CN107275521A - 一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法及其应用 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法及其应用。一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，是利用电化学沉积的方法，使电活性单体在高分辨显示屏阵列基板上聚合，沉积形成高分辨阵列有机薄膜。同时公开了制备所得的一种高分辨阵列有机薄膜在OLED显示屏制备中的应用。本发明利用电化学沉积技术在高分辨阵列基底上沉积高分辨阵列薄膜，提供了一种操作简单，成本低，薄膜可控，精度可达10μm的高分辨成膜技术。

Description

一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法及其应用
技术领域
本发明涉及一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法及其应用。
背景技术
分辨率是显示器的一个非常重要的性能指标之一，显示器分辨率越高，画面就越精细，同样的屏幕区域内能显示的信息也越多。高分辨率意味着图像中的像素密度高，像素尺寸小，因此其制作成本与难度也随之增加。
目前有机电致发光显示(OLED)的图案化薄膜制备技术主要有精细金属掩膜蒸镀，喷墨打印，激光热转移成像技术。
精细金属掩膜蒸镀是目前最常用的薄膜制备技术，该方法是利用精细金属掩模板与CCD像素对位技术，在高真空条件下，加热使材料蒸发在基底上冷却形成图案化的薄膜，该技术简单成熟，已被广泛应用在有机发光二极管(OLED)显示屏的制备中。但精细金属掩膜蒸镀的设备复杂，成本高，且受金属刻蚀技术的限制，掩模蒸镀技术的图案化精度一般只能达到几十微米至几微米的水平，并且高分辨率的金属掩膜板厚度都很薄，使其在大尺寸的显示屏中很难精确对位。因此在OLED走向高分辨和大尺寸的产业化进程中，金属掩膜技术面临着更苛刻的图形尺寸精度和定位精度要求。
喷墨打印技术是一种节能环保的图案化薄膜制备技术，该技术是通过打印喷头将微量溶液(几皮升)喷射到像素坑中实现图案化，可充分发挥高分子和某些小分子可溶液加工的特点，对基底基本没有选择性，操作简单，节省材料。但是喷墨打印的打印精度问题是一个很大的难题，对于喷墨打印而言，墨滴越小越难精确地滴到像素表面，实验表明，墨滴直径小于10微米时，很难冲破空气阻力滴落到衬底上。另外，喷墨打印对墨水的要求很高，且由于不同位置的墨水蒸发速度不一致，成膜过程容易出现“咖啡环效应”导致成膜性难控制。
激光热转移成像技术是利用光热转换材料将激光的光能转化为热能而使涂层图案化，该技术刻蚀精度高，但材料的利用率较低，浪费严重，生产成本居高不下，限制了其大规模产业化进程。
高分辨率意味着显示屏基板的像素密度高，像素尺寸小，对电化学沉积过程而言，当像素电极至少在一维尺度小于25微米时，像素电极就变成了带状的微电极，由于微电极的尺寸与扩散层厚度接近，当扩散层厚度大于电极尺寸时，电极表面既有垂直方向的轴向扩散，还有径向扩散，因此微电极表面的传质速率是不均匀的，在微电极上沉积的薄膜也不均匀，而用于OLED显示器中的薄膜要求均匀，否则容易导致器件产生漏电流，发光不均匀甚至短路等问题，因此单个微电极上沉积的不均匀薄膜很难应用到OLED显示领域。然而，对于阵列微电极来说，情况比较特殊，由于扩散层的厚度是一个随时间变化的值，阵列电极之间间隔比较小，当时间较长时(几十毫秒左右)，扩散层增大，不同像素电极间分隔的扩散层会融合在一起，变为线性扩散，表现出类似于平板电极的行为。而显示屏阵列基板中的所有像素即为阵列微电极，整个显示屏阵列基板相当于一个平板电极，从而可以使得微电极效应得到削弱。因此显示屏阵列基板上的像素越多，越密集，越有利于获得均匀的薄膜。原理上，将高分辨显示屏阵列基板上的阵列像素电极作为电解池体系中的工作电极，使电活性单体在显示屏阵列基板的阵列像素电极上聚合，沉积形成薄膜，即可得到高分辨阵列薄膜。因此电化学沉积技术可以作为一种高分辨阵列薄膜的沉积方法。
电化学沉积技术是利用电活性单体在电极与溶液接触界面发生氧化或还原偶联反应，从而在电极上形成聚合物薄膜的方法，其特点是工艺简单，成本低，薄膜的形貌、厚度、聚集态结构等性质可以通过对电化学沉积方法及条件的选择进行精确调控，电化学沉积技术可以一步完成聚合物薄膜的合成和定向沉积成膜。本发明利用电化学沉积技术在高分辨显示屏阵列基底上沉积高分辨阵列薄膜，提供了一种操作简单，成本低，薄膜可控，精度可达10μm的高分辨成膜技术。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法及其应用。本发明所述的高分辨是指分辨率在200ppi及以上。
本发明所采取的技术方案是：
一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，是利用电化学沉积的方法，使电活性单体在高分辨显示屏阵列基板上聚合，沉积形成高分辨阵列有机薄膜。
所述的一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，包括以下步骤：
1)准备高分辨显示屏阵列基板，显示屏阵列基板包括衬底基板和像素电极层，像素电极层中的像素电极呈矩形阵列分布；
2)建立电解池体系，以高分辨显示屏阵列基板的像素电极为工作电极，电活性单体溶液为电解液；
3)给电解池施加电化学沉积信号，使电活性单体在像素电极表面聚合，沉积形成薄膜；
4)对步骤3)所得的薄膜进行清洗、干燥，得到高分辨阵列有机薄膜。
所述电活性单体的化学结构式通式为XYn，其中X为发光基团，为苯、联苯、苯乙烯、萘、蒽、菲、芴、芘或上述基团的衍生物中的至少一种；Y为电活性基团，为呋喃、吡咯、噻吩、咔唑、乙烯、乙炔、苯胺、二苯胺、三苯胺中的至少一种；n为Y的个数；X与Y之间以烷基链、烷氧基链、氧基链中的至少一种相连接。
进一步的，所述电活性单体的化学结构式通式为：
式中A为以下的其中一种：
n为1或2。
步骤2)所述电解池体系为三电极体系，其中参比电极为Ag/Ag+电极、Ag/AgCl电极、氢标准电极、饱和甘汞电极中的其中一种；辅助电极为Ti电极或Pt电极。
步骤2)所述电解液的支持电解质由阴离子和阳离子组合而成，所述的阴离子为高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、六氟砷酸根离子中的至少一种；所述的阳离子为钠离子、钾离子、锂离子、铵根离子、四甲基铵离子、四乙基铵离子、四正丁基铵离子中的至少一种。
步骤2)所述电解液的溶剂为乙腈、二氯甲烷、聚碳酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、四氢呋喃、乙醇、氯苯、三氟硼酸乙醚中的至少一种。
步骤3)所述的电化学沉积信号，其输入电压为-3～3V，扫描速度为1～5000mV/s。
上述制备所得的一种高分辨阵列有机薄膜在OLED显示屏制备中的应用。
本发明的有益效果是：
本发明利用电化学沉积技术在高分辨阵列基底上沉积高分辨阵列薄膜，提供了一种操作简单，成本低，薄膜可控，精度可达10μm的高分辨成膜技术。
具体如下：
1、本发明设备简单，成本低，可在常温常压下进行；原料节省，可一次完成聚合物薄膜的合成和精确沉积；
2、本发明的电沉积薄膜沉积位置精确可控，容易实现图案化，且薄膜的性质，包括形貌和厚度等均可由沉积条件方便调控；
3、本发明的利用阵列微电极电化学行为与平板电极相似的特点，避免了微电极效应导致的不均匀薄膜的沉积，制备得到均匀平整的高分辨阵列薄膜，为高分辨阵列薄膜的制备提供了一种简单有效的方法。
附图说明
图1为不同电极表面的扩散示意图；
图2为本发明实施例的电解池回路连接示意图；
图3为本发明实施例的显示屏阵列基板的版图；
图4为本发明实施例的电活性单体在显示屏阵列基板上的多圈循环伏安曲线；
图5为本发明实施例的电活性单体在显示屏阵列基板上沉积的薄膜的显微镜图。
具体实施方式
一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，是利用电化学沉积的方法，使电活性单体在高分辨显示屏阵列基板上聚合，沉积形成高分辨阵列有机薄膜。
所述的一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，包括以下步骤：
1)准备高分辨显示屏阵列基板，显示屏阵列基板包括衬底基板和像素电极层，像素电极层中的像素电极呈矩形阵列分布；
2)建立电解池体系，以高分辨显示屏阵列基板的像素电极为工作电极，电活性单体溶液为电解液；
3)给电解池施加电化学沉积信号，使电活性单体在像素电极表面聚合，沉积形成薄膜；
4)对步骤3)所得的薄膜进行清洗、干燥，得到高分辨阵列有机薄膜。
所述电活性单体的化学结构式通式为XYn，其中X为发光基团，为苯、联苯、苯乙烯、萘、蒽、菲、芴、芘或上述基团的衍生物中的至少一种；Y为电活性基团，为呋喃、吡咯、噻吩、咔唑、乙烯、乙炔、苯胺、二苯胺、三苯胺中的至少一种；n为Y的个数；X与Y之间以烷基链、烷氧基链、氧基链中的至少一种相连接。
优选的，电活性单体的化学结构式通式为：
式中A为以下的其中一种：
n为1或2。
该类电活性单体的合成方法可参考文献1：Yao L,Xue S,Wang Q,Et Al.RGB SmallMolecules Based on a Bipolar Molecular Design for Highly Efficient Solution-Processed Single-Layer OLEDs.Chem.Eur.J.2012,18,2707-2714。
进一步优选的，所述电活性单体的化学结构式为：
式中A为n为1或2；
再进一步优选的，所述电活性单体的化学结构式为：
式中A为n为2，即所述电沉积单体的化学结构式为：
本发明将该电活性单体命名为OCBzC。
优选的，步骤2)所述电解池体系为三电极体系，其中参比电极为Ag/Ag+电极、Ag/AgCl电极、氢标准电极、饱和甘汞电极中的其中一种；辅助电极为Ti电极或Pt电极；进一步优选的，步骤2)所述电解池体系为三电极体系，其中参比电极为Ag/Ag+电极，辅助电极为Ti电极。
优选的，步骤2)所述电活性单体溶液的浓度为10-6～103M；进一步优选的，步骤2)所述电活性单体溶液的浓度为1.6×10-4M。
优选的，步骤2)所述电解液的支持电解质由阴离子和阳离子组合而成，所述的阴离子为高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、六氟砷酸根离子中的至少一种；所述的阳离子为钠离子、钾离子、锂离子、铵根离子、四甲基铵离子、四乙基铵离子、四正丁基铵离子中的至少一种；进一步优选的，步骤2)所述电解液的支持电解质为四丁基六氟磷酸铵；再进一步的，所述支持电解质为0.1M的四丁基六氟磷酸铵溶液。
优选的，步骤2)所述电解液的溶剂为乙腈、二氯甲烷、聚碳酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、四氢呋喃、乙醇、氯苯、三氟硼酸乙醚中的至少一种；进一步优选的，步骤2)所述电解液的溶剂为乙腈、二氯甲烷、聚碳酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、四氢呋喃中的至少一种；再进一步优选的，步骤2)所述电解液的溶剂为乙腈与二氯甲烷的混合物，其中乙腈与二氯甲烷的体积比为2:3。
优选的，步骤3)所述的电化学沉积信号，其输入电压为-3～3V，扫描速度为1～5000mV/s；进一步优选的，步骤3)所述的电化学沉积信号，其输入电压为-1～1V，扫描速度为10～100mV/s；再一步优选的，步骤3)所述的电化学沉积信号，其输入电压为-0.5～0.87V，扫描速度为50mV/s；
上述制备所得的一种高分辨阵列有机薄膜在OLED显示屏制备中的应用。
进一步的，上述的应用，是以所述的高分辨阵列有机薄膜为发光层，通过真空蒸镀的方法制备OLED显示屏。
不同电极表面的扩散示意图如附图1所示。附图1中，(a)为平板电极上扩散示意图；(b)为单个带状微电极上的扩散示意图；(c)为阵列微电极上的扩散示意图。
结合附图1，进一步说明本发明的发明构思如下：常规电极的尺寸远远大于扩散层的厚度，常规电极表面的扩散为垂直于电极表面的半无限扩散(如图1中的(a)所示)，因此电极表面的扩散均匀，即传质速度是均匀的，因此在常规电极表面沉积得到的薄膜往往是均匀的。而高分辨率意味着显示屏基板的像素密度高，像素尺寸小，对电化学沉积过程而言，当像素电极至少在一维尺度小于25微米时，像素电极就变成了带状的微电极，而微电极的尺寸与扩散层厚度接近，当扩散层厚度大于电极尺寸时，电极表面既有垂直方向的轴向扩散，还有径向扩散，因此微电极表面的传质速率是不均匀的(如图1中的(b)所示)，在微电极上沉积的薄膜也不均匀，而用于OLED显示器中的薄膜要求均匀，否则容易导致器件产生漏电流，发光不均匀甚至短路等问题，因此单个微电极上沉积的不均匀薄膜很难应用到OLED显示领域。然而，对于阵列微电极来说，情况比较特殊，由于扩散层的厚度是一个随时间变化的值，阵列电极之间间隔比较小，当时间较长时(几十毫秒左右)，扩散层增大，不同像素电极间分隔的扩散层会融合在一起，变为线性扩散(如图1中的(c)所示)，表现出类似于平板电极的行为。而显示屏阵列基板中的所有像素即为阵列微电极，整个显示屏阵列基板相当于一个平板电极，从而可以使得微电极效应得到削弱。因此显示屏阵列基板上的像素越多，越密集，越有利于获得均匀的薄膜。原理上，将高分辨显示屏阵列基板上的阵列像素电极作为电解池体系中的工作电极，使电活性单体在显示屏阵列基板的阵列像素电极上聚合，沉积形成薄膜，即可得到高分辨阵列薄膜。因此电化学沉积技术可以作为一种高分辨阵列薄膜的沉积方法。
以下通过具体的实施例对本发明的内容作进一步详细的说明。
实施例：
一、高分辨阵列有机薄膜的制备
(1)将显示屏阵列基板上的所有像素电极作为工作电极：
本发明提供一电化学工作站7，安培计2，伏特计3，高分辨显示屏阵列基板1，参比电极4，辅助电极5，电解液6以及电解池8。将所述高分辨显示屏阵列基板1与辅助电极5分别连接电化学工作站7，并将所述显示屏阵列基板1与辅助电极5浸入盛装电解液6的电解池8中，所述电解液6中含有带电活性基团的电活性单体，将所述参比电极4置于辅助电极5、显示屏阵列基板1之间，参比电极4与电化学工作站7连接。电解池回路连接示意图如附图2所示。
高分辨显示屏阵列基板1的版图如附图3所示，所述显示屏阵列基板1包括衬底基板101，设于衬底基板101上的像素电极层102，所述像素电极层102包含呈矩阵分布的多个像素电极，所述所有像素电极通过金属线103连接到公共电极100，电沉积信号通过公共电极输入到所有的像素电极表面。显示屏阵列基板包含呈288×64阵列分布的像素电极，显示屏阵列基板对应的像素尺寸为40μm×120μm，有效尺寸为10μm×100μm，分辨率为210ppi，开口率为20％。
(2)通过电化学工作站输出电沉积信号，在通电状态的电解池回路的对应的显示屏阵列基板的所有像素电极上沉积得到阵列薄膜：
本实施例所用的电活性单体为上述提及的OCBzC，其是一种黄绿色单体，合成步骤参见上述的文献1。该单体分子结构主要包括两部分：1)发光中心：主要以芴为基本构筑单元，加上适当比例的电子受体苯并噻二唑作为发光中心；2)电活性中心：咔唑基团，并通过适当长度的柔性烷基链与发光中心相连。
将电活性黄绿光单体OCBzC溶解在体积比为2:3的乙腈与二氯甲烷的混合溶液中，浓度为1.6×10-4M。支持电解质为四丁基六氟磷酸铵，浓度为0.1M。本发明所使用的发光化合物微溶于乙腈，为了增加化合物的浓度，加入二氯甲烷增加发光化合物的溶解度。
在显示屏阵列基板上沉积黄绿光OCBzC薄膜的过程如下：
显示屏阵列基板上沉积OCBzC发光薄膜：以高分辨显示屏阵列基板的所有像素电极作为工作电极，置于电活性黄绿光单体OCBzC的电解液中，电化学工作站给显示屏阵列基板上的公共电极输入电沉积信号。
电解液为1.6×10-4MOCBzC的乙腈/二氯甲烷(体积比为2/3)的混合溶液，支持电解质为0.1M的四丁基六氟磷酸铵，参比电极为0.01M的Ag/Ag+电极，辅助电极金属钛板，电化学工作站给显示屏阵列基板上的公共电极输入相对于参比电极为-0.5～0.87V的电沉积信号。扫描速度为50mV/s，扫描圈数为11圈，得到的循环伏安曲线如附图4所示。从附图4可见，随着扫描圈数的增加，氧化和还原峰电流依次增加，表明电沉积薄膜的不断生长。显示屏阵列基板上沉积得到的OCBzC薄膜的显微镜图如附图5所示，附图5右下角的50μm为标尺。高分辨显示屏阵列基板上OCBzC单体的电极反应可逆性好，沉积得到的薄膜均匀平整且完全覆盖，精度可达10μm。原子力显微镜测试表明薄膜的粗糙度为1.98nm。
二、高分辨阵列有机薄膜的应用
将上述实施例沉积得到的OCBzC薄膜作为OLED显示屏的发光层制备高分辨率的OLED显示屏。
利用本实施例的高分辨阵列薄膜制备有机发光二极管器件的过程如下：
清洗后的电沉积高分辨率阵列薄膜，常温下在真空中烘干后，在低于3×10-4帕的真空条件下，蒸镀1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBi)作为电子传输层以及氟化铯(CsF)和金属铝(Al)作为OLED器件的阴极，蒸镀的TPBi，CsF和Al的厚度分别为30nm，1nm和120nm。器件结构为ITO/Au/OCBzC/TPBi/CsF/Al。其中电沉积的OCBzC发光薄膜厚度大约为80nm，Au的厚度为1nm。器件制备好后，对器件进行封装，即可获得高分辨率的OLED显示屏。
利用恒压电源给封装好的OLED显示屏的阳极(ITO)、阴极(Al)施加电压，可以得到发射黄绿光的高分辨OLED显示屏。
三、对比分析
(1)与喷墨打印技术比较，本发明中的电化学沉积方法不存在对位问题，没有对位误差，薄膜精确定位沉积，沉积得到的薄膜完全覆盖像素表面，且分布均匀形貌平整，可以很容易的在高分辨率基板上电沉积上高分辨率的均匀平整薄膜，且显示屏的像素密度越高(即开口率越高)越有利于获得均匀平整的薄膜。
而喷墨打印技术在液滴打印过程中会发生液滴的偏移，导致液滴偏离像素坑，从而产生定位误差，严重影响了打印精度，可参见文献2：Lee,Dongwon,et al."P-66:Ink JetPrinted Full Color Polymer LED Displays."SID Symposium Digest of TechnicalPapers.2005,36,527-529。且由于不同位置的墨水的蒸发速率不一致，容易导致形成的薄膜分布不均匀，且像素密度越高，像素尺寸越小越难精准定位，也越容易产生交叉干扰。如文献2显示在尺寸103μm×309μm的像素上打印PEDT:PSS聚合物溶液时形成的不均匀薄膜。
(2)与精细金属掩膜蒸镀技术比较，本发明的优势如下：
1、精细金属掩膜蒸镀技术设备复杂，需要高的真空度，精细金属掩膜板，成本高；本发明设备简单，操作简易，实验过程可在常温常压下完成，无需精细掩膜板以及高真空度，成本低。
2、精细金属掩膜蒸镀技术需要将精细掩膜板与CCD像素对位，像素越密集，对位的精准性越低，对位误差越大；本发明不存在对位问题，没有对位误差，薄膜精确定位沉积，且显示屏的像素密度越高越有利于获得均匀平整的薄膜。
总体而言，电化学沉积技术是利用电活性单体在电极与溶液接触界面发生氧化或还原偶联反应，从而在电极上形成聚合物薄膜的方法，其特点是工艺简单，成本低，薄膜的形貌、厚度、聚集态结构等性质可以通过对电化学沉积方法及条件的选择进行精确调控，电化学沉积技术可以一步完成聚合物薄膜的合成和定向沉积成膜。所以，本发明所述的电化学沉积技术具有以下特点：
1、显示屏阵列基板上呈阵列分布的像素类似于阵列微电极，其上的电化学行为类似于平板电极上的电化学行为，大大削弱了微电极效应，使得在显示屏阵列基板上可以通过电化学沉积得到与平板电极上相似的均匀平整薄膜。
2、显示屏阵列基板上的像素越多，密度越大，越有利于削弱微电极效应，因此大尺寸高密度的显示屏阵列基板更有利于获得均匀平整的电化学沉积薄膜。
3、电化学沉积技术在高分辨显示屏阵列基板上可以很容易的沉积得到均匀平整的高分辨阵列薄膜，且实验设备简单，操作简易，实验过程可在常温常压下完成，无需精细掩膜板以及高真空度。

Claims (9)

1.一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，其特征在于：利用电化学沉积的方法，使电活性单体在高分辨显示屏阵列基板上聚合，沉积形成高分辨阵列有机薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
1)准备高分辨显示屏阵列基板，显示屏阵列基板包括衬底基板和像素电极层，像素电极层中的像素电极呈矩形阵列分布；
2)建立电解池体系，以高分辨显示屏阵列基板的像素电极为工作电极，电活性单体溶液为电解液；
3)给电解池施加电化学沉积信号，使电活性单体在像素电极表面聚合，沉积形成薄膜；
4)对步骤3)所得的薄膜进行清洗、干燥，得到高分辨阵列有机薄膜。
3.根据权利要求1或2所述的一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，其特征在于：电活性单体的化学结构式通式为XYn，其中X为发光基团，为苯、联苯、苯乙烯、萘、蒽、菲、芴、芘或上述基团的衍生物中的至少一种；Y为电活性基团，为呋喃、吡咯、噻吩、咔唑、乙烯、乙炔、苯胺、二苯胺、三苯胺中的至少一种；n为Y的个数；X与Y之间以烷基链、烷氧基链、氧基链中的至少一种相连接。
4.根据权利要求3所述的一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，其特征在于：电活性单体的化学结构式通式为：
式中A为以下的其中一种：
n为1或2。
5.根据权利要求2所述的一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，其特征在于：步骤2)所述电解池体系为三电极体系，其中参比电极为Ag/Ag+电极、Ag/AgCl电极、氢标准电极、饱和甘汞电极中的其中一种；辅助电极为Ti电极或Pt电极。
6.根据权利要求5所述的一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，其特征在于：步骤2)所述电解液的支持电解质由阴离子和阳离子组合而成，所述的阴离子为高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、六氟砷酸根离子中的至少一种；所述的阳离子为钠离子、钾离子、锂离子、铵根离子、四甲基铵离子、四乙基铵离子、四正丁基铵离子中的至少一种。
7.根据权利要求5所述的一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，其特征在于：步骤2)所述电解液的溶剂为乙腈、二氯甲烷、聚碳酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、四氢呋喃、乙醇、氯苯、三氟硼酸乙醚中的至少一种。
8.根据权利要求2所述的一种高分辨阵列有机薄膜的制备方法，其特征在于：步骤3)所述的电化学沉积信号，其输入电压为-3～3V，扫描速度为1～5000mV/s。
9.权利要求1制备所得的一种高分辨阵列有机薄膜在OLED显示屏制备中的应用。
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