻璃层远离所述激光发光部件的一侧；
其中，所述荧光釉层是由陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉组成的。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，基于所述荧光釉层的总重量，
所述陶瓷釉的含量为50～75w/w％，以及
所述钇铝石榴石荧光粉的含量为25～50w/w％。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述玻璃层由高硼硅玻璃组成的。
4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，
所述玻璃层的厚度为0.25～1.5mm，
所述荧光釉层的厚度为0.5～2mm。
5.一种制备激光发光装置的方法，其特征在于，包括：
在玻璃层的表面形成荧光釉层，其中，进一步包括：
(1)配制荧光釉浆，其中，所述荧光釉浆含有陶瓷釉和钇铝石榴石荧光粉；
(2)在玻璃层的表面分布所述荧光釉浆；
(3)将分布有所述荧光釉浆的所述玻璃层进行烧结处理，以便获得表面形成有所述荧光釉层的所述玻璃层。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述陶瓷釉和所述钇铝石榴石荧光粉的质量比为(1～3):(1～2)。
7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述荧光釉浆还含有水，且基于所述荧光釉浆的总重量，所述水的含量为50～75w/w％。
8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述烧结处理的温度高于所述陶瓷釉的软化温度且低于所述玻璃层的软化温度。
9.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述烧结处理采用分段升温的方式。
10.一种激光照明系统，其特征在于，包括权利要求1～4任一项所述的激光发光装置。
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