CN107604326B - 溅射镀膜机与溅射镀膜方法 - Google Patents

溅射镀膜机与溅射镀膜方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107604326B
CN107604326B CN201710818909.1A CN201710818909A CN107604326B CN 107604326 B CN107604326 B CN 107604326B CN 201710818909 A CN201710818909 A CN 201710818909A CN 107604326 B CN107604326 B CN 107604326B
Authority
CN
China
Prior art keywords
exposure mask
frame shape
mask piece
several
boss
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710818909.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107604326A (zh
Inventor
谭伟
姜亮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority to CN201710818909.1A priority Critical patent/CN107604326B/zh
Priority to PCT/CN2017/114482 priority patent/WO2019052024A1/zh
Publication of CN107604326A publication Critical patent/CN107604326A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107604326B publication Critical patent/CN107604326B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供一种溅射镀膜机及溅射镀膜方法。本发明的溅射镀膜机采用绑定的方式将掩膜片绑定在承载装置上,并在掩膜片的四周设置紧固拉紧装置,既能达到从四周对掩膜片进行固定的目的,也能达到拉紧展平的目的,对掩膜片的拉紧展平效果能达到现有的掩膜板张网机的拉紧展平效果,紧固拉紧装置及掩膜片上均设有凹凸结构,对掩膜片进行固定时不会出现侧滑的现象,由于掩膜片与承载装置之间为可拆卸连接,因此需要对掩膜片进行保养或更换时可以随时拆装掩膜片,操作简单,不需要对作为外框的承载装置进行再加工,能够提高掩膜片的更换效率,降低溅射镀膜的生产成本。本发明的溅射镀膜方法利用上述溅射镀膜机进行镀膜,镀膜质量好,且镀膜成本低。

Description

溅射镀膜机与溅射镀膜方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种溅射镀膜机与溅射镀膜方法。
背景技术
随着显示技术的发展,液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点,而被广泛地应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品,成为显示装置中的主流。
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示器,也称为有机电致发光显示器,是一种新兴的平板显示装置,由于其具有制备工艺简单、成本低、功耗低、发光亮度高、工作温度适应范围广、体积轻薄、响应速度快,而且易于实现彩色显示和大屏幕显示、易于实现和集成电路驱动器相匹配、易于实现柔性显示等优点,因而具有广阔的应用前景。
液晶显示器与有机电致发光显示器的制作过程均涉及镀膜制程,这使得溅射镀膜机广泛应用于液晶显示器与有机电致发光显示器的镀膜制程中,许多成膜制程(如OLED阴极与TP(Touch Panel,触摸屏)消影层的成膜制程)不需要整个基板都成膜,而是需要沉积特定形状的膜层,且图案不能用黄光及其它制程来完成,这就需要溅射镀膜时使用金属掩膜板(MASK)来沉积所需的膜层图案。
目前的磁控溅射机用掩膜板包括掩膜片(MASK sheet)和外框(Frame),其制作方式是先使用掩膜板张网机使所述掩膜片拉紧展平再通过焊接的方式将掩膜片固定到外框上,制作成完整的掩膜板,然后将掩膜板安装到溅射镀膜设备的承载装置(Carrier)上,用螺丝固定,使用一段时间定期拆下掩膜板进行保养清洗或更换新的掩膜板。
掩膜板使用过程中需定期对其进行清洗以保证产品质量,而溅射镀膜的镀层一般为金属氧化物,清洗难度大,多次清洗使用后的掩膜板需将掩膜片撕掉更换新的掩膜片,由于现行的掩膜板制作工艺通常采用焊接的方式将掩膜片固定在外框上,因此每次更换掩膜片时都需要对外框进行再加工(rework),即对外框上的焊接位置进行打磨加工,以保证外框的平坦度及与掩膜片再次焊接的可靠性,而打磨会导致外框厚度减薄,因此再加工多次后外框必须报废,由于外框的再加工及报废换新的成本均较高,从而导致溅射镀膜的成本增加。
发明内容
本发明的目的在于提供一种溅射镀膜机,采用绑定的方式将掩膜片绑定在承载装置上,需要对掩膜片进行保养或更换时可以随时拆装掩膜片,操作简单,不需要对作为外框的承载装置进行再加工,能够提高掩膜片的更换效率,降低溅射镀膜的生产成本。
本发明的目的还在于提供一种溅射镀膜方法,利用上述溅射镀膜机进行镀膜,镀膜质量好,且镀膜成本低。
为实现上述目的,本发明提供一种溅射镀膜机,包括:
轨道;
设于所述轨道上并可沿所述轨道移动的承载装置,所述承载装置包括框形基板、从所述框形基板的内侧与所述框形基板相连的框形凸台、及位于所述框形凸台内侧的框形开口;所述框形基板上设有分布于所述框形凸台四周的数个沟槽;
靶材,与所述框形开口相对应;
与所述数个沟槽的数量相对应的数个紧固拉紧装置,所述紧固拉紧装置包括可沿所述沟槽移动的滑块、穿过所述滑块内的螺纹孔与其螺纹连接的螺杆、与所述滑块的上表面相配合的压片、及数个螺丝;所述螺杆的一端抵靠于所述框形凸台的外表面上;所述滑块的上表面的形状与所述压片的下表面的形状相配合;所述数个螺丝用于将所述压片与所述滑块固定在一起;
数个压条,所述压条具有与所述框形凸台的上表面相配合的形状,其用于在掩膜片被拉紧展平后与所述框形凸台配合,将掩膜片固定于所述压条与框形凸台之间。
所述沟槽垂直于所述框形凸台的外表面,所述沟槽从所述框形凸台的外表面起始并朝远离所述框形凸台的方向延伸;
所述框形凸台的外表面设有限制机构,所述螺杆的一端固定于该限制机构内,所述限制机构限制所述螺杆的运动方式,使所述螺杆可以转动但不能沿沟槽移动。
所述承载装置还包括与所述框形基板底面相连的凸块,所述凸块的形状与所述轨道的形状相配合;
所述框形凸台的顶表面高于所述滑块的上表面。
所述框形凸台的上表面具有靠近所述框形开口一侧的框形凸起,所述压条具有与所述框形凸起相配合的形状;
所述滑块的上表面设有第一凹槽和第一凸起,所述压片的下表面上设有分别与所述第一凹槽和第一凸起相对应的第二凸起和第二凹槽。
所述螺杆远离所述框形凸台的一端设有手柄。
本发明还提供一种溅射镀膜方法,包括:
提供上述溅射镀膜机与掩膜片;所述掩膜片具有与所述滑块的上表面及所述压片的下表面相配合的形状;同时所述掩膜片上设有多个开口图案,所述多个开口图案对应于所述承载装置的框形开口内设置;
将所述掩膜片绑定于所述溅射镀膜机的承载装置上,具体步骤包括:
将所述掩膜片铺设于所述框形凸台及数个滑块上;
将数个压片对应于所述数个滑块放置于所述掩膜片上,所述压片的下表面的形状、掩膜片的形状及滑块的上表面的形状相配合;
采用数个螺丝将数个压片分别与数个滑块固定在一起;
分别转动数个螺杆,转动的过程中保持所述数个螺杆的一端抵靠于所述框形凸台的外表面上,即保持所述数个螺杆的位置不动,此时所述数个滑块分别沿数个沟槽朝远离所述框形凸台的方向移动,使所述掩膜片朝四周被拉紧,所述掩膜片位于所述框形凸台及框形开口上的部分被拉紧展平;
将数个压条分别对应于所述框形凸台的四边放置于所述掩膜片上并压紧,使所述掩膜片固定于所述压条与框形凸台之间,完成掩膜片在承载装置上的绑定;
提供待镀膜基板,将所述待镀膜基板放置于所述掩膜片上对应于数个压条内侧的区域,使所述承载装置沿所述轨道移动并从靶材上方经过,所述承载装置从靶材上方经过的过程中,从靶材上溅射出来的材料从所述框形开口进入所述掩膜片的数个开口图案中,最终沉积到所述待镀膜基板上形成具有图案的薄膜。
所述掩膜片的材料为因瓦合金。
所述滑块的上表面设有第一凹槽和第一凸起,所述压片的下表面上设有分别与所述第一凹槽和第一凸起相对应的第二凸起和第二凹槽;所述掩膜片具有与所述第一凹槽和第二凸起相对应的第三凹陷部以及与所述第一凸起和第二凹槽相对应的第三凸起部;所述压片、掩膜片及滑块压合在一起时,所述第一凹槽、第二凸起及第三凹陷部相配合,所述第一凸起、第二凹槽及第三凸起部相配合,使得所述掩膜片被压合并固定于所述压片与滑块之间。
所述掩膜片上的第三凹陷部与第三凸起部采用冲压方式形成。
在掩膜片的绑定过程中,同时转动位于掩膜片的相对两侧的紧固拉紧装置中的螺杆,使掩膜片两侧的滑块同时朝远离框形凸台的方向移动,使掩膜片的两侧同时被拉紧。
本发明的有益效果:本发明的溅射镀膜机采用绑定的方式将掩膜片绑定在承载装置上,并在掩膜片的四周设置紧固拉紧装置,既能达到从四周对掩膜片进行固定的目的,也能达到拉紧展平的目的,对掩膜片的拉紧展平效果能达到现有的掩膜板张网机的拉紧展平效果且不需要使用掩膜板张网机,紧固拉紧装置及掩膜片上均设有凹凸结构,对掩膜片进行固定时不会出现侧滑的现象,由于掩膜片与承载装置之间的连接方式为可拆卸连接,因此需要对掩膜片进行保养或更换时可以随时拆装掩膜片,操作简单,不需要对作为外框的承载装置进行再加工,能够提高掩膜片的更换效率,降低溅射镀膜的生产成本。本发明的溅射镀膜方法利用上述溅射镀膜机进行镀膜,镀膜质量好,且镀膜成本低。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中,
图1为本发明的溅射镀膜机绑定掩膜片前的俯视示意图;
图2为图1的溅射镀膜机的剖视示意图;
图3为本发明的溅射镀膜机绑定掩膜片后的结构示意图;
图4为本发明的溅射镀膜机中的紧固拉紧装置绑定掩膜片后的剖视示意图;
图5为绑定于本发明的溅射镀膜机中的掩膜片的俯视示意图;
图6为绑定于本发明的溅射镀膜机中的掩膜片的侧视示意图;
图7为本发明的溅射镀膜方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1至图6,本发明提供一种溅射镀膜机,包括:
轨道10;
设于所述轨道10上并可沿所述轨道10移动的承载装置20,所述承载装置20包括框形基板21、从所述框形基板21的内侧与所述框形基板21相连的框形凸台22、及位于所述框形凸台22内侧的框形开口23;所述框形基板21上设有分布于所述框形凸台22四周的数个沟槽215;
靶材30,与所述框形开口23相对应;
与所述数个沟槽215的数量相对应的数个紧固拉紧装置40,所述紧固拉紧装置40包括可沿所述沟槽215移动的滑块41、穿过所述滑块41内的螺纹孔与其螺纹连接的螺杆42、与所述滑块41的上表面相配合的压片43、及数个螺丝44;所述螺杆42的一端抵靠于所述框形凸台22的外表面上;所述滑块41的上表面的形状与所述压片43的下表面的形状相配合;所述数个螺丝44用于将所述压片43与所述滑块41固定在一起;
数个压条50,所述压条50具有与所述框形凸台22的上表面相配合的形状,其用于在掩膜片60被拉紧展平后与所述框形凸台22配合,将掩膜片60固定于所述压条50与框形凸台22之间。
具体地,本发明的溅射镀膜机是在传统的溅射镀膜机的基础上进行的改进,所述承载装置20在传统的溅射镀膜机中用作待镀膜基板的承载机构,在溅射镀膜过程中所述承载装置20沿轨道10移动,并在移动的过程中完成镀膜制程。
优选地,所述框形基板21与框形凸台22一体成型。
