CN107381761A - 一种含硅废水处理的装置及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种含硅废水处理的装置及方法，包括机体、顶板、泵座和排污管，所述机体上面设置有所述顶板，所述顶板上设置有储料仓，所述储料仓上面设置有进料管，所述储料仓底面设置有出料管，所述出料管内部设置有电磁阀一，所述顶板旁侧设置有进水管。有益效果在于：本装置设置有温度传感器、控制主机和电加热板组成的温度反馈控制回路，能够自动加热含硅废水至预设值，进而提高了含硅废水与生石灰的反应速率，从而缩短了含硅废水的处理周期，同时通过离子传感器能够实时获取含硅废水中硅离子的浓度信息并在显示屏上实时显示，使用者进而能够准确把握含硅废水的处理进度，从而保障了含硅废水的处理效率。
Description
技术领域
本发明涉及废水处理技术领域，具体涉及一种含硅废水处理的装置及方法。
背景技术
废水是指居民活动过程中排出的水及径流雨水的总称，它包括生活污水、工业废水和初雨径流入排水管渠等其它无用水，一般指经过一定技术处理后不能再循环利用或者一级污染后制纯处理难度达不到一定标准的水，含硅废水便是其中的一种，废水处理是利用物理、化学和生物的方法对废水进行处理，使废水净化，减少污染，以至达到废水回收、复用，充分利用水资源，含硅废水若直接排放到外界会造成环境的污染，因此常常需要进行处理达标后方能排放。
但是含硅废水在处理时的周期长且无法实时获取含硅废水处理进度，影响到了含硅废水的处理效率。
发明内容
本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种含硅废水处理的装置及方法。
本发明通过以下技术方案来实现上述目的：
根据本发明的一方面，提供了一种含硅废水处理的装置，包括机体、顶板、泵座和排污管，所述机体上面设置有所述顶板，所述顶板上设置有储料仓，所述储料仓上面设置有进料管，所述储料仓底面设置有出料管，所述出料管内部设置有电磁阀一，所述顶板旁侧设置有进水管，所述机体外侧中部设置有所述泵座，所述泵座上设置有吸泵，所述吸泵端部设置有排水管路，所述吸泵另一端部设置有出水管，所述泵座下方设置有所述排污管，所述排污管内部设置有电磁阀二，所述机体内部中部设置有支座，所述支座上设置有安装架，所述安装架底面设置有支撑架，所述支撑架端部设置有离子传感器，所述支撑架旁侧设置有伺服电机，所述伺服电机端部设置有转轴，所述转轴端部设置有搅拌叶片，所述机体内部底面设置有电加热板，所述电加热板上设置有温度传感器。
在本实施例中，所述机体的材料为304不锈钢，厚度不低于50mm，所述顶板的材料为铸铁，所述顶板焊接在所述机体上。
在本实施例中，所述储料仓的材料为铝合金，表面为氧化铝，所述储料仓的容积大于100L，所述进料管通过螺纹固定在所述储料仓上，所述出料管通过螺纹固定在所述储料仓上。
在本实施例中，所述吸泵为耐酸碱泵，所述吸泵的流量为160L/min，所述吸泵通过螺钉固定在所述泵座上。
在本实施例中，所述电磁阀一通过螺纹件固定在所述出料管上，所述电磁阀二通过螺纹件固定在所述排污管上，所述电磁阀一和所述电磁阀二的响应时间不超过1.5ms。
在本实施例中，所述安装架的材料为球墨铸铁，所述安装架的厚度不低于60mm，所述安装架与所述支座的连接方式为焊接。
在本实施例中，所述支撑架的材料为PVC管，所述支撑架的横截面为正四边形或圆形中的一种，所述支撑架与所述安装架通过螺纹连接。
在本实施例中，所述离子传感器的精确度误差小于0.1％，所述离子传感器的连续工作时间不能超过12小时，清理周期不能超过24小时，所述离子传感器通过螺纹固定在所述支撑架上。
在本实施例中，所述伺服电机的数量为两个，所述伺服电机通过螺钉固定在所述安装架上，所述伺服电机的防水等级为IP15，所述转轴的横截面为圆形或正六边形的一种，所述搅拌叶片通过螺纹固定在所述转轴上。
在本实施例中，所述电加热板的额度功率为2000W，所述电加热板的加热温度范围为80℃到300℃，所述温度传感器的误差不超过0.5摄氏度，所述温度传感器通过卡箍固定在所述电加热板上。
在本实施例中，控制主机的型号为PLC S7-1200，显示屏胶接在所述控制主机上，控制键盘内嵌在所述控制主机上，所述控制主机与所述显示屏，所述电磁阀一、所述电磁阀二、所述吸泵、所述伺服电机、所述温度传感器、所述电加热板、所述离子传感器和所述控制键盘通过导线连接。
一种含硅废水处理的方法，包括如下步骤：
(1)将粉末状的生石灰放入所述储料仓中，同时将待处理的含硅废水通过所述进水管加入所述机体内；
(2)通过所述控制键盘发送工作指令，并通过所述控制主机控制所述电磁阀一打开将生石灰通过所述出料管排入所述机体内的含硅废水中，生石灰应过量加入；
(3)之后通过所述控制键盘控制所述电磁阀一关闭并控制所述伺服电机工作，所述伺服电机通过所述转轴带动所述搅拌叶片转动来对所述机体内的含硅废水进行搅拌，使其充分反应；
(4)通过所述控制键盘设置预定加热温度值并控制所述电加热板工作来对含硅废水进行加热，同时所述温度传感器工作获取所述机体内含硅废水的实时温度信息并回传给所述控制主机；
(5)所述控制主机将实时温度信息与预定加热温度值进行对比，当实时温度信息与预定加热温度值相同时，所述控制主机控制所述电加热板稳定工作；
(6)所述伺服电机搅拌40min后停止工作，同时所述电加热板停止工作；
(7)静置15min后，通过所述控制键盘控制所述离子传感器工作实时获取所述机体内含硅废水中的硅离子的浓度信息并回传至所述控制主机，所述控制主机将硅离子的浓度信息传递至所述显示屏上实时显示供使用者观察判断；
(8)若硅离子的浓度信息不符合排放标准，需重复步骤(1)到(7)，若硅离子的浓度信息符合排放标准，则含硅废水处理完成，通过所述控制键盘控制所述吸泵工作将处理完成的水通过所述排水管路输送至所述出水管排出到外界；
(9)排水完成后，通过所述控制键盘控制所述电磁阀二打开，将所述机体内沉降的污物通过所述排污管排出到外界。
有益效果在于：本装置设置有温度传感器、控制主机和电加热板组成的温度反馈控制回路，能够自动加热含硅废水至预设值，进而提高了含硅废水与生石灰的反应速率，从而缩短了含硅废水的处理周期，同时通过离子传感器能够实时获取含硅废水中硅离子的浓度信息并在显示屏上实时显示，使用者进而能够准确把握含硅废水的处理进度，从而保障了含硅废水的处理效率。
附图说明
图1是本发明所述一种含硅废水处理的装置的正视图；
图2是本发明所述一种含硅废水处理的装置的侧视图；
图3是本发明所述一种含硅废水处理的装置的俯视图。
1、机体；2、排水管路；3、吸泵；4、出水管；5、泵座；6、支撑架；7、电磁阀二；8、离子传感器；9、排污管；10、电加热板；11、进料管；12、储料仓；13、控制主机；14、显示屏；15、控制键盘；16、顶板；17、出料管；18、安装架；19、支座；20、电磁阀一；21、伺服电机；22、转轴；23、搅拌叶片；24、温度传感器；25、进水管。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明：
如图1-图3所示，根据本发明的一方面，提供了一种含硅废水处理的装置，包括机体1、顶板16、泵座5和排污管9，所述机体1上面设置有所述顶板16，所述顶板16上设置有储料仓12，所述储料仓12上面设置有进料管11，所述储料仓12底面设置有出料管17，所述出料管17内部设置有电磁阀一20，所述顶板16旁侧设置有进水管25，所述机体1外侧中部设置有所述泵座5，所述泵座5上设置有吸泵3，所述吸泵3端部设置有排水管路2，所述吸泵3另一端部设置有出水管4，所述泵座5下方设置有所述排污管9，所述排污管9内部设置有电磁阀二7，所述机体1内部中部设置有支座19，所述支座19上设置有安装架18，所述安装架18底面设置有支撑架6，所述支撑架6端部设置有离子传感器8，所述支撑架6旁侧设置有伺服电机21，所述伺服电机21端部设置有转轴22，所述转轴22端部设置有搅拌叶片23，所述机体1内部底面设置有电加热板10，所述电加热板10上设置有温度传感器24。
在本实施例中，所述机体1的材料为304不锈钢，厚度不低于50mm，所述顶板16的材料为铸铁，所述顶板16焊接在所述机体1上。
在本实施例中，所述储料仓12的材料为铝合金，表面为氧化铝，所述储料仓12的容积大于100L，所述进料管11通过螺纹固定在所述储料仓12上，所述出料管17通过螺纹固定在所述储料仓12上。
在本实施例中，所述吸泵3为耐酸碱泵，所述吸泵3的流量为160L/min，所述吸泵3通过螺钉固定在所述泵座5上。
在本实施例中，所述电磁阀一20通过螺纹件固定在所述出料管17上，所述电磁阀二7通过螺纹件固定在所述排污管9上，所述电磁阀一20和所述电磁阀二7的响应时间不超过1.5ms。
在本实施例中，所述安装架18的材料为球墨铸铁，所述安装架18的厚度不低于60mm，所述安装架18与所述支座19的连接方式为焊接。
在本实施例中，所述支撑架6的材料为PVC管，所述支撑架6的横截面为正四边形或圆形中的一种，所述支撑架6与所述安装架18通过螺纹连接。
在本实施例中，所述离子传感器8的精确度误差小于0.1％，所述离子传感器8的连续工作时间不能超过12小时，清理周期不能超过24小时，所述离子传感器8通过螺纹固定在所述支撑架6上。
在本实施例中，所述伺服电机21的数量为两个，所述伺服电机21通过螺钉固定在所述安装架18上，所述伺服电机21的防水等级为IP15，所述转轴22的横截面为圆形或正六边形的一种，所述搅拌叶片23通过螺纹固定在所述转轴22上。
在本实施例中，所述电加热板10的额度功率为2000W，所述电加热板10的加热温度范围为80℃到300℃，所述温度传感器24的误差不超过0.5摄氏度，所述温度传感器24通过卡箍固定在所述电加热板10上。
在本实施例中，控制主机13的型号为PLC S7-1200，显示屏14胶接在所述控制主机13上，控制键盘15内嵌在所述控制主机13上，所述控制主机13与所述显示屏14，所述电磁阀一20、所述电磁阀二7、所述吸泵3、所述伺服电机21、所述温度传感器24、所述电加热板10、所述离子传感器8和所述控制键盘15通过导线连接。
一种含硅废水处理的方法，包括如下步骤：
(1)将粉末状的生石灰放入所述储料仓12中，同时将待处理的含硅废水通过所述进水管25加入所述机体1内；
(2)通过所述控制键盘15发送工作指令，并通过所述控制主机13控制所述电磁阀一20打开将生石灰通过所述出料管17排入所述机体1内的含硅废水中，生石灰应过量加入；
(3)之后通过所述控制键盘15控制所述电磁阀一20关闭并控制所述伺服电机21工作，所述伺服电机21通过所述转轴22带动所述搅拌叶片23转动来对所述机体1内的含硅废水进行搅拌，使其充分反应；
(4)通过所述控制键盘15设置预定加热温度值并控制所述电加热板10工作来对含硅废水进行加热，同时所述温度传感器24工作获取所述机体1内含硅废水的实时温度信息并回传给所述控制主机13；
(5)所述控制主机13将实时温度信息与预定加热温度值进行对比，当实时温度信息与预定加热温度值相同时，所述控制主机13控制所述电加热板10稳定工作；
(6)所述伺服电机21搅拌40min后停止工作，同时所述电加热板10停止工作；
(7)静置15min后，通过所述控制键盘15控制所述离子传感器8工作实时获取所述机体1内含硅废水中的硅离子的浓度信息并回传至所述控制主机13，所述控制主机13将硅离子的浓度信息传递至所述显示屏14上实时显示供使用者观察判断；
(8)若硅离子的浓度信息不符合排放标准，需重复步骤(1)到(7)，若硅离子的浓度信息符合排放标准，则含硅废水处理完成，通过所述控制键盘15控制所述吸泵3工作将处理完成的水通过所述排水管路2输送至所述出水管4排出到外界；
(9)排水完成后，通过所述控制键盘15控制所述电磁阀二7打开，将所述机体1内沉降的污物通过所述排污管9排出到外界。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其效物界定。
Claims (10)
1.一种含硅废水处理的装置，其特征在于：包括机体、顶板、泵座和排污管，所述机体上面设置有所述顶板，所述顶板上设置有储料仓，所述储料仓上面设置有进料管，所述储料仓底面设置有出料管，所述出料管内部设置有电磁阀一，所述顶板旁侧设置有进水管，所述机体外侧中部设置有所述泵座，所述泵座上设置有吸泵，所述吸泵端部设置有排水管路，所述吸泵另一端部设置有出水管，所述泵座下方设置有所述排污管，所述排污管内部设置有电磁阀二，所述机体内部中部设置有支座，所述支座上设置有安装架，所述安装架底面设置有支撑架，所述支撑架端部设置有离子传感器，所述支撑架旁侧设置有伺服电机，所述伺服电机端部设置有转轴，所述转轴端部设置有搅拌叶片，所述机体内部底面设置有电加热板，所述电加热板上设置有温度传感器。
2.根据权利要求1所述的一种含硅废水处理的装置，其特征在于：所述机体的材料为304不锈钢，厚度不低于50mm，所述顶板的材料为铸铁，所述顶板焊接在所述机体上。
3.根据权利要求1所述的一种含硅废水处理的装置，其特征在于：所述储料仓的材料为铝合金，表面为氧化铝，所述储料仓的容积大于100L，所述进料管通过螺纹固定在所述储料仓上，所述出料管通过螺纹固定在所述储料仓上。
4.根据权利要求1所述的一种含硅废水处理的装置，其特征在于；所述吸泵为耐酸碱泵，所述吸泵的流量为160L/min，所述吸泵通过螺钉固定在所述泵座上，所述电磁阀一通过螺纹件固定在所述出料管上，所述电磁阀二通过螺纹件固定在所述排污管上，所述电磁阀一和所述电磁阀二的响应时间不超过1.5ms。
5.根据权利要求1所述的一种含硅废水处理的装置，其特征在于：所述安装架的材料为球墨铸铁，所述安装架的厚度不低于60mm，所述安装架与所述支座的连接方式为焊接。
6.根据权利要求1所述的一种含硅废水处理的装置，其特征在于：所述支撑架的材料为PVC管，所述支撑架的横截面为正四边形或圆形中的一种，所述支撑架与所述安装架通过螺纹连接。
7.根据权利要求1所述的一种含硅废水处理的装置，其特征在于：所述离子传感器的精确度误差小于0.1％，所述离子传感器的连续工作时间不能超过12小时，清理周期不能超过24小时，所述离子传感器通过螺纹固定在所述支撑架上。
8.根据权利要求1所述的一种含硅废水处理的装置，其特征在于：所述伺服电机的数量为两个，所述伺服电机通过螺钉固定在所述安装架上，所述伺服电机的防水等级为IP15，所述转轴的横截面为圆形或正六边形的一种，所述搅拌叶片通过螺纹固定在所述转轴上，所述电加热板的额度功率为2000W，所述电加热板的加热温度范围为80℃到300℃，所述温度传感器的误差不超过0.5摄氏度，所述温度传感器通过卡箍固定在所述电加热板上。
9.根据权利要求1所述的一种含硅废水处理的装置，其特征在于：控制主机的型号为PLC S7-1200，显示屏胶接在所述控制主机上，控制键盘内嵌在所述控制主机上，所述控制主机与所述显示屏，所述电磁阀一、所述电磁阀二、所述吸泵、所述伺服电机、所述温度传感器、所述电加热板、所述离子传感器和所述控制键盘通过导线连接。
10.一种含硅废水处理的方法，其特征在于：包括如下步骤：
(1)将粉末状的生石灰放入所述储料仓中，同时将待处理的含硅废水通过所述进水管加入所述机体内；
(2)通过所述控制键盘发送工作指令，并通过所述控制主机控制所述电磁阀一打开将生石灰通过所述出料管排入所述机体内的含硅废水中，生石灰应过量加入；
(3)之后通过所述控制键盘控制所述电磁阀一关闭并控制所述伺服电机工作，所述伺服电机通过所述转轴带动所述搅拌叶片转动来对所述机体内的含硅废水进行搅拌，使其充分反应；
(4)通过所述控制键盘设置预定加热温度值并控制所述电加热板工作来对含硅废水进行加热，同时所述温度传感器工作获取所述机体内含硅废水的实时温度信息并回传给所述控制主机；
(5)所述控制主机将实时温度信息与预定加热温度值进行对比，当实时温度信息与预定加热温度值相同时，所述控制主机控制所述电加热板稳定工作；
(6)所述伺服电机搅拌40min后停止工作，同时所述电加热板停止工作；
(7)静置15min后，通过所述控制键盘控制所述离子传感器工作实时获取所述机体内含硅废水中的硅离子的浓度信息并回传至所述控制主机，所述控制主机将硅离子的浓度信息传递至所述显示屏上实时显示供使用者观察判断；
(8)若硅离子的浓度信息不符合排放标准，需重复步骤(1)到(7)，若硅离子的浓度信息符合排放标准，则含硅废水处理完成，通过所述控制键盘控制所述吸泵工作将处理完成的水通过所述排水管路输送至所述出水管排出到外界；
(9)排水完成后，通过所述控制键盘控制所述电磁阀二打开，将所述机体内沉降的污物通过所述排污管排出到外界。
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