CN107357474A - 一种电容触摸屏的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种电容触摸屏的制备方法,包括以下步骤:(1)提供基板,在所述基板的表面形成离型层;在所述离型层的表面形成绝缘薄膜层;取带有彩色滤光片的液晶显示玻璃层,在彩色滤光片上沉积金属导电膜,并蚀刻过桥、引线、引点;(2)在绝缘薄膜层上沉积ITO导电膜,ITO导电膜的厚度为110nm‑140nm,蚀刻ITO图形,并与金属导电膜的过桥电连接;(3)使用透明光学胶将玻璃盖板贴合至ITO导电膜上形成触控薄膜层,剥离触控薄膜层,制成电容触摸屏。
Description
技术领域
本发明涉及显示屏技术领域,具体涉及一种电容触摸屏的制备方法。
背景技术
屏幕可以大致分成3个部分,从上到下分别是保护玻璃,触摸屏、显示屏,这三部分是需要进行贴合的,一般来说需要两次贴合,在保护玻璃与触摸屏之间进行一次贴合,而另一次的贴合则是在显示屏与触摸屏之间。TOL触摸屏和OGS触摸屏在TP(触摸屏)行业中应用广泛,OGS技术就是把触摸屏与保护玻璃集成在一起,在保护玻璃内侧镀上ITO导电层,直接在保护玻璃上进行镀膜和光刻,由于节省了一片玻璃和一次贴合,显示终端的屏幕能够做的更薄且成本更低。TOL触摸屏指利用小片OGS产线设备制作的单片嵌入式触摸屏产品,TOL产品需要先进行外形切割和六面钢化,再制作图案,强度性能比OGS更优越。OGS和TOL在制程中均是在保护玻璃上直接形成导电膜及传感器的技术,一块玻璃同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用。然而如果保护玻璃是弯曲的钢化玻璃,由于生产设备及工艺等原因,在其表面直接形成传感器图案非常困难,因此无法制作曲面或异型结构的触摸屏。
发明内容
本发明旨在提供了一种电容触摸屏的制备方法。
本发明提供如下技术方案:
一种电容触摸屏的制备方法,包括以下步骤:
(1)提供基板,在所述基板的表面形成离型层;在所述离型层的表面形成绝缘薄膜层;取带有彩色滤光片的液晶显示玻璃层,在彩色滤光片上沉积金属导电膜,并蚀刻过桥、引线、引点;
(2)在绝缘薄膜层上沉积ITO导电膜,ITO导电膜的厚度为110nm-140nm,蚀刻ITO图形,并与金属导电膜的过桥电连接;
(3)使用透明光学胶将玻璃盖板贴合至ITO导电膜上形成触控薄膜层,剥离触控薄膜层,制成电容触摸屏。
所述离型层为有机绝缘保护层,厚度范围为0.1μm-10μm。
所述步骤(2)中沉积ITO导电膜的温度为215-225℃。
所述触控薄膜层与预设尺寸与形状的玻璃盖板通过OCR光学透明树脂粘胶贴合。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明通过绝缘薄膜层作为承载触摸屏线路图案的柔性衬底能够从基板上剥离下来,将触控薄膜层贴合在预设尺寸和形状的保护玻璃表面,当保护玻璃的表面弯曲时,也能够在弯曲的保护玻璃表面形成预设的触摸屏线路图案,解决了现有技术中无法制备弯曲屏幕的问题,本发明的电容触摸屏制备方法提高了触摸屏的灵敏度,同时可保持ITO导电膜的厚度较为均匀,便于黄光制程工艺实施,提高了良品率。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例 一种电容触摸屏的制备方法,包括以下步骤:
(1)提供基板,在所述基板的表面形成离型层;在所述离型层的表面形成绝缘薄膜层;取带有彩色滤光片的液晶显示玻璃层,在彩色滤光片上沉积金属导电膜,并蚀刻过桥、引线、引点;
(2)在绝缘薄膜层上沉积ITO导电膜,ITO导电膜的厚度为110nm-140nm,蚀刻ITO图形,并与金属导电膜的过桥电连接;
(3)使用透明光学胶将玻璃盖板贴合至ITO导电膜上形成触控薄膜层,剥离触控薄膜层,制成电容触摸屏。
所述离型层为有机绝缘保护层,厚度范围为0.1μm-10μm。
所述步骤(2)中沉积ITO导电膜的温度为215-225℃。
所述触控薄膜层与预设尺寸与形状的玻璃盖板通过OCR光学透明树脂粘胶贴合。
对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于所述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (4)
1.一种电容触摸屏的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)提供基板,在所述基板的表面形成离型层;在所述离型层的表面形成绝缘薄膜层;取带有彩色滤光片的液晶显示玻璃层,在彩色滤光片上沉积金属导电膜,并蚀刻过桥、引线、引点;
(2)在绝缘薄膜层上沉积ITO导电膜,ITO导电膜的厚度为110nm-140nm,蚀刻ITO图形,并与金属导电膜的过桥电连接;
(3)使用透明光学胶将玻璃盖板贴合至ITO导电膜上形成触控薄膜层,剥离触控薄膜层,制成电容触摸屏。
2.根据权利要求1所述的一种电容触摸屏的制备方法,其特征在于:所述离型层为有机绝缘保护层,厚度范围为0.1μm-10μm。
3.根据权利要求1所述的一种电容触摸屏的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中沉积ITO导电膜的温度为215-225℃。
4.根据权利要求1所述的一种电容触摸屏的制备方法,其特征在于:所述触控薄膜层与预设尺寸与形状的玻璃盖板通过OCR光学透明树脂粘胶贴合。
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2017
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