具体地,所述螺丝44为螺钉。
具体地,所述沟槽215垂直于所述框形凸台22的外表面,所述沟槽215从所述框形凸台22的外表面起始并朝远离所述框形凸台22的方向延伸。
具体地,所述框形凸台22的外表面设有限制机构(未图示),所述螺杆42的一端固定于该限制机构内,所述限制机构限制所述螺杆42的运动方式,使所述螺杆42可以转动但不能沿沟槽215移动。
具体地,所述承载装置20还包括与所述框形基板21底面相连的凸块25,所述凸块25的形状与所述轨道10的形状相配合。
具体地,所述框形凸台22的顶表面高于所述滑块41的上表面,从而可以使数个紧固拉紧装置40中的数个滑块41分别在较低位置从掩膜片60的四条边对其进行拉紧,使掩膜片60位于所述框形凸台22及框形开口23上的部分被拉紧展平。
具体地,所述框形凸台22的上表面具有靠近所述框形开口23一侧的框形凸起221,所述压条50具有与所述框形凸起221相配合的形状。
具体地,如图4所示,所述滑块41的上表面设有第一凹槽411和第一凸起412,所述压片43的下表面上设有分别与所述第一凹槽411和第一凸起412相对应的第二凸起431和第二凹槽432;在对掩膜片60进行拉紧展平的过程中,所述掩膜片60被压合于所述滑块41与压片43之间,即固定于所述滑块41上,当所述数个紧固拉紧装置40中的滑块41均朝远离所述框形凸台22的方向移动时,所述掩膜片60的四周均被朝外拉紧,从而使所述掩膜片60中央位于所述框形凸台22及框形开口23上的部分被拉紧展平。
优选地,所述滑块41在所述框形基板21上的垂直投影面积与所述压片43在所述框形基板21上的垂直投影面积相同。
具体地,所述螺杆42远离所述框形凸台22的一端设有手柄425,以方便操作人员通过旋拧手柄425来转动螺杆42。
本发明的溅射镀膜机采用绑定的方式将掩膜片60绑定在承载装置20上,并在掩膜片60的四周设置紧固拉紧装置40,既能达到从四周对掩膜片60进行固定的目的,也能达到拉紧展平的目的,对掩膜片60的拉紧展平效果能达到现有的掩膜板张网机的拉紧展平效果且不需要使用掩膜板张网机,紧固拉紧装置40及掩膜片60上均设有凹凸结构,对掩膜片60进行固定时不会出现侧滑的现象,由于掩膜片60与承载装置20之间的连接方式为可拆卸连接,因此需要对掩膜片60进行保养或更换时可以随时拆装掩膜片60,操作简单,不需要对作为外框的承载装置20进行再加工,能够提高掩膜片60的更换效率,降低溅射镀膜的生产成本。
请参阅图7,同时参阅图1至图6,基于上述溅射镀膜机,本发明还提供一种溅射镀膜方法,包括:
步骤1、提供上述溅射镀膜机与掩膜片60;所述掩膜片60具有与所述滑块41的上表面及所述压片43的下表面相配合的形状;同时所述掩膜片60上设有多个开口图案65,所述多个开口图案65对应于所述承载装置20的框形开口23内设置;
将所述掩膜片60绑定于所述溅射镀膜机的承载装置20上,具体步骤包括:
将所述掩膜片60铺设于所述框形凸台22及数个滑块41上;
将数个压片43对应于所述数个滑块41放置于所述掩膜片60上,所述压片43的下表面的形状、掩膜片60的形状及滑块41的上表面的形状相配合;
采用数个螺丝44将数个压片43分别与数个滑块41固定在一起;
分别转动数个螺杆42,转动的过程中保持所述数个螺杆42的一端抵靠于所述框形凸台22的外表面上,即保持所述数个螺杆42的位置不动,此时所述数个滑块41分别沿数个沟槽215朝远离所述框形凸台22的方向移动,使所述掩膜片60朝四周被拉紧,所述掩膜片60位于所述框形凸台22及框形开口23上的部分被拉紧展平;
将数个压条50分别对应于所述框形凸台22的四边放置于所述掩膜片60上并压紧,使所述掩膜片60固定于所述压条50与框形凸台22之间,完成掩膜片60在承载装置20上的绑定。
步骤2、提供待镀膜基板(未图示),将所述待镀膜基板放置于所述掩膜片60上对应于数个压条50内侧的区域,使所述承载装置20沿所述轨道10移动并从靶材30上方经过,所述承载装置20从靶材30上方经过的过程中,从靶材30上溅射出来的材料从所述框形开口23进入所述掩膜片60的数个开口图案65中,最终沉积到所述待镀膜基板上形成具有图案的薄膜。
具体地,所述掩膜片60的材料为因瓦合金(invar),该材料具有较高的机械强度,使得所述掩膜片60足以支撑所述待镀膜基板。具体的,所述待镀膜基板通常为玻璃基板。
具体地,所述掩膜片60的厚度为2μm。
具体地,如图4所示,所述滑块41的上表面设有第一凹槽411和第一凸起412,所述压片43的下表面上设有分别与所述第一凹槽411和第一凸起412相对应的第二凸起431和第二凹槽432;所述掩膜片60具有与所述第一凹槽411和第二凸起431相对应的第三凹陷部61以及与所述第一凸起412和第二凹槽432相对应的第三凸起部62;所述压片43、掩膜片60及滑块41压合在一起时,所述第一凹槽411、第二凸起431及第三凹陷部61相配合,所述第一凸起412、第二凹槽432及第三凸起部62相配合,使得所述掩膜片60被压合并固定于所述压片43与滑块41之间。
具体地,所述掩膜片60上的第三凹陷部61与第三凸起部62采用冲压方式形成。
具体地,在掩膜片60的绑定过程中,同时转动位于掩膜片60的相对两侧的紧固拉紧装置40中的螺杆42,使掩膜片60两侧的滑块41同时朝远离框形凸台22的方向移动,使掩膜片60的两侧同时被拉紧,避免仅从一侧拉紧造成掩膜片60被拉偏。
具体地,在掩膜片60被紧固拉紧装置40拉紧展平后,通过压条50对掩膜片60进行进一步固定,可以保证掩膜片60的位置固定并使得掩膜片60上设有开口图案65的区域持久保持拉紧展平状态。
在溅射镀膜制程中,表面不够平整的掩膜片与待镀膜基板之间会产生缝隙,导致出现镀膜图案大于掩膜片上的开口图案的情形,本发明在采用紧固拉紧装置40对掩膜片60进行拉紧展平后,又采用压条50对掩膜片60进行进一步固定,使得掩膜片60上位于压条50内侧的区域极为平整,在所述掩膜片60上放置待镀膜基板后,待镀膜基板与掩膜片60紧密贴合不留任何缝隙,避免出现镀膜图案大于掩膜片60上的开口图案65的情形,提高镀膜质量。
本发明的溅射镀膜方法利用上述溅射镀膜机将掩膜片60绑定在承载装置20上,并在掩膜片60的四周设置紧固拉紧装置40,既能达到从四周对掩膜片60进行固定的目的,也能达到拉紧展平的目的,对掩膜片60的拉紧展平效果能达到现有的掩膜板张网机的拉紧展平效果且不需要使用掩膜板张网机,紧固拉紧装置40及掩膜片60上均设有凹凸结构,对掩膜片60进行固定时不会出现侧滑的现象,由于掩膜片60与承载装置20之间的连接方式为可拆卸连接,因此需要对掩膜片60进行保养或更换时可以随时拆装掩膜片60,操作简单,不需要对作为外框的承载装置20进行再加工,能够提高掩膜片60的更换效率,降低溅射镀膜的生产成本。
综上所述,本发明提供一种溅射镀膜机及溅射镀膜方法。本发明的溅射镀膜机采用绑定的方式将掩膜片绑定在承载装置上,并在掩膜片的四周设置紧固拉紧装置,既能达到从四周对掩膜片进行固定的目的,也能达到拉紧展平的目的,对掩膜片的拉紧展平效果能达到现有的掩膜板张网机的拉紧展平效果且不需要使用掩膜板张网机,紧固拉紧装置及掩膜片上均设有凹凸结构,对掩膜片进行固定时不会出现侧滑的现象,由于掩膜片与承载装置之间的连接方式为可拆卸连接,因此需要对掩膜片进行保养或更换时可以随时拆装掩膜片,操作简单,不需要对作为外框的承载装置进行再加工,能够提高掩膜片的更换效率,降低溅射镀膜的生产成本。本发明的溅射镀膜方法利用上述溅射镀膜机进行镀膜,镀膜质量好,且镀膜成本低。
以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种溅射镀膜机,其特征在于,包括:
轨道(10);
设于所述轨道(10)上并可沿所述轨道(10)移动的承载装置(20),所述承载装置(20)包括框形基板(21)、从所述框形基板(21)的内侧与所述框形基板(21)相连的框形凸台(22)、及位于所述框形凸台(22)内侧的框形开口(23);所述框形基板(21)上设有分布于所述框形凸台(22)四周的数个沟槽(215);
靶材(30),与所述框形开口(23)相对应;
与所述数个沟槽(215)的数量相对应的数个紧固拉紧装置(40),所述紧固拉紧装置(40)包括可沿所述沟槽(215)移动的滑块(41)、穿过所述滑块(41)内的螺纹孔与其螺纹连接的螺杆(42)、与所述滑块(41)的上表面相配合的压片(43)、及数个螺丝(44);所述螺杆(42)的一端抵靠于所述框形凸台(22)的外表面上;所述滑块(41)的上表面的形状与所述压片(43)的下表面的形状相配合;所述数个螺丝(44)用于将所述压片(43)与所述滑块(41)固定在一起;
数个压条(50),所述压条(50)具有与所述框形凸台(22)的上表面相配合的形状,其用于在掩膜片(60)被拉紧展平后与所述框形凸台(22)配合,将掩膜片(60)固定于所述压条(50)与框形凸台(22)之间。
2.如权利要求1所述的溅射镀膜机,其特征在于,所述沟槽(215)垂直于所述框形凸台(22)的外表面,所述沟槽(215)从所述框形凸台(22)的外表面起始并朝远离所述框形凸台(22)的方向延伸;
所述框形凸台(22)的外表面设有限制机构,所述螺杆(42)的一端固定于该限制机构内,所述限制机构限制所述螺杆(42)的运动方式,使所述螺杆(42)可以转动但不能沿沟槽(215)移动。
3.如权利要求1所述的溅射镀膜机,其特征在于,所述承载装置(20)还包括与所述框形基板(21)底面相连的凸块(25),所述凸块(25)的形状与所述轨道(10)的形状相配合;
所述框形凸台(22)的顶表面高于所述滑块(41)的上表面。
4.如权利要求1所述的溅射镀膜机,其特征在于,所述框形凸台(22)的上表面具有靠近所述框形开口(23)一侧的框形凸起(221),所述压条(50)具有与所述框形凸起(221)相配合的形状;
所述滑块(41)的上表面设有第一凹槽(411)和第一凸起(412),所述压片(43)的下表面上设有分别与所述第一凹槽(411)和第一凸起(412)相对应的第二凸起(431)和第二凹槽(432)。
5.如权利要求1所述的溅射镀膜机,其特征在于,所述螺杆(42)远离所述框形凸台(22)的一端设有手柄(425)。
6.一种溅射镀膜方法,其特征在于,包括:
提供如权利要求1所述的溅射镀膜机与掩膜片(60);所述掩膜片(60)具有与所述滑块(41)的上表面及所述压片(43)的下表面相配合的形状;同时所述掩膜片(60)上设有多个开口图案(65),所述多个开口图案(65)对应于所述承载装置(20)的框形开口(23)内设置;
将所述掩膜片(60)绑定于所述溅射镀膜机的承载装置(20)上,具体步骤包括:
将所述掩膜片(60)铺设于所述框形凸台(22)及数个滑块(41)上;
将数个压片(43)对应于所述数个滑块(41)放置于所述掩膜片(60)上,所述压片(43)的下表面的形状、掩膜片(60)的形状及滑块(41)的上表面的形状相配合;
采用数个螺丝(44)将数个压片(43)分别与数个滑块(41)固定在一起;
分别转动数个螺杆(42),转动的过程中保持所述数个螺杆(42)的一端抵靠于所述框形凸台(22)的外表面上,即保持所述数个螺杆(42)的位置不动,此时所述数个滑块(41)分别沿数个沟槽(215)朝远离所述框形凸台(22)的方向移动,使所述掩膜片(60)朝四周被拉紧,所述掩膜片(60)位于所述框形凸台(22)及框形开口(23)上的部分被拉紧展平;
将数个压条(50)分别对应于所述框形凸台(22)的四边放置于所述掩膜片(60)上并压紧,使所述掩膜片(60)固定于所述压条(50)与框形凸台(22)之间,完成掩膜片(60)在承载装置(20)上的绑定;
提供待镀膜基板,将所述待镀膜基板放置于所述掩膜片(60)上对应于数个压条(50)内侧的区域,使所述承载装置(20)沿所述轨道(10)移动并从靶材(30)上方经过,所述承载装置(20)从所述靶材(30)上方经过的过程中,从靶材(30)上溅射出来的材料从所述框形开口(23)进入所述掩膜片(60)的数个开口图案(65)中,最终沉积到所述待镀膜基板上形成具有图案的薄膜。
7.如权利要求6所述的溅射镀膜方法,其特征在于,所述掩膜片(60)的材料为因瓦合金。
8.如权利要求6所述的溅射镀膜方法,其特征在于,所述滑块(41)的上表面设有第一凹槽(411)和第一凸起(412),所述压片(43)的下表面上设有分别与所述第一凹槽(411)和第一凸起(412)相对应的第二凸起(431)和第二凹槽(432);所述掩膜片(60)具有与所述第一凹槽(411)和第二凸起(431)相对应的第三凹陷部(61)以及与所述第一凸起(412)和第二凹槽(432)相对应的第三凸起部(62);所述压片(43)、掩膜片(60)及滑块(41)压合在一起时,所述第一凹槽(411)、第二凸起(431)及第三凹陷部(61)相配合,所述第一凸起(412)、第二凹槽(432)及第三凸起部(62)相配合,使得所述掩膜片(60)被压合并固定于所述压片(43)与滑块(41)之间。
9.如权利要求8所述的溅射镀膜方法,其特征在于,所述掩膜片(60)上的第三凹陷部(61)与第三凸起部(62)采用冲压方式形成。
10.如权利要求6所述的溅射镀膜方法,其特征在于,在掩膜片(60)的绑定过程中,同时转动位于掩膜片(60)的相对两侧的紧固拉紧装置(40)中的螺杆(42),使掩膜片(60)两侧的滑块(41)同时朝远离框形凸台(22)的方向移动,使掩膜片(60)的两侧同时被拉紧。
CN201710818909.1A 2017-09-12 2017-09-12 溅射镀膜机与溅射镀膜方法 Active CN107604326B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710818909.1A CN107604326B (zh) 2017-09-12 2017-09-12 溅射镀膜机与溅射镀膜方法
PCT/CN2017/114482 WO2019052024A1 (zh) 2017-09-12 2017-12-04 溅射镀膜机与溅射镀膜方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710818909.1A CN107604326B (zh) 2017-09-12 2017-09-12 溅射镀膜机与溅射镀膜方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107604326A CN107604326A (zh) 2018-01-19
CN107604326B true CN107604326B (zh) 2019-03-12

Family

ID=61063381

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710818909.1A Active CN107604326B (zh) 2017-09-12 2017-09-12 溅射镀膜机与溅射镀膜方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN107604326B (zh)
WO (1) WO2019052024A1 (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109848278B (zh) * 2018-11-21 2021-01-01 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Iqc设备及金属掩膜片的展平方法
CN109913803A (zh) * 2019-03-19 2019-06-21 中国科学院兰州化学物理研究所 一种图案化电阻薄膜电热元器件的制备方法
CN110184565A (zh) * 2019-05-27 2019-08-30 江苏壹光科技有限公司 Oled蒸镀掩模板
CN112030128A (zh) * 2020-08-21 2020-12-04 中国科学院西安光学精密机械研究所 一种用于Sagnac型干涉仪组件的镀膜夹具
CN115537751A (zh) * 2021-06-29 2022-12-30 鑫天虹(厦门)科技有限公司 遮蔽机构及具有遮蔽机构的薄膜沉积腔体
CN116083842A (zh) * 2023-01-03 2023-05-09 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2013150699A1 (ja) * 2012-04-05 2015-12-17 ソニー株式会社 マスク調整ユニット、マスク装置及びマスクの製造装置及び製造方法
CN103668050A (zh) * 2012-09-07 2014-03-26 昆山允升吉光电科技有限公司 一种掩模组件的组装方法
CN202913047U (zh) * 2012-09-07 2013-05-01 昆山允升吉光电科技有限公司 一种掩模框架及其对应的蒸镀用掩模组件
KR102106331B1 (ko) * 2013-07-08 2020-05-06 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 이의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
WO2019052024A1 (zh) 2019-03-21
CN107604326A (zh) 2018-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107604326B (zh) 溅射镀膜机与溅射镀膜方法
CN106591776B (zh) 精细掩膜板及其制作方法
CN102262319A (zh) 液晶显示基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器
CN101097334B (zh) 液晶显示板及其制造方法
CN110273124A (zh) 一种掩膜板及其制作方法
US20180207677A1 (en) Vacuum evaporation apparatus
CN103777407B (zh) 一种液晶显示器装置及其制作方法
CN205556762U (zh) 掩膜板、母板、掩膜板制造设备和显示基板蒸镀系统
CN109166976A (zh) 显示面板、掩膜板、显示面板的制作方法及显示装置
US20170010490A1 (en) Display substrate, display panel and display device
CN103981485B (zh) 掩膜板及其制造方法
CN107858645B (zh) 金属掩膜板
CN105088135A (zh) Oled材料真空热蒸镀用掩膜板
CN110158028A (zh) 一种掩膜板及其制作方法
CN103197472A (zh) 一种液晶面板的制备方法
CN206721352U (zh) 一种掩膜板
CN107462944B (zh) 一种金属光栅的制作方法、金属光栅及显示装置
CN109065596A (zh) 阵列基板、显示面板及显示装置
TWI629770B (zh) Method for separating flexible display from carrier substrate
CN110164948B (zh) 一种像素界定层、制作方法和显示面板
US20210207257A1 (en) Mask sheet, mask plate and assembling method thereof
KR101002185B1 (ko) 대면적 oled 제조용 와이어 마스크 및 와이어 마스크의고정 방법
CN201072478Y (zh) 一种真空对盒设备中的静电吸附板及真空对盒设备
CN104238820A (zh) 直接在cg上拉丝显示色彩立体效果的工艺及其产品
CN108728790A (zh) Amoled用金属掩膜板的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant