CN107188416A - 一种改良型透明釉料 - Google Patents
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Abstract
本发明公开的一种改良型透明釉料,其特征在于,由以下重量分数的各组分组成:界牌泥20~22份,云母3~10份,苏州土4~7份,氢氧化铁2~4份,氧化铜1~2份,洗泥15~17份,滑石粉11~13份,石英粉13~15份,腐植酸钠3~5份,瓷粉9~11份,球石5~7份,膨润土12~14份,铝粉6~8份。采用本发明的透明釉料烧制出来的瓷器透明度高,声音清脆,色泽度好且稳定。
Description
技术领域
本发明涉及釉料制备技术领域,特别涉及一种改良型透明釉料。
背景技术
透明釉是指通过釉层可以看见釉下坯体的颜色以及各种雕刻和彩饰的釉,分为无色和着色清沏透明的釉。透明釉的种类较多,如日用瓷和卫生瓷上用的石灰釉、长石釉以及釉面砖上使用的铅硼釉等。但是目前的透明釉存在着烧制出来的瓷器存在透明度不高,声音不清脆的问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于针对现有透明釉所存在上述技术问题而提供一种烧制出来的瓷器透明度高,声音清脆的改良型透明釉料。
本发明所要解决的技术问题可以通过以下技术方案来实现:
一种改良型透明釉料,由以下重量分数的各组分组成:界牌泥20~22份,云母3~10份,苏州土4~7份,氢氧化铁2~4份,氧化铜1~2份,洗泥15~17份,滑石粉11~13份,石英粉13~15份,腐植酸钠3~5份,瓷粉9~11份,球石5~7份,膨润土12~14份,铝粉6~8份。
在本发明的一个优选实施例中,所述改良型透明釉料由以下重量分数的各组分组成:界牌泥20.60份;云母8份,苏州土5份,氢氧化铁3份,氧化铜2份,洗泥16.15份,滑石粉12.10份,石英粉13.50份,腐植酸钠3.24份,瓷粉9.45份,球石5.33份,膨润土12.71份,铝粉6.92份。
本发明的改良型透明釉料按照常规的透明釉料制备方法进行制备。
由于采用了如上的技术方案,采用本发明的改良型透明釉料烧制出来的瓷器透明度高,声音清脆,色泽度好且稳定。
具体实施方式
实施例1
一种改良型透明釉料,由以下重量分数的各组分组成:界牌泥20份,云母3份,苏州土4份,氢氧化铁2份,氧化铜1份,洗泥15份,滑石粉11份,石英粉13份,腐植酸钠3份,瓷粉9份,球石5份,膨润土12份,铝粉6份。
实施例2
一种改良型透明釉料,由以下重量分数的各组分组成:界牌泥20.60份;云母8份,苏州土5份,洗泥16.15份,氢氧化铁3份,氧化铜2份,滑石粉12.10份,石英粉13.50份,腐植酸钠3.24份,瓷粉9.45份,球石5.33份,膨润土12.71份,铝粉6.92份。
实施例3
一种改良型透明釉料,由以下重量分数的各组分组成:界牌泥22份,云母10份,苏州土7份,氢氧化铁4份,氧化铜1.5份,洗泥17份,滑石粉13份,石英粉15份,腐植酸钠5份,瓷粉11份,球石7份,膨润土14份,铝粉8份。
显然,本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例,而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。
Claims (2)
1.一种改良型透明釉料,其特征在于,由以下重量分数的各组分组成:界牌泥20~22份,云母3~10份,苏州土4~7份,氢氧化铁2~4份,氧化铜1~2份,洗泥15~17份,滑石粉11~13份,石英粉13~15份,腐植酸钠3~5份,瓷粉9~11份,球石5~7份,膨润土12~14份,铝粉6~8份。
2.如权利要求1所述的一种改良型透明釉料,其特征在于,所述透明釉料由以下重量分数的各组分组成:界牌泥20.60份;云母8份,苏州土5份,氢氧化铁3份,氧化铜2份,洗泥16.15份,滑石粉12.10份,石英粉13.50份,腐植酸钠3.24份,瓷粉9.45份,球石5.33份,膨润土12.71份,铝粉6.92份。
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Publications (1)
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CN107188416A true CN107188416A (zh) | 2017-09-22 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104496557A (zh) * | 2014-12-04 | 2015-04-08 | 谢梓潼 | 一种橄榄绿透明釉 |
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2017
- 2017-07-17 CN CN201710582351.1A patent/CN107188416A/zh active Pending
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |