CN107398235A - 一种高压合成反应釜 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种高压合成反应釜,其具有圆筒状釜体和盖体,所述釜体包括由外到内的壳体、隔热层、加热层和衬里,所述加热层内具有加热元件,用于对衬里进行电加热;所述盖体包括盖板和位于盖板下方的密封结构;其中,所述釜体具有上部的环形开口,所述开口具有第一阶梯,所述密封结构的边缘位置也具有与所述第一阶梯相匹配的第二阶梯,所述第一阶梯的平台位置具有多个均匀分布的入气口,所述入气口通过所述壳体内的环形连接管和导管连接至外部输气装置;所述密封结构可缩入所述盖板内,由此入气口与釜体的腔体相连接,并且在所述第二阶梯的平台位置还设有一环形密封圈,所述第一阶梯的平台位置具有与所述环形密封圈想匹配的环形凹槽,且所述环形凹槽在俯视观察时位于所述多个入气口的内侧。
Description
技术领域
本发明涉及搅拌反应设备领域,具体涉及一种高压合成反应釜。
背景技术
反应釜用于物料的反应,以便生产或达到所需的制造要求。但是在反应进程到达一定程度时,往往需要额外的变换釜内的压力,通常的做法是将加压口直接与釜体腔连接,极易产生腐蚀损坏,且还需要研究更好保温的反应釜。
发明内容
基于解决上述问题,本发明提供了一种高压合成反应釜,其具有圆筒状釜体和盖体,所述釜体包括由外到内的壳体、隔热层、加热层和衬里,所述加热层内具有加热元件,用于对衬里进行电加热;所述盖体包括盖板和位于盖板下方的密封结构;
其中,所述釜体具有上部的环形开口,所述开口具有第一阶梯,所述密封结构呈凸字形的双层结构,所述双层结构的边缘位置具有与所述第一阶梯相匹配的第二阶梯,所述第一阶梯的平台位置具有多个均匀分布的入气口,所述入气口通过所述壳体内的环形连接管和导管连接至外部输气装置;所述密封结构可缩入所述盖板内,由此入气口与釜体的腔体相连接,并且在所述第二阶梯的平台位置还设有一环形密封圈,所述第一阶梯的平台位置具有与所述环形密封圈想匹配的环形凹槽,且所述环形凹槽在俯视观察时位于所述多个入气口的内侧。
根据本发明的实施例,所述密封结构采用耐腐蚀材料形成。
根据本发明的实施例,所述密封结构可部分的缩入所述盖体。
根据本发明的实施例,所述双层结构的上一层的厚度大于其下一层的厚度。
根据本发明的实施例,所述密封结构与所述壳体、隔热层、加热层和衬里接触。
根据本发明的实施例,所述壳体为陶瓷或金属材质。
本发明的优点如下:
(1)利用盖体部的伸缩,完成对入气口的开合,方案巧妙易行;
(2)反应过程中,密封结构能够有效的保护入气口,防止入气口的堵塞以及气体回流;
(3)可以的隔热式设计,能够保温,并且能够抗高压,提升反应釜的使用条件。
附图说明
图1为本发明的高压合成反应釜的剖视图;
图2为本发明的釜体的俯视图;
图3为缩入状态下反应釜的剖视图。
具体实施方式
参见图1和2,本发明的高压合成反应釜,其具有圆筒状釜体1和盖体2,所述釜体1包括由外到内的壳体11、隔热层12、加热层13和衬里14,所述加热层13内具有加热元件,用于对衬里14进行电加热;所述盖体2包括盖板21和位于盖板21下方的密封结构22;
其中,所述釜体1具有上部的环形开口,所述开口具有第一阶梯19,所述密封结构22呈凸字形的双层结构,所述双层结构的边缘位置具有与所述第一阶梯19相匹配的第二阶梯29,所述第一阶梯19的平台位置具有多个均匀分布的入气口20,所述入气口20通过所述壳体1内的环形连接管17和导管18连接至外部输气装置;
所述密封结构22可缩入所述盖板21内,由此入气口20与釜体1的腔体相连接,并且在所述第二阶梯29的平台位置还设有一环形密封圈25,所述第一阶梯19的平台位置具有与所述环形密封圈25相匹配的环形凹槽15,且所述环形凹槽15在俯视观察时位于所述多个入气口20的内侧。所述密封结构22可部分的缩入所述盖体21。所述双层结构的上一层的厚度大于其下一层的厚度。所述密封结构22与所述壳体11、隔热层12、加热层13和衬里14接触。
所述密封结构22采用耐腐蚀材料形成。所述壳体11为陶瓷或金属材质。
参见图3,其工作原理如下:在反应进行到需要额外加压时,将所述密封结构22缩入所述盖板21,所述入气口20漏出,输气装置通过导管18和环形连接管17向腔体内输入压力气体,其通过路径16进入腔体内,然后伸出所述密封结构22,进行后续的反应。在所述密封结构的下方还可以具有一压力传感器(未示出),用于即时测量釜体内的压力情况。
最后应说明的是:显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之中。
Claims (6)
1.一种高压合成反应釜,其具有圆筒状釜体和盖体,所述釜体包括由外到内的壳体、隔热层、加热层和衬里,所述加热层内具有加热元件,用于对衬里进行电加热;所述盖体包括盖板和位于盖板下方的密封结构;
其中,所述釜体具有上部的环形开口,所述开口具有第一阶梯,所述密封结构呈凸字形的双层结构,所述双层结构的边缘位置具有与所述第一阶梯相匹配的第二阶梯,所述第一阶梯的平台位置具有多个均匀分布的入气口,所述入气口通过所述壳体内的环形连接管和导管连接至外部输气装置;所述密封结构可缩入所述盖板内,由此入气口与釜体的腔体相连接,并且在所述第二阶梯的平台位置还设有一环形密封圈,所述第一阶梯的平台位置具有与所述环形密封圈想匹配的环形凹槽,且所述环形凹槽在俯视观察时位于所述多个入气口的内侧。
2.根据权利要求1所述的高压合成反应釜,其特征在于:所述密封结构采用耐腐蚀材料形成。
3.根据权利要求1或2任一项所述的高压合成反应釜,其特征在于:所述密封结构可部分的缩入所述盖体。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的高压合成反应釜,其特征在于:所述双层结构的上一层的厚度大于其下一层的厚度。
5.根据权利要求1所述的高压合成反应釜,其特征在于:所述密封结构与所述壳体、隔热层、加热层和衬里接触。
6.根据权利要求1所述的高压合成反应釜,其特征在于:所述壳体为陶瓷或金属材质。
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- 2017-08-28 CN CN201710748733.7A patent/CN107398235A/zh active Pending
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |