CN107345781A - 一种含能复合薄膜激光飞片换能元 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种含能复合薄膜激光飞片换能元,包括依次连接的K9玻璃基片、纳米含能复合薄膜、Al2O3隔热层、Al飞片层,所述的纳米含能复合薄膜为CuO‑Al纳米含能复合薄膜,其底层薄膜为CuO薄膜,底层薄膜和Al薄膜由下至上交替分布,且底层薄膜和Al薄膜的厚度均为纳米级。本发明采用的纳米含能复合薄膜具有放热量高、反应速率快等特点,可提高换能元的点火能力,制得的激光飞片换能元技术具有飞片速度高、装置简单、成本低等优点。
Description
技术领域
本发明涉及激光火工品的基础部件技术领域,特别是涉及一种纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元。
背景技术
随着战场电磁环境和武器内部电磁兼容环境的不断恶化,常规的金属桥丝电火工品越来越显露出其弊端,并且造成了大量的意外发火事故。无线电技术在生活中的广泛应用,也增加了电火工品在生产、储存和运输中的危险性。另外,自然界的放电,如闪电等也容易引起电火工品的意外事故。这些不安全的因素绝大部分是由于电火工品本身结构的缺陷造成,即当外界电磁场较强时,很容易在桥丝和脚线中产生电流,从而引发药剂意外点火爆炸。通过使用光纤代替导线而实现含能材料与电系统的隔离,即能从根本上解决火工品电磁干扰能力。因此,自激光器诞生以来,激光点火与起爆技术就成为国内外重点的研究方向。
高能炸药的激光起爆通常有三种形式:第一种是激光直接与高能炸药作用;第二种是激光通过炸药表面的薄金属膜的快速加热作用,其激光能量使用效率较低,不适合作起爆之用;第三种就是激光驱动飞片冲击起爆高能炸药。由于激光传输效率和利用效率较低,制约着激光驱动飞片冲击起爆系统实现真正的实用化和工程化,优化激光参数、改进飞片性能是实现激光冲击片雷管小型化、实用化和工程化必须解决的问题。相比较单层飞片在激光驱动过程中容易被高温熔化,其最终冲击作用大为减弱,复合结构飞片无论是在飞片速度还是在完整性方面均优于单膜飞片。复合飞片由4种结构组成:能量吸收层、烧蚀层、隔热层以及冲击层。能量吸收层提供对激光能量的初始吸收;烧蚀层用于产生高温高压等离子体,从而驱动剩余飞片加速出去;隔热层用来延迟热扩散效应。高温高压等离子体作为激光驱动飞片的动力源,研究其主要特性有助于更深入地认识等离子体在驱动飞片中的作用。而烧蚀层材料是产生等离子体的来源,研究烧蚀层材料,有助于优化高温高压等离子体,从而提高飞片性能。选择合适的材料作为复合飞片的烧蚀层,成为改善激光烧蚀产生等离子体性能、提高飞片速度的关键。
发明内容
本发明的目的在于提供一种安全性高、点火能力强的纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元。
实现本发明目的的技术解决方案为:一种含能复合薄膜激光飞片换能元,包括依次连接的K9玻璃基片、纳米含能复合薄膜、Al2O3隔热层、Al飞片层。
所述的纳米含能复合薄膜为CuO-Al纳米含能复合薄膜、MoO3-Al纳米含能复合薄膜、MnO2-Al纳米含能复合薄膜或TiO2-Al纳米含能复合薄膜,其中,纳米含能复合薄膜的底层薄膜为CuO薄膜、MoO3薄膜、MnO2薄膜或TiO2薄膜,底层薄膜和Al薄膜由下至上交替分布,且底层薄膜和Al薄膜的厚度均为纳米级。
一种含能复合薄膜激光飞片换能元的制备方法,采用真空磁控溅射法在所述K9玻璃基片上先沉积底层薄膜,接着沉积Al薄膜,交替沉积,得到所述的纳米含能复合薄膜,再在纳米含能复合薄膜上沉积Al2O3隔热层薄膜,最后将Al飞片层沉积在Al2O3隔热层上。
本发明与现有技术相比,其显著优点在于:(1)激光飞片换能元技术具有飞片速度高、装置简单、成本低等传统动高压加载技术无法取代的优点;(2)使用激光点火实现含能材料与电系统的隔离,即能从根本上解决火工品电磁干扰能力;(3)纳米含能复合薄膜具有放热量高、反应速率快等特点,可提高换能元的点火能力。
附图说明
图1是CuO-Al纳米含能复合薄膜示意图。
图2是含能薄膜激光飞片换能元结构图。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施例对本发明做进一步详细说明。
以CuO-Al纳米含能复合薄膜为例,CuO-Al是放热量最高的铝热剂之一,其理论反应热可达4KJ/g。当采用CuO-Al反应性复合薄膜代替传统的金属Al薄膜作为烧蚀层时,能有效利用反应性烧蚀层材料间化学反应所释放的大量能量,在同样的激光能量作用下,产生的等离子压力和温度更高,进而提升飞片最终速度。另一方面, CuO-Al等反应性复合薄膜代替金属Al箔,则在实现相同的飞片驱动效果时,可降低对输入能量的要求,这对于推动激光驱动飞片冲击起爆技术发展具有重要意义。CuO-Al复合薄膜调制周期为400nm,调制比为0.2:0.2,薄膜热分析表明: CuO-Al复合薄膜DTA热分析有两个放热峰,第一个放热峰出现在630℃左右,第二个放热峰出现在870℃左右;总放热量为1236J/g 。激光脉冲能量一定时,延迟时间在0.68μs~3μs范围内,CuO-Al复合薄膜等离子体电子温度随着延迟时间的增大而先增加后降低,电子温度在延迟时间1.68μs左右达到最大;随后CuO-Al复合薄膜等离子体电子密度随着延迟时间的增大而降低。延迟时间恒定为1.68μs时,激光脉冲能量在108.6mJ~174mJ范围内,CuO-Al复合薄膜等离子体电子温度都是随着激光脉冲能量的增大而增大;激光脉冲能量在174mJ~273.6mJ范围内,复合薄膜等离子体电子温度随着激光脉冲能量的增大而降低。当延迟时间恒定为1.68μs、激光脉冲能量为174mJ时,等离子体电子温度平均值9029K。
复合飞片中加入隔热层可以有效地阻止热传导,增加等离子体高温持续时间以便提高压力,从而提高飞片速度和激光能量转化率。复合飞片中Al2O3隔热层存在一个最佳膜厚,高于该最佳膜厚,复合飞片峰值速度不增反减。激光能量密度为12.2J/cm2时,隔热层从0.5μm增至0.6μm时,飞片速度提高16%,这是因为隔热层屏蔽、防护作用起到了一定效果。隔热层从0.6μm增至0.8μm,由于Al2O3密度大于Al密度,飞片质量增加了2%,飞片速度因质量增加而降低4%,选用0.6μmAl2O3隔热层可以防止Al飞片被侵蚀,增强了飞片的稳定性,延长等离子体的作用时间,增强对飞片的加速能力。
实施例
1
本实施例提供CuO-Al纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元制备过程:
以K9玻璃为基底,利用磁控溅射装置制备飞片步骤如下:
(1)准备K9玻璃基片样品,检查冷却循环管道和电源状况;
(2)开真空室通气阀,打开真空室,打磨靶头金属罩和绝缘环,用吸尘器清洁真空室尘埃,更换激光冷水机循环水,安装靶材和基片样品,关闭通气阀,关真空室;
(3)开激光冷水机,开镀膜机总电源;
(4)开机械泵电源,同时打开旁抽2、开真空计,对真空室抽真空;开束流、屏级电压、MJ50-2J型流量显示仪、分子泵总电源、射频功率源进行预热;
(5)当真空计示数达到8Pa时,关旁抽2,开旁抽1,开分子泵,稍后开闸板阀,抽极限真空;
(6)当真空度到5.0×10-3Pa以下,真空计调为手动,开氩气瓶,给真空室通纯度为99.99%的高纯Ar气,质量流量控制在8.0SCCM;
(7)离子束流清洗基片:依次调节加速电压200V、阳极电压60V、屏极电压400V、阴极电压12V,使束流在稳定至60mA。离子束流主要有两个目的:一是利用高能氩离子轰击硅基底,进一步去除硅片表面杂质、污物,清洁硅片;二是在硅片表面形成悬挂键,以利于后续成膜;
(8)清洗5分钟后,按反向顺序依次将各表指针归零;
(9)调节Ar气的质量流量至30 SCCM,真空计调回自动;
(10)调节闸板阀使真空度至8Pa,开射频功率源,扳动射频功率源旋钮至所需功率档位,起辉,调节C1、C2旋钮,使反功率最小;
(11)调节闸板阀使真空度至0.4Pa,针对不同的靶材设置预溅射时长,除去靶材上的杂质。然后手动旋转K9基底至靶材正上方,开始镀膜。首先,将K9基底旋转至CuO靶材正上方,沉积66nm的 CuO薄膜(6),然后将K9基底旋转至Al靶材正上方,在CuO薄膜上沉积66nm的Al薄膜(5),CuO薄膜和Al薄膜一次交替沉积3次,最终制备厚度为400nm的CuO-Al含能复合含能薄膜如图1。将制备好的CuO-Al含能复合含能薄膜旋转至Al2O3靶材,制备厚度为0.5μm Al2O3隔热层;最后将Al2O3隔热层旋转至Al靶材,沉积厚度为3μm的Al隔热层,制备出激光飞片换能元,如图2所示。
(12)镀膜结束,关射频电源,关Ar气,关闸板阀,待分子泵转速降低至0时关闭分子泵电源;
(13)关旁抽1,关机械泵,关真空计,然后关镀膜机总电源,关激光冷水机。
该激光飞片能元可应用于激光雷管单点起爆,也可与火工品其他部件集成,实现点火、传爆功能。采用光子多普勒测速法测试CuO-Al纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元飞片速度,当激光能量密度为28.3J/cm2 时,飞片速度为6000m/s。
实施例
2
本实施例提供MnO2-Al纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元制备过程:
MnO2-Al纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元制备以K9玻璃为基底,制备步骤同实施实例1。MnO2-Al纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元中MnO2-Al纳米含能复合含能薄膜厚度为400nm,MnO2薄膜和Al薄膜交替沉积,厚度均为66nm;Al2O3隔热层厚度为500nm,Al飞片层厚度为3μm。
该激光飞片能元可应用于激光雷管单点起爆,也可与火工品其他部件集成,实现点火、传爆功能。采用光子多普勒测速法测试MoO3-Al纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元飞片速度,当激光能量密度为28.3J/cm2 时,飞片速度为4500m/s。
实施例
3
本实施例提供TiO2-Al纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元制备过程:
TiO2-Al纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元制备以K9玻璃为基底,制备步骤同实施实例1。TiO2-Al纳米含能复合含能薄膜
激光飞片换能元中TiO2-Al纳米含能复合含能薄膜厚度为400nm,TiO2薄膜和Al薄膜交替沉积,厚度均为66nm;Al2O3隔热层厚度为500nm,Al飞片层厚度为3μm。
该激光飞片能元可应用于激光雷管单点起爆,也可与火工品其他部件集成,实现点火、传爆功能。采用光子多普勒测速法测试TiO2-Al纳米含能复合含能薄膜激光飞片换能元飞片速度,当激光能量密度为28.3J/cm2 时,飞片速度超过6000m/s。
Claims (6)
1.一种含能复合薄膜激光飞片换能元,其特征在于,包括依次连接的K9玻璃基片、纳米含能复合薄膜、Al2O3隔热层、Al飞片层。
2.如权利要求1所述的含能复合薄膜激光飞片换能元,其特征在于,所述的纳米含能复合薄膜为CuO-Al纳米含能复合薄膜,其底层薄膜为CuO薄膜,底层薄膜和Al薄膜由下至上交替分布,且底层薄膜和Al薄膜的厚度均为纳米级。
3.如权利要求1所述的含能复合薄膜激光飞片换能元,其特征在于,所述的纳米含能复合薄膜为MoO3-Al纳米含能复合薄膜,其底层薄膜为MoO3薄膜,底层薄膜和Al薄膜由下至上交替分布,且底层薄膜和Al薄膜的厚度均为纳米级。
4.如权利要求1所述的含能复合薄膜激光飞片换能元,其特征在于,所述的纳米含能复合薄膜为MnO2-Al纳米含能复合薄膜,其底层薄膜为MnO2薄膜,底层薄膜和Al薄膜由下至上交替分布,且底层薄膜和Al薄膜的厚度均为纳米级。
5.如权利要求1所述的含能复合薄膜激光飞片换能元,其特征在于,所述的纳米含能复合薄膜为TiO2-Al纳米含能复合薄膜,其底层薄膜为TiO2薄膜,底层薄膜和Al薄膜由下至上交替分布,且底层薄膜和Al薄膜的厚度均为纳米级。
6.如权利要求1-5任一所述的含能复合薄膜激光飞片换能元的制备方法,其特征在于,采用真空磁控溅射法在所述K9玻璃基片上先沉积底层薄膜,接着沉积Al薄膜,交替沉积,得到所述的纳米含能复合薄膜,再在纳米含能复合薄膜上沉积Al2O3隔热层薄膜,最后将Al飞片层沉积在Al2O3隔热层上。
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