CN107422615A - 曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种曝光机控制方法，所述曝光机控制方法包括：当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。本发明提供的控制方法具有提高曝光机生产效率的优点。本发明还提供了一种曝光机控制方法系统及一种存储介质。

Description

曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质

技术领域

本发明涉及曝光设备领域，具体涉及一种曝光机控制方法、曝光机控制系统及存储介质。

背景技术

现有技术中，曝光及显影的生产工艺包括如下步骤：清洗玻璃基板，涂布上光阻，烘烤，进入曝光机，然后利用光罩在玻璃基板上对光阻定义图形，最后经过显影制程显示图形。当上一批玻璃基板流出曝光机，下一批玻璃基板进入曝光机时，根据玻璃基板的信息，系统选择与之相对应的光罩，即，此时，需要更换光罩。将原来的光罩搬移走，新的光罩从曝光机的储槽位移动至工作位，完成光罩的更换。当光罩更换完毕之后曝光机才能正常运行。然而，当光罩的更换没有完成，下一批玻璃基板就进入曝光机时，就会导致曝光机死机，降低生产效率。

发明内容

本发明实施例提供了一种曝光机控制方法及曝光机控制系统，具有提高曝光机生产效率的优点。

本发明实施例提供一种曝光机控制方法，所述曝光机控制方法包括如下步骤：

当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；

所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；

当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。

本发明实施例还提供一种曝光机控制系统，所述曝光机控制系统包括：

监控模块，用于当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；

判断模块，用于所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；

传送模块，用于当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，将所述待处理基板送进所述曝光机；

等待模块，用于处理当所述曝光机内的所述光罩未更换完成时，则将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外；

曝光模块，用于当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。

本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质，其特征在于，其存储用于电子数据交换的计算机程序，其中，所述计算机程序被执行时，执行上述提供的所述的方法。

本发明实施例还提供一种计算机程序产品，所述计算机程序产品包括存储了计算机程序的非瞬时性计算机可读存储介质，所述计算机程序可操作来使计算机执行上述提供的方法。

实施本发明实施例，具有如下有益效果：

本发明实施例的曝光机控制系统，在待处理基板进入曝光机之前，对曝光机内的光罩更换进行判断，通过判断曝光机内的光罩是否完成，从而决定是否将待处理基板送进曝光机曝光，当判断出曝光机内的光罩更换完成，则执行将待处理基板送进曝光机的动作，否则，不对待处理基板作任何操作。换言之，光罩是否更换完成不会受到待处理基板进入的影响，从而不会导致系统接收指令出错，降低了死机的概率，提高了曝光机的生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种曝光机控制方法的流程示意图。

图2是本发明实施例提供的一种曝光机控制系统的结构框图。

图3是本发明实施例提供的另一种曝光机控制系统的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明的说明书和权利要求书及所述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”和“第四”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

为解决上述操作的不足的问题，本发明提出了一种曝光机控制方法，具体的，在本实施例中，该方法如图1所示，包括：

步骤S101，当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换。

上述步骤S101中的监控信号可以通过终端发送，该监控信号可以为移动通信的消息，也可以为计算机指令，在实际应用中，该监控信号还可以通过笔记本电脑或计算机接收。

其中，所述终端可以包括智能手机(如Android手机、iOS手机、Windows Phone手机等)、平板电脑、掌上电脑、笔记本电脑、移动互联网设备(MID，Mobile Internet Devices)或穿戴式设备等，上述终端仅是举例，而非穷举，包含但不限于上述终端。

其中，所述预设距离指的是待处理基板的当前位置与曝光机的基板入口之间的距离。

步骤S102，所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成。

其中，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成可以采用图像识别的方法，具体的，就是在曝光机内设置若干个监控摄像头对所述光罩进行拍照，实时将获取的图像传递到终端设备，当摄像头监控到已经用完的光罩被移出曝光机外，并且新的光罩从储槽位移动至工作位时，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换，此时，待曝光机出口关闭后就可以将待处理基板送进曝光机内。

可选的，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成还可以采用红外感应的方法，在曝光机内部设置若干个红外感应探头，监控目标位置的光罩变化情况，当红外感应探头检测到已经用完的光罩被移除曝光机外，同时红外感应探头检测到新的光罩从储槽位移动至工作位时，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换，此时，待曝光机出口关闭后就可以将待处理基板送进曝光机内。

可选的，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成还可以采用重力传感器的方法，在曝光机内的光罩工作位上安装重力传感器，当重力传感器检测到光罩工作位上有重量变化时，可以认为此时正在进行光罩的更换动作，然后间隔预设时间之后，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换，此时，待曝光机出口关闭后就可以将待处理基板送进曝光机内。

可选的，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成还可以采用运动传感器的方法，在曝光机内部设置若干个运动传感器，用于检测目标光罩的运动轨迹，当运动传感器检测到已经用完的旧的光罩的运动轨迹是移动至曝光机出口，并且运动传感器检测到新的光罩的运动轨迹是移动至光罩工作位，则认为所述曝光机内的所述光罩完成更换，此时，待曝光机出口关闭后就可以将待处理基板送进曝光机内。

步骤S103，当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。

其中，当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，默认此时的曝光机出口会自动关闭，然后就可以将待处理基板送进曝光机内。

可选的，曝光机出口关闭的方式可以是自动的，自动关闭曝光机出口的方式可以为：图像识别技术，传感器技术，红外识别技术等等，上述自动关闭曝光机出口的方式仅是举例，而非穷举，包含但不限于上述自动关闭曝光机出口的方式。

可选的，曝光机出口关闭的方式也可以是人工手动的，可以是人工参与监控以及手动关闭曝光机出口，上述人工手动关闭曝光机出口的方式仅是举例，而非穷举，包含但不限于上述人工手动关闭曝光机出口的方式。

本发明提供的技术方案为曝光机控制系统增加了一个信息反馈的过程，当待处理基板移动至曝光机外侧距离曝光机入口预设距离时，系统发出监控信号，用于监控曝光机内的光罩是否完成更换，若监控到曝光机内的光罩更换完成，则将更换完成的信息反馈给系统，然后系统指示将待处理基板送进曝光机内，若监控到曝光机内的光罩还没有更换完成，也将未更换完成的信息反馈给系统，然后系统指示将待处理基板停留在曝光机外等候。采用这种有反馈的控制方法，可以避免光罩更换过程中，待处理基板误入曝光机内，导致系统接收指令出现错误，从而降低了曝光机死机的概率，提高了生产效率。

可选的，“判断曝光机内的光罩是否更换完成”包括：

通过监控所述曝光机内的所述光罩交换的时间、监控所述曝光机内原有的光罩是否被移除且新的光罩是否被安装到所述曝光机内，或者监控所述曝光机的所述光罩的出口的状态以判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成。

其中，监控所述曝光机内的所述光罩交换的时间可以采用计时器，光罩交换是一个自动化完成的过程，时间间隔差距非常小，可以认为每次完成光罩交换的时间是固定的，因此就可以借助于计时器进行计时，间隔某个预设时间，就可以认为光罩交换完成，此时就可以将光罩交换完成的信号反馈给系统，然后系统给机械手发出指令，指示机械手完成将待处理基板送进曝光机内的动作。

其中，监控所述曝光机内原有的光罩是否被移除且新的光罩是否被安装到所述曝光机内，或者监控所述曝光机的所述光罩的出口的状态以判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成都可以借助于图像识别技术，传感器技术，红外识别技术等等，前面已经有所论述，不再赘述。

可选的，所述步骤“判断曝光机内的光罩是否更换完成”还包括：

将原始基板经过预设工艺的处理得到所述待处理基板且所述待处理基板送至距离所述曝光机的基板入口所需的时间记为第一时间；

将所述曝光机内的所述光罩更换完成的时间记为第二时间；

判断第一时间与第二时间之间的关系，若所述第一时间大于所述第二时间，则认为所述光罩更换完成。

其中，所述第一时间可以为原始基板经过预设工艺的处理得到所述待处理基板且所述待处理基板送至距离所述曝光机的基板入口所需的时间，也可以为所述待处理基板在所述曝光机的基板入口处的等待时间，还可以为原始基板经过预设工艺的处理得到所述待处理基板且所述待处理基板送至距离所述曝光机的基板入口所需的时间与所述待处理基板在所述曝光机的基板入口处的等待时间之和，所述第一时间包括但不限于上述第一时间。

其中，所述第二时间可以认为是所述曝光机内的所述光罩更换完成的时间与曝光机的光罩出口关闭的时间之和。

此技术方案提供了一种检测曝光机光罩是否更换完成的技术方案，借助于图像识别技术，传感器技术，红外识别技术等等自动化技术以及相关技术的结合，实现检测曝光机光罩是否完成更换的动作，具有自动化程度高的特点，同时提高了生产效率，大大缩短了生产周期。

可选的，所述曝光机控制方法还包括：

当所述曝光机内的所述光罩未更换完成时，则将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外。

其中，当系统检测到所述曝光机内的所述光罩未更换完成，则将所述光罩未更换完成的信号发送给系统，然后系统接收该信号后，发出指令将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外。

可选的，在所述步骤“当曝光机内的光罩更换完成时，则将待处理基板送进曝光机”之后，所述曝光机控制方法还包括：

判断所述曝光机中的更换后的所述光罩是否与所述待处理基板匹配；

当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。

可选的，判断所述曝光机中的更换后的所述光罩是否与所述待处理基板匹配，可以采用NFC技术、RFID技术或者是编码技术；通过在所述光罩上面贴标签，所述标签可以为条形码、二维码等等可识别的信息，将所述光罩与所述待处理基板之间建立一一对应的关系，由于每一个待处理基板的大小尺寸、外观轮廓等等都不一样，所以要采用与之相匹配的光罩来完成曝光，因此需要建立光罩与待处理基板之间一一对应的关系，从而防止光罩与待处理基板之间由于不匹配产生错误，从而导致死机，降低了死机概率，提高了生产效率。

如图2所示，提供了一种曝光机控制系统200，包括监控模块201，判断模块202，传送模块203，等待模块204和曝光模块205。各个模块的具体功能详细介绍如下。

监控模块201，用于当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换。

判断模块202，用于所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成。

传送模块203，用于当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，将所述待处理基板送进所述曝光机。

等待模块204，用于处理当所述曝光机内的所述光罩未更换完成时，则将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外。

曝光模块205，用于当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。

本发明提供的技术方案为曝光机控制系统增加了一个信息反馈的过程，当待处理基板移动至曝光机外侧距离曝光机入口预设距离时，系统发出监控信号，用于监控曝光机内的光罩是否完成更换，若监控到曝光机内的光罩更换完成，则将更换完成的信息反馈给系统，然后系统指示将待处理基板送进曝光机内，若监控到曝光机内的光罩还没有更换完成，也将未更换完成的信息反馈给系统，然后系统指示将待处理基板停留在曝光机外等候。采用这种有反馈的控制方法，可以避免光罩更换过程中，待处理基板误入曝光机内，导致系统接收指令出现错误，从而降低了曝光机死机的概率，提高了生产效率。

可选的，监控模块201，用于监控所述曝光机内的所述光罩交换的时间、监控所述曝光机内原有的光罩是否被移除且新的光罩是否被安装到所述曝光机内，或者监控所述曝光机的所述光罩的出口的状态。

可选的，判断模块202，用于判断第一时间与第二时间之间的关系，若所述第一时间大于所述第二时间，则认为所述光罩更换完成，其中，将原始基板经过预设工艺的处理得到所述待处理基板且所述待处理基板送至距离所述曝光机的基板入口所需的时间记为第一时间；将所述曝光机内的所述光罩更换完成的时间记为第二时间。

可选的，传送模块203，用于处理当所述曝光机内的所述光罩未更换完成时，则将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外。

可选的，传送模块203，还用于判断所述曝光机中的更换后的所述光罩是否与所述待处理基板匹配；

当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。

此技术方案提供了曝光机控制系统各个模块的功能，主要包括监控模块、判断模块、传送模块、等待模块以及曝光模块，监控模块，用于发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；判断模块，用于判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；传送模块，用于处理将所述待处理基板送进所述曝光机；等待模块，用于处理当所述曝光机内的所述光罩未更换完成时，则将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外；曝光模块，用于当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。这五大模块都可以采用软件控制来实现，具有自动化程度高的特点，降低了人工操作容易出错的概率，避免了人工操作耗时费力的缺点，提高了生产效率，大大缩短了生产周期。

本发明实施例还提供一种计算机存储介质，其中，该计算机存储介质存储用于电子数据交换的计算机程序，其中，所述计算机程序被执行时，执行如上述方法实施例中记载的任何一种曝光机控制方法的部分或全部步骤。

本发明实施例还提供一种计算机程序产品，所述计算机程序产品包括存储了计算机程序的非瞬时性计算机可读存储介质，所述计算机程序可操作来使计算机执行如上述方法实施例中记载的任何一种曝光机控制方法的部分或全部步骤。

参阅图3所示，图3示出了上述实施例中所涉及的曝光机控制系统的一种可能的结构示意图。曝光机控制系统300包括：处理器312、通信接口313、存储器311。处理器312用于对基站的动作进行控制管理，例如，处理器312用于支持曝光机控制系统执行图1所描述的技术的其它过程。可选的，基站310还可以包括总线314。其中，通信接口313、处理器312以及存储器311可以通过总线314相互连接；总线314可以是外设部件互连标准总线或扩展工业标准结构总线等。所述总线314可以分为地址总线、数据总线、控制总线等。为便于表示，图3中仅用一条粗线表示，但并不表示仅有一根总线或一种类型的总线。

本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分流程，是可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成，所述的程序可存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，可包括如上述各方法的实施例的流程。其中，所述的存储介质可为磁碟、光盘、只读存储记忆体或随机存储记忆体等。

需要说明的是，对于前述的各方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于可选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置，可通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性或其它的形式。

所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

另外，在本发明各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件程序模块的形式实现。

所述集成的单元如果以软件程序模块的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储器中。基于这样的理解，本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的全部或部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储器中，包括若干指令用以使得一台计算机设备(可为个人计算机、服务器或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储器包括：U盘、只读存储器、随机存取存储器、移动硬盘、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

本领域普通技术人员可以理解上述实施例的各种方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成，该程序可以存储于一计算机可读存储器中，存储器可以包括：闪存盘、只读存储器、随机存取器、磁盘或光盘等。

以上对本发明实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (11)

1.一种曝光机控制方法，其特征在于，所述曝光机控制方法包括：

当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；

所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；

当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，则将所述待处理基板送进所述曝光机。

2.根据权利要求1所述的曝光机控制方法，其特征在于，所述步骤“判断曝光机内的光罩是否更换完成”包括：

通过监控所述曝光机内的所述光罩交换的时间、监控所述曝光机内原有的光罩是否被移除且新的光罩是否被安装到所述曝光机内，或者监控所述曝光机的所述光罩的出口的状态以判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成。

3.根据权利要求1所述的曝光机控制方法，其特征在于，所述步骤“判断曝光机内的光罩是否更换完成”还包括：

将原始基板经过预设工艺的处理得到所述待处理基板且所述待处理基板送至距离所述曝光机的基板入口所需的时间记为第一时间；

将所述曝光机内的所述光罩更换完成的时间记为第二时间；

判断第一时间与第二时间之间的关系，若所述第一时间大于所述第二时间，则认为所述光罩更换完成。

4.根据权利要求2所述的曝光机控制方法，其特征在于，所述曝光机控制方法还包括：

当所述曝光机内的所述光罩未更换完成时，则将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外。

5.根据权利要求1所述的曝光机控制方法，其特征在于，在所述步骤“当曝光机内的光罩更换完成时，则将待处理基板送进曝光机”之后，所述曝光机控制方法还包括：

判断所述曝光机中的更换后的所述光罩是否与所述待处理基板匹配；

当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。

6.一种曝光机控制系统，其特征在于，所述曝光机控制系统包括：

监控模块，用于当有待处理基板距离曝光机的基板入口预设距离时，发出监控信号以监控曝光机内的光罩是否需要更换；

判断模块，用于所述曝光机内的所述光罩需要更换时，判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成；

传送模块，用于当所述曝光机内的所述光罩更换完成时，将所述待处理基板送进所述曝光机。

7.根据权利要求6所述的曝光机控制系统，其特征在于，

所述判断模块用于通过监控所述曝光机内的所述光罩交换的时间、监控所述曝光机内原有的光罩是否被移除且新的光罩是否被安装到所述曝光机内，或者监控所述曝光机的所述光罩的出口的状态以判断所述曝光机内的所述光罩是否更换完成。

8.根据权利要求6所述的曝光机控制系统，其特征在于，所述判断模块包括：

第一记录子模块，用于将原始基板经过预设工艺的处理得到所述待处理基板且所述待处理基板送至距离所述曝光机的基板入口所需的时间记为第一时间；

第二记录子模块，用于将所述曝光机内的所述光罩更换完成的时间记为第二时间；

判断子模块，用于判断第一时间与第二时间之间的关系，若所述第一时间大于所述第二时间，则认为所述光罩更换完成。

9.根据权利要求6所述的曝光机控制系统，其特征在于，所述曝光机控制系统还包括：

等待模块，用于处理当所述曝光机内的所述光罩未更换完成时，则将所述待处理基板等待在所述曝光机的基板入口外。

10.根据权利要求6所述的曝光机控制系统，其特征在于，

所述判断模块还用于判断所述曝光机中的更换后的所述光罩是否与所述待处理基板匹配；

所述曝光机控制系统还包括：

曝光模块，用于当所述曝光机中的更换后的所述光罩与所述待处理基板匹配时，对所述待处理基板进行曝光处理。

11.一种存储介质，其特征在于，其存储用于电子数据交换的计算机程序，其中，所述计算机程序被执行时，执行如权利要求1-5任一项所述的方法。