CN107311463A - 一种高透光率的导电玻璃的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高透光率的导电玻璃的制造方法,所述制造方法包括以下步骤:(1)混料:将无机导电氧化物、钛酸盐混合,研磨过筛得到无机导电粉末,加入有机溶剂中,得到导电浆料;导电浆料与玻璃颗粒通入万能包覆机得到混合物料;(2)混料堆积:将混合物料均匀堆积于承载体上;(3)导电功能层的制备:将堆积有混合物料的承载体置于高温窑炉内烧制,冷却;(4)玻璃基底的粘接与压制;(5)强酸与弱酸蚀刻。本发明的制造方法简单可控、重复性高、原料成本较低,制得的导电玻璃结构简单、质量稳定、导电性能优良,具有较高的雾度和可见光透过率,适合批量化生产。
Description
技术领域
本发明涉导电玻璃技术领域,具体涉及一种高透光率的导电玻璃的制造方法。
背景技术
导电玻璃,既具有传统玻璃在可见光范围的光学透明性,又具有良好的导电性能,因此已经被广泛应用于光电子器件中。例如,用作太阳能电池、平板显示屏、触摸屏和LED等器件的透明电极。在光电子产业中,占据非常重要的地位,给社会带来了巨大的经济效益。
目前的导电玻璃在原料中使用了大量的贵金属,如金、银、银~钯合金等,或昂贵的金属氧化物,如氧化钌、氧化金、氧化银等,导致导电玻璃的造价昂贵,且制备过程中存在材料性能不稳定及工艺重复性差的问题,增加了生产检验的成本。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种高透光率的导电玻璃的制造方法,该工艺方法简单可控、重复性高、原料成本较低,制得的导电玻璃结构简单、质量稳定、导电性能优良,具有较高的雾度和可见光透过率,适合批量化生产。
本发明解决技术问题采用如下技术方案:
一种高透光率的导电玻璃的制造方法,包括以下步骤:
(1)混料:将无机导电氧化物、钛酸盐放置在混合机中,于40~50℃搅拌混合20~30min后,研磨过筛得到无机导电粉末,加入有机溶剂中,得到导电浆料;将玻璃原料粉碎,过60~80目筛,得到玻璃颗粒;导电浆料与玻璃颗粒通入万能包覆机,包覆完成后于50~60℃烘干得到混合物料;玻璃颗粒的用量为导电浆料质量的3~5倍;
(2)混料堆积:将混合物料均匀堆积于承载体上1~2小时;
(3)导电功能层的制备:将堆积有混合物料的承载体置于高温窑炉内烧制,烧制温度为1200~1280℃,烧制1~2小时后,送入风栅间急冷冷却至350~400℃,再自然冷却至室温,得到所述导电功能层;
(4)玻璃基底的粘接与压制:选取玻璃基底,使用粘接剂将其与导电功能层粘接,再通入成型机中于20~30MPa下压制得到导电玻璃前体;
(5)强酸与弱酸蚀刻:将导电玻璃前体通入30~40℃的质量浓度5~10%的强酸溶液中蚀刻20~50s,再通入20~30℃的质量浓度15~25%的弱酸溶液中蚀刻20~50s得到该导电玻璃。
优选地,所述无机导电氧化物为氧化锡、氧化锌、氧化钛、三氧化二铁、氧化铜中的一种或多种的组合。
优选地,所述钛酸盐为钛酸钡、钛酸铁、钛酸钙、钛酸铅中的一种或多种的组合。
优选地,所述玻璃原料为低温玻璃、器皿玻璃、微晶玻璃、熔块玻璃中的一种或多种的组合。
优选地,所述步骤(1)有机溶剂选自乙醇、甲醇、乙腈、乙酸乙酯、甲苯中的一种或多种的组合,有机溶剂的用量为无机导电粉末质量的10~20倍。
优选地,所述承载体为耐火瓷砖、陶瓷生坯体、陶瓷素烧坯体、耐火金属板中的一种。
优选地,所述步骤(3)风栅间的急冷风压范围为0.40~0.85MPa,中心区域的风压范围为0.65~0.75MPa。
优选地,所述步骤(4)粘接剂为羧甲基纤维素钠、阿拉伯树胶、海藻酸钠中的一种或多种的组合。
优选地,所述步骤(5)强酸为硝酸、盐酸、硫酸中的一种,所述弱酸为醋酸、草酸、甲酸中的一种。
与现有技术相比,本发明具有如下的有益效果:
(1)本发明的导电玻璃的制造方法,工艺方法简单可控、重复性高、原料成本较低,制得的导电玻璃结构简单、质量稳定、导电性能优良,具有较高的雾度和可见光透过率,适合批量化生产,大大减少了生产和检测成本。
(2)本发明的导电功能层,原料选用如三氧化二铁、氧化铜的无机导电氧化物、钛酸盐和常用的玻璃,廉价易得,具有优良的导电性和光透过率;高温烧制和急冷处理能够将混合物料紧密烧结为一体,且具有良好的韧性和抗拉伸和劈裂强度。
(3)本发明的承载体选自常用的耐火瓷砖、胚体或金属板,有利于混合物料的堆积和扩散,分子更加分散均匀,而且耐火阻燃,避免了失火、漏电等紧急情况。
(4)本发明的粘接与压制工艺,绿色环保的粘接剂在高压的作用下,能够将导电功能层与玻璃基底紧密结合,抗压强度和赋形更佳。
(5)本发明的蚀刻工艺依次采用强酸和弱酸蚀刻,使得该导电玻璃的表面更佳平滑和均匀,显著增加导电玻璃的雾度和透光率,太阳光利用率进一步提高。
具体实施方式
以下结合具体实施例对发明作进一步详细的描述。
实施例1
一种高透光率的导电玻璃的制造方法,包括以下步骤:
(1)混料:将氧化锡、钛酸钡放置在混合机中,于40~50℃搅拌混合20~30min后,研磨过筛得到无机导电粉末,加入乙腈中,得到导电浆料,乙腈的用量为无机导电粉末质量的16倍;将微晶玻璃粉碎,过60~80目筛,得到玻璃颗粒;导电浆料与玻璃颗粒通入万能包覆机,包覆完成后于50~60℃烘干得到混合物料;玻璃颗粒的用量为导电浆料质量的3.5倍。
(2)混料堆积:将混合物料均匀堆积于耐火瓷砖上1~2小时。
(3)导电功能层的制备:将堆积有混合物料的承载体置于高温窑炉内烧制,烧制温度为1260℃,烧制1.5小时后,送入风栅间急冷冷却至380℃,再自然冷却至室温,得到所述导电功能层。其中,风栅间的急冷风压范围为0.40~0.85MPa,中心区域的风压范围为0.65~0.75MPa。
(4)玻璃基底的粘接与压制:选取玻璃基底,使用阿拉伯树胶将其与导电功能层粘接,再通入成型机中于20~30MPa下压制得到导电玻璃前体。
(5)强酸与弱酸蚀刻:将导电玻璃前体通入36℃的质量浓度8%的硝酸溶液中蚀刻40s,再通入20℃的质量浓度20%的草酸溶液中蚀刻40s得到该导电玻璃。
实施例2
一种高透光率的导电玻璃的制造方法,包括以下步骤:
(1)混料:将氧化钛、钛酸钙放置在混合机中,于40~50℃搅拌混合20~30min后,研磨过筛得到无机导电粉末,加入乙醇中,得到导电浆料,乙醇的用量为无机导电粉末的12倍;将熔块玻璃粉碎,过60~80目筛,得到玻璃颗粒;导电浆料与玻璃颗粒通入万能包覆机,包覆完成后于50~60℃烘干得到混合物料;玻璃颗粒的用量为导电浆料质量的4.2倍。
(2)混料堆积:将混合物料均匀堆积于陶瓷素烧坯体上1~2小时。
(3)导电功能层的制备:将堆积有混合物料的承载体置于高温窑炉内烧制,烧制温度为1250℃,烧制1.6小时后,送入风栅间急冷冷却至370℃,再自然冷却至室温,得到所述导电功能层。其中,风栅间的急冷风压范围为0.40~0.85MPa,中心区域的风压范围为0.65~0.75MPa。
(4)玻璃基底的粘接与压制:选取玻璃基底,使用羧甲基纤维素钠将其与导电功能层粘接,再通入成型机中于20~30MPa下压制得到导电玻璃前体。
(5)强酸与弱酸蚀刻:将导电玻璃前体通入36℃的质量浓度6%的盐酸溶液中蚀刻45s,再通入23℃的质量浓度18%的醋酸溶液中蚀刻42s得到该导电玻璃。
实施例3
一种高透光率的导电玻璃的制造方法,包括以下步骤:
(1)混料:将氧化锌、钛酸钙放置在混合机中,于40~50℃搅拌混合20~30min后,研磨过筛得到无机导电粉末,加入甲醇中,得到导电浆料,甲醇的用量为无机导电粉末质量的16倍;将器皿玻璃粉碎,过60~80目筛,得到玻璃颗粒;导电浆料与玻璃颗粒通入万能包覆机,包覆完成后于50~60℃烘干得到混合物料;玻璃颗粒的用量为导电浆料质量的4.5倍。
(2)混料堆积:将混合物料均匀堆积于陶瓷生坯体上1.5小时。
(3)导电功能层的制备:将堆积有混合物料的承载体置于高温窑炉内烧制,烧制温度为1270℃,烧制1.8小时后,送入风栅间急冷冷却至400℃,再自然冷却至室温,得到所述导电功能层。其中,风栅间的急冷风压范围为0.40~0.85MPa,中心区域的风压范围为0.65~0.75MPa。
(4)玻璃基底的粘接与压制:选取玻璃基底,使用海藻酸钠将其与导电功能层粘接,再通入成型机中于20~30MPa下压制得到导电玻璃前体。
(5)强酸与弱酸蚀刻:将导电玻璃前体通入38℃的质量浓度5%的硫酸溶液中蚀刻50s,再通入30℃的质量浓度25%的醋酸溶液中蚀刻50s得到该导电玻璃。
实施例4
一种高透光率的导电玻璃的制造方法,包括以下步骤:
(1)混料:将三氧化二铁、钛酸铅放置在混合机中,于40~50℃搅拌混合20~30min后,研磨过筛得到无机导电粉末,加入甲苯中,得到导电浆料,甲苯的用量为无机导电粉末质量的20倍;将低温玻璃粉碎,过60~80目筛,得到玻璃颗粒;导电浆料与玻璃颗粒通入万能包覆机,包覆完成后于50~60℃烘干得到混合物料;玻璃颗粒的用量为导电浆料质量的5倍。
(2)混料堆积:将混合物料均匀堆积于耐火金属板上2小时。
(3)导电功能层的制备:将堆积有混合物料的承载体置于高温窑炉内烧制,烧制温度为1280℃,烧制1小时后,送入风栅间急冷冷却至390℃,再自然冷却至室温,得到所述导电功能层。其中,风栅间的急冷风压范围为0.40~0.85MPa,中心区域的风压范围为0.65~0.75MPa。
(4)玻璃基底的粘接与压制:选取玻璃基底,使用阿拉伯树胶将其与导电功能层粘接,再通入成型机中于20~30MPa下压制得到导电玻璃前体。
(5)强酸与弱酸蚀刻:将导电玻璃前体通入40℃的质量浓度5%的硫酸溶液中蚀刻20s,再通入20℃的质量浓度25%的甲酸溶液中蚀刻26s得到该导电玻璃。
实施例5
一种高透光率的导电玻璃的制造方法,包括以下步骤:
(1)混料:将氧化铜、钛酸铁放置在混合机中,于40~50℃搅拌混合20~30min后,研磨过筛得到无机导电粉末,加入乙酸乙酯中,得到导电浆料,乙酸乙酯的用量为无机导电粉末质量的15倍;将玻璃原料粉碎,过60~80目筛,得到玻璃颗粒;导电浆料与玻璃颗粒通入万能包覆机,包覆完成后于50~60℃烘干得到混合物料;玻璃颗粒的用量为导电浆料质量的5倍。
(2)混料堆积:将混合物料均匀堆积于耐火瓷砖上1.8小时。
(3)导电功能层的制备:将堆积有混合物料的承载体置于高温窑炉内烧制,烧制温度为1280℃,烧制1小时后,送入风栅间急冷冷却至400℃,再自然冷却至室温,得到所述导电功能层。其中,风栅间的急冷风压范围为0.40~0.85MPa,中心区域的风压范围为0.65~0.75MPa。
(4)玻璃基底的粘接与压制:选取玻璃基底,使用海藻酸钠将其与导电功能层粘接,再通入成型机中于20~30MPa下压制得到导电玻璃前体。
(5)强酸与弱酸蚀刻:将导电玻璃前体通入35℃的质量浓度8%的硝酸溶液中蚀刻38s,再通入25℃的质量浓度22%的草酸溶液中蚀刻40s得到该导电玻璃。
实施例6
性能测试:对实施例1-5制造的导电玻璃按照阿基米德法测试玻璃密度,按照GB/T351-1995标准测试表面电阻率,同时进行了光透过率的测试,结果见表1。
表1. 导电玻璃性能测试结果
实施例 | 密度(g/cm3) | 表面电阻率(Ω·cm) | 光透过率(%) |
1 | 1.68 | 46.85 | 92 |
2 | 1.62 | 42.84 | 88 |
3 | 1.57 | 41.76 | 86 |
4 | 1.52 | 39.51 | 84 |
5 | 1.49 | 36.81 | 76 |
由上表可以看出,本发明实施例的导电玻璃密度较小,质轻,表面电阻率和光透过率优良,适合批量化生产。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰,也应视为本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种高透光率的导电玻璃的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)混料:将无机导电氧化物、钛酸盐放置在混合机中,于40~50℃搅拌混合20~30min后,研磨过筛得到无机导电粉末,加入有机溶剂中,得到导电浆料;将玻璃原料粉碎,过60~80目筛,得到玻璃颗粒;导电浆料与玻璃颗粒通入万能包覆机,包覆完成后于50~60℃烘干得到混合物料;玻璃颗粒的用量为导电浆料质量的3~5倍;
(2)混料堆积:将混合物料均匀堆积于承载体上1~2小时;
(3)导电功能层的制备:将堆积有混合物料的承载体置于高温窑炉内烧制,烧制温度为1200~1280℃,烧制1~2小时后,送入风栅间急冷冷却至350~400℃,再自然冷却至室温,得到所述导电功能层;
(4)玻璃基底的粘接与压制:选取玻璃基底,使用粘接剂将其与导电功能层粘接,再通入成型机中于20~30MPa下压制得到导电玻璃前体;
(5)强酸与弱酸蚀刻:将导电玻璃前体通入30~40℃的质量浓度5~10%的强酸溶液中蚀刻20~50s,再通入20~30℃的质量浓度15~25%的弱酸溶液中蚀刻20~50s得到该导电玻璃。
2.根据权利要求1所述的高透光率的导电玻璃的制造方法,其特征在于,所述无机导电氧化物为氧化锡、氧化锌、氧化钛、三氧化二铁、氧化铜中的一种或多种的组合。
3.根据权利要求1所述的高透光率的导电玻璃的制造方法,其特征在于,所述钛酸盐为钛酸钡、钛酸铁、钛酸钙、钛酸铅中的一种或多种的组合。
4.根据权利要求1所述的高透光率的导电玻璃的制造方法,其特征在于,所述玻璃原料为低温玻璃、器皿玻璃、微晶玻璃、熔块玻璃中的一种或多种的组合。
5.根据权利要求1所述的高透光率的导电玻璃的制造方法,其特征在于,所述步骤(1)有机溶剂选自乙醇、甲醇、乙腈、乙酸乙酯、甲苯中的一种或多种的组合,有机溶剂的用量为无机导电粉末质量的10~20倍。
6.根据权利要求1所述的高透光率的导电玻璃的制造方法,其特征在于,所述承载体为耐火瓷砖、陶瓷生坯体、陶瓷素烧坯体、耐火金属板中的一种。
7.根据权利要求1所述的高透光率的导电玻璃的制造方法,其特征在于,所述步骤(3)风栅间的急冷风压范围为0.40~0.85MPa,中心区域的风压范围为0.65~0.75MPa。
8.根据权利要求1所述的高透光率的导电玻璃的制造方法,其特征在于,所述步骤(4)粘接剂为羧甲基纤维素钠、阿拉伯树胶、海藻酸钠中的一种或多种的组合。
9.根据权利要求1所述的高透光率的导电玻璃的制造方法,其特征在于,所述步骤(5)强酸为硝酸、盐酸、硫酸中的一种,所述弱酸为醋酸、草酸、甲酸中的一种。
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20171103 |
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WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |