CN107422610B - 一种母板曝光方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种母板曝光方法，其包括以下步骤：将待曝光的母板放置于掩膜板下方；通过所述掩膜板对母板的光阻层进行曝光，以形成多个呈矩阵排列的曝光区，其中，相邻行曝光区之间具有行间隔区，相邻列曝光区之间具有列间隔区；移除掩膜板；以及，使用光源对行间隔区和列间隔区的光阻层进行照射。本发明的母板曝光方法，通过对行间隔区和列间隔区的光阻层进行照射，从而可以在显影时抑制行间隔区和列间隔区上的显影液扩散至曝光区边缘处，改善母板曝光区边缘处的过显影现象，进而提高显示面板的显示效果。

Description

一种母板曝光方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种母板曝光方法。
背景技术
目前，在显示基板的制作过程中，包括对母板上的光阻层进行曝光的工艺。例如，当在一块母板上制作四块显示基板时，通过掩膜板在四块显示基板对应位置上形成曝光区，然而，相邻行曝光区和相邻列曝光区之间的光阻层由于掩膜板的遮挡，存在不透光区域，这样容易造成每个曝光区边缘处显影不均。
具体地，在显影液均匀的铺满母板表面与经曝光的光阻层反应时，曝光区内的光阻层与显影液反应，其浓度降低明显，而位于相邻行曝光区和相邻列曝光区之间的光阻层与显影液几乎不反应，其浓度基本不变，从而与曝光区边缘的显影液浓度形成浓度差，由于扩散效应，造成曝光区边缘出现过显影现象，致使曝光区边缘处的线宽偏小，线距偏大。
故，有必要提供一种母板曝光方法，以解决现有技术所存在的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种母板曝光方法，用于改善母板曝光区边缘处的过显影现象，提高显示面板的显示效果。
为达到上述目的，本发明提供的母板曝光方法采用如下技术方案：
一种母板曝光方法，其包括：
将待曝光的母板放置于掩膜板下方；
通过所述掩膜板对所述母板的光阻层进行曝光，以形成多个呈矩阵排列的曝光区，其中，相邻行曝光区之间具有行间隔区，相邻列曝光区之间具有列间隔区；
移除所述掩膜板；以及，
使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射。
在本发明的母板曝光方法中，所述光源包括至少一个第一条形光源和至少一个第二条形光源，其中，所述第一条形光源的形状与任一所述行间隔区的形状相匹配，所述第二条形光源的形状与任一所述列间隔区的形状相匹配。
在本发明的母板曝光方法中，多个所述第一条形光源和多个所述第二条形光源拼接而成的图案与多个所述行间隔区和多个所述列间隔区拼接而成的图案相同。
在本发明的母板曝光方法中，所述使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射的步骤，包括：
使用多个所述第一条形光源和多个所述第二条形光源拼接而成的图案一次性对所述母板的光阻层进行照射。
在本发明的母板曝光方法中，所述使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射的步骤，包括：
使用一个所述第一条形光源分别对多个所述行间隔区的光阻层进行照射；以及，
使用一个所述第二条形光源对多个所述列间隔区的光阻层进行照射。
在本发明的母板曝光方法中，所述第一条形光源可沿行方向移动，所述第二条形光源可沿列方向移动。
在本发明的母板曝光方法中，所述行间隔区的宽度和所述列间隔区的宽度介于0-8毫米之间。
在本发明的母板曝光方法中，所述行间隔区的宽度小于相邻行曝光区之间的间距，所述列间隔的宽度小于相邻列曝光区之间的间距。
在本发明的母板曝光方法中，所述光源为紫外线光源或激光光源。
在本发明的母板曝光方法中，所述光源置于所述母板上方。
本发明的母板曝光方法，通过对行间隔区和列间隔区的光阻层进行照射，从而可以在显影时抑制行间隔区和列间隔区上的显影液扩散至曝光区边缘处，改善母板曝光区边缘处的过显影现象，进而提高显示面板的显示效果。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本发明优选实施例提供的母板曝光方法的步骤流程示意图；
图2为本发明优选实施例中的第一种母板结构示意图；
图3为本发明优选实施例中的第二种母板结构示意图；
图4为本发明优选实施例中第二种母板结构图对应的光源形状图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
参阅图1，图1为本发明优选实施例提供的母板曝光方法的步骤流程示意图。如图1所示，本发明优选实施例提供了一种母板曝光方法，其包括以下步骤：
步骤S101，将待曝光的母板放置于掩膜板下方；
步骤S102，通过所述掩膜板对所述母板的光阻层进行曝光，以形成多个呈矩阵排列的曝光区，其中，相邻行曝光区之间具有行间隔区，相邻列曝光区之间具有列间隔区；
步骤S103，移除所述掩膜板；以及，
步骤S104，使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射。
具体地，参阅图2、图3，图2为本发明优选实施例中的第一种母板结构示意图；图3为本发明优选实施例中的第二种母板结构示意图。本发明形成的呈矩阵排列的曝光区包括但不局限于以下几种：
如图2所示，当在一块母板20上制作四块显示基板时，首先将待曝光的母板20放置于掩膜板下方；然后通过掩膜板对母板20进行曝光，形成四个呈矩阵排列的曝光区201，此时，相邻行曝光区之间具有一个行间隔区202，相邻列间隔区之间具有一个列间隔区203；最后，使用光源对一个行间隔区202和一个列间隔区203上的光阻层进行照射。
如图3所示，当在一块母板30上制作九块显示基板时，首先将待曝光的母板30放置于掩膜板下方；然后通过掩膜板对母板30进行曝光，形成九个呈矩阵排列的曝光区301，此时，相邻行曝光区之间具有两个行间隔区302，相邻列曝光区之间具有两个列间隔区303；最后，使用光源对两个行间隔区302和两个列间隔区303上的光阻层极性照射。
需要说明的是，本发明通过使用光源对行间隔区202和302和列间隔区203和303的光阻层进行照射，从而可以在显影时抑制行间隔区202和302和列间隔区203和303上的显影液由于扩散效应扩散至曝光区201和301边缘处，改善曝光区201和301边缘处的过显影现象。优选的，行间隔区202和302的宽度和列间隔区203和303的宽度介于0-8毫米之间，且该行间隔区202和302的宽度小于相邻行曝光区之间的间距，该列间隔区203和303的宽度小于相邻列曝光区之间的间距，这样可以在保证抑制曝光区201和301边缘处过显影现象的同时，不会对其他区域造成影响。
另外，在使用光源对行间隔区202和302和列间隔区203和303的光阻层进行照射时，可将光源置于母板上方，从而使得该光源发出的光线能最大限度的被利用，并且使得光源有足够的移动空间。优选的，该光源可以为紫外线光源或激光光源。
下面本优选实施例以在一块母板上制作九块显示基板为例，对步骤S104进行详细说明。
参阅图4，图4为本发明优选实施例中第二种母板结构图对应的光源形状图。结合图3、图4所示，在步骤S104中，该光源包括至少一个第一条形光源401和至少一个第二条形光源402，其中，第一条形光源401的形状与任一行间隔区301的形状相匹配，第二条形光源402的形状与任一列间隔区302的形状相匹配。
进一步的，可一次性对母板30上的光阻层进行照射。具体地，第一条形光源401的数量与行间隔区301的数量一样，第二条形光源402的数量与列间隔区302的数量一样，可将多个第一条形光源401和多个第二条形光源402进行拼接，然后一次性对母板30的光阻层进行照射，从而缩减曝光时间，提高效率。进一步的，多个第一条形光源401和多个第二条形光源402拼接而成的图案与多个行间隔区301和多个列间隔区302拼接而成的图案相同。
例如，可通过在一曝光装置中形成一光源图案，其中，该光源图案包括多个第一条形光源401和多个第二条形光源402，且该光源图案与多个行间隔区301和多个列间隔区302形成的图案相同；然后，通过获取多个行间隔区301和多个列间隔区302在母板30上的坐标，使用生成的光源图案一次性对母板30的光阻层进行照射。
另外，也可依次对行间隔区301和列间隔区302上的光阻层进行照射。具体地，第一条形光源401的数量可与行间隔区301的数量不一样，第二条形光源402的数量可与列间隔区302的数量不一样。可通过一个第一条形光源401和一个第二条形光源402对多个行间隔区301和多个列间隔区302的光阻层进行照射，其中，第一条形光源401可沿行方向运动，第二条形光源402可沿列方向运动。
例如，可通过在一曝光装置中形成一个第一条形光源401；然后，获取每个行间隔区301的坐标以及相邻行间隔区之间的间距，通过第一条形光源3401对多个行间隔区301的光阻层进行照射。具体的，首先获取第一个行间隔区301的坐标，将光标移动至该坐标上，然后生成第一条形光源401对第一个行间隔区的光阻层进行照射；获取第二个行间隔区301的坐标，将光标移动至该坐标上，然后生成第一条形光源401对第二个行间隔区301的光阻层进行照射；以此类推，完成对多个行间隔区301的光阻层的照射。
同样，可通过在一曝光装置中形成一个第二条形光源402；然后，获取每个列间隔区302的坐标以及相邻列间隔区之间的间距，通过第二条形光源402对多个列间隔区302的光阻层进行照射。具体的，首先获取第一个列间隔区302的坐标，将光标移动至该坐标上，然后生成第二条形光源402对第一个列间隔区302的光阻层进行照射；获取第二个列间隔区302的坐标，将光标移动至该坐标上，然后生成第二条形光源402对第二个列间隔区302的光阻层进行照射；以此类推，完成对多个列间隔区302的光阻层的照射。
另外，还可以在一个曝光装置中同时形成一个第一条形光源401和一个第二条形光源402，通过以上方式同时对多个行间隔区301和多个列间隔区302的光阻层进行照射。
本发明的母板曝光方法，通过对行间隔区和列间隔区的光阻层进行照射，从而可以在显影时抑制行间隔区和列间隔区上的显影液扩散至曝光区边缘处，改善母板曝光区边缘处的过显影现象，进而提高显示面板的显示效果。
综上，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (7)

1.一种母板曝光方法，其特征在于，包括：
将待曝光的母板放置于掩膜板下方；
通过所述掩膜板对所述母板的光阻层进行曝光，以形成多个呈矩阵排列的曝光区，其中，相邻行曝光区之间具有行间隔区，相邻列曝光区之间具有列间隔区；
移除所述掩膜板；以及，
使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射；其中，
所述行间隔区的宽度和所述列间隔区的宽度介于0-8毫米之间；所述光源置于所述母板上方；所述行间隔区的宽度小于相邻行曝光区之间的间距，所述列间隔的宽度小于相邻列曝光区之间的间距；
所述光阻层采用正光阻。
2.根据权利要求1所述的母板曝光方法，其特征在于，所述光源包括至少一个第一条形光源和至少一个第二条形光源，其中，所述第一条形光源的形状与任一所述行间隔区的形状相匹配，所述第二条形光源的形状与任一所述列间隔区的形状相匹配。
3.根据权利要求2所述的母板曝光方法，其特征在于，多个所述第一条形光源和多个所述第二条形光源拼接而成的图案与多个所述行间隔区和多个所述列间隔区拼接而成的图案相同。
4.根据权利要求2或3所述的母板曝光方法，其特征在于，所述使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射的步骤，包括：
使用多个所述第一条形光源和多个所述第二条形光源拼接而成的图案一次性对所述母板的光阻层进行照射。
5.根据权利要求2所述的母板曝光方法，其特征在于，所述使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射的步骤，包括：
使用一个所述第一条形光源分别对多个所述行间隔区的光阻层进行照射；以及，
使用一个所述第二条形光源对多个所述列间隔区的光阻层进行照射。
6.根据权利要求5所述的母板曝光方法，其特征在于，所述第一条形光源可沿行方向移动，所述第二条形光源可沿列方向移动。
7.根据权利要求1所述的母板曝光方法，其特征在于，所述光源为紫外线光源或激光光源。
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