CN107065448A - 一种多光谱混合波合束光源与曝光机 - Google Patents

一种多光谱混合波合束光源与曝光机 Download PDF

Info

Publication number
CN107065448A
CN107065448A CN201710174525.0A CN201710174525A CN107065448A CN 107065448 A CN107065448 A CN 107065448A CN 201710174525 A CN201710174525 A CN 201710174525A CN 107065448 A CN107065448 A CN 107065448A
Authority
CN
China
Prior art keywords
light source
light
light beam
mixed
multispectral
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710174525.0A
Other languages
English (en)
Inventor
林国栋
张松岭
黄明明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Hymson Laser Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen Hymson Laser Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Hymson Laser Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen Hymson Laser Technology Co Ltd
Priority to CN201710174525.0A priority Critical patent/CN107065448A/zh
Publication of CN107065448A publication Critical patent/CN107065448A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10—Beam splitting or combining systems

Abstract

本发明涉及光学设备领域，公开了一种多光谱混合波合束光源与曝光机，其中光源包括第一光源、第二光源与光源合束镜，光源合束镜设于第一光源与第二光源所射出的光束的相交处，其可对第一光源射出的第一光束进行折射，以及对第二光源射出的第二光束进行反射，第二光束经反射后沿第一光束前进的方向射出，以与第一光束形成混合光束。本发明通过光源合束镜的折射及反射功能可以获得包含至少两种波长的混合光束，该混合光束在与待曝光玻璃上的油墨反应时能满足曝光工艺中的能量需求，同时混合光束中的各组成光束相互平行，从而可以保证曝光的尺寸精度，达到最佳的固化效果。

Description

一种多光谱混合波合束光源与曝光机
技术领域
本发明涉及光学设备领域，尤其是涉及一种可实现光束合束的光源，以及应用该光源的曝光机。
背景技术
随着技术的进步，手机的屏幕玻璃已经从纯平面的普通玻璃发展为3D玻璃。3D玻璃的边缘以及中间面均为圆弧面，可以提供更加完美的视觉享受，然而曲面的存在也使得现有的丝印工艺无法适应3D玻璃的生产，基于此，手机盖板曝光工艺应运而生，曝光工艺的核心在于曝光光源，现有技术中的光源多为单波长的光源或散射的光源，其中单波长的光源能量达不到新型玻璃油墨的固化要求，而散射光源由于不平行，曝光玻璃时无法保证玻璃图案的尺寸精度，因此人们亟需一种既可以满足能量需求，又可以保证精度的光源。
发明内容
为了克服现有技术的不足，本发明提供一种多光谱混合波合束光源，以及应用该光源的曝光机。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种多光谱混合波合束光源，包括第一光源、第二光源与光源合束镜，光源合束镜设于第一光源与第二光源所射出的光束的相交处，其可对第一光源射出的第一光束进行折射，以及对第二光源射出的第二光束进行反射，第二光束经反射后沿第一光束前进的方向射出，以与第一光束形成混合光束。
作为上述方案的进一步改进方式，第一光束的波长为345nm-405nm。
作为上述方案的进一步改进方式，第一光源的波长为355nm。
作为上述方案的进一步改进方式，第二光束的波长为305nm-340nm。
作为上述方案的进一步改进方式，第二光束的波长为325nm。
作为上述方案的进一步改进方式，第一光源与第二光源均包括集光镜与LED芯片，多个LED芯片所射出的光束经过集光镜后平行射出。
作为上述方案的进一步改进方式，第一光束与第二光束正交，光源合束镜与第一光束、第二光束之间的夹角均为45°。
一种曝光机，包括上述的多光谱混合波合束光源。
本发明的有益效果是：
通过光源合束镜的折射及反射功能可以获得包含至少两种波长的混合光束，该混合光束在与待曝光玻璃上的油墨反应时能满足曝光工艺中的能量需求，同时混合光束中的各组成光束相互平行，从而可以保证曝光的尺寸精度，达到最佳的固化效果。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明一个实施例的正视图；
图2是本发明的光路示意图。
具体实施方式
以下将结合实施例和附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整的描述，以充分地理解本发明的目的、方案和效果。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
需要说明的是，如无特殊说明，当某一特征被称为“固定”、“连接”在另一个特征，它可以直接固定、连接在另一个特征上，也可以间接地固定、连接在另一个特征上。此外，本发明中所使用的上、下、左、右等描述仅仅是相对于附图中本发明各组成部分的相互位置关系来说的。
此外，除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与本技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例，而不是为了限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的组合。
参照图1，示出了本发明一个光源实施例的正视图。如图所示，本发明包括有第一光源100、第二光源200、光源合束镜300与机箱400，第一光源100、第二光源200与光源合束镜300均固定在机箱400内，机箱400的一侧侧壁上设有出光孔。
参照图2，示出了本发明的光路示意图。如图所示，第一光源100射出的光束为第一光束101，第二光源200射出的光束为第二光束201，第一光源100的光束发射方向与第二光源200的光束发射方向相交，光源合束镜300则设于第一光束101与第二光束201的相交处。其中，本发明中的光源合束镜300可对一定波长区间内的光束进行折射，并对另一波长区间内的光束进行反射，具体到本实施例，光源合束镜300对第一光束101进行折射，并对第二光束201进行反射，第二光束201经反射后沿第一光束101前进的方向射出，以与第一光束101形成混合光束。如此，通过光源合束镜300的折射及反射功能可以获得包含至少两种波长的混合光束，该混合光束在与待曝光玻璃上的油墨反应时能满足曝光工艺中的能量需求，同时混合光束中的各组成光束相互平行，从而可以保证曝光的尺寸精度，达到最佳的固化效果。
第一光束的波长为345nm-405nm，优选为355nm。第二光束的波长为305nm-340nm，优选为325nm。
本实施例中第一光源100竖直放置，第二光源200水平放置，第一光束与第二光束正交，光源合束镜300与第一光束、第二光束之间的夹角均为45°，如此可以保证第二光束被光源合束镜300反射后沿第一光束前进的方向射出，从而与第一光束形成混合光束。
除上述实施例外，光源合束镜300与第一光束之间的夹角可以进行调整，第一光束与第二光束之间的角度也需要对应调整，以保证第二光束经反射后可与第一光束平行混合。
本实施例中第一光源与第二光源均为LED光源，具体包括集光镜与LED芯片，其中多个LED芯片形成若干点光源，点光源所射出的光束经过集光镜折射后平行射出，LED芯片与集光镜均可以采用已知的方案，在此不作具体限定。当然，第一光源与第二光源也可以采用除LED光源之外的已知光源结构，在此同样不作具体限定。
本发明还公开了一种应用上述多光谱混合波合束光源的曝光机。
以上是对本发明的较佳实施进行了具体说明，但本发明创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本发明精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换，这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。

Claims (8)

1.一种多光谱混合波合束光源，其特征在于，包括第一光源、第二光源与光源合束镜，所述光源合束镜设于所述第一光源与第二光源所射出的光束的相交处，其可对所述第一光源射出的第一光束进行折射，以及对所述第二光源射出的第二光束进行反射，所述第二光束经反射后沿所述第一光束前进的方向射出，以与所述第一光束形成混合光束。
2.根据权利要求1所述的多光谱混合波合束光源，其特征在于，所述第一光束的波长为345nm-405nm。
3.根据权利要求2所述的多光谱混合波合束光源，其特征在于，所述第一光源的波长为355nm。
4.根据权利要求1所述的多光谱混合波合束光源，其特征在于，所述第二光束的波长为305nm-340nm。
5.根据权利要求4所述的多光谱混合波合束光源，其特征在于，所述第二光束的波长为325nm。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的多光谱混合波合束光源，其特征在于，所述第一光源与第二光源均包括集光镜与LED芯片，多个所述LED芯片所射出的光束经过对应所述集光镜后平行射出。
7.根据权利要求6所述的多光谱混合波合束光源，其特征在于，所述第一光束与第二光束正交，所述光源合束镜与所述第一光束、第二光束之间的夹角均为45°。
8.一种曝光机，其特征在于，包括权利要求1至7中任一项所述的多光谱混合波合束光源。
CN201710174525.0A 2017-03-22 2017-03-22 一种多光谱混合波合束光源与曝光机 Pending CN107065448A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710174525.0A CN107065448A (zh) 2017-03-22 2017-03-22 一种多光谱混合波合束光源与曝光机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710174525.0A CN107065448A (zh) 2017-03-22 2017-03-22 一种多光谱混合波合束光源与曝光机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107065448A true CN107065448A (zh) 2017-08-18

Family

ID=59620907

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710174525.0A Pending CN107065448A (zh) 2017-03-22 2017-03-22 一种多光谱混合波合束光源与曝光机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107065448A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107765513A (zh) * 2017-12-05 2018-03-06 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 一种用于液晶面板制造的紫外led曝光系统
CN111273522A (zh) * 2020-04-11 2020-06-12 苏州源卓光电科技有限公司 一种基板的曝光方法及加工方法
CN111290222A (zh) * 2020-04-11 2020-06-16 苏州源卓光电科技有限公司 一种油墨层的加工方法
CN112415866A (zh) * 2020-12-17 2021-02-26 张家港中贺自动化科技有限公司 一种能够高效曝光的无掩模光刻系统

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102289079A (zh) * 2011-07-22 2011-12-21 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种以布儒斯特角入射的波长合束镜装置
CN202486497U (zh) * 2012-01-13 2012-10-10 合肥芯硕半导体有限公司 多波长无掩膜曝光装置
CN203037933U (zh) * 2012-12-10 2013-07-03 中视迪威激光显示技术有限公司 激光光源合光系统
CN103944069A (zh) * 2014-05-09 2014-07-23 西安炬光科技有限公司 一种高功率半导体激光器合束装置
CN106054538A (zh) * 2016-06-13 2016-10-26 马颖鏖 紫外曝光机光学混光照明系统
CN107450274A (zh) * 2016-05-31 2017-12-08 上海微电子装备（集团）股份有限公司 照明光学系统及采用该照明光学系统的光刻设备

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102289079A (zh) * 2011-07-22 2011-12-21 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种以布儒斯特角入射的波长合束镜装置
CN202486497U (zh) * 2012-01-13 2012-10-10 合肥芯硕半导体有限公司 多波长无掩膜曝光装置
CN203037933U (zh) * 2012-12-10 2013-07-03 中视迪威激光显示技术有限公司 激光光源合光系统
CN103944069A (zh) * 2014-05-09 2014-07-23 西安炬光科技有限公司 一种高功率半导体激光器合束装置
CN107450274A (zh) * 2016-05-31 2017-12-08 上海微电子装备（集团）股份有限公司 照明光学系统及采用该照明光学系统的光刻设备
CN106054538A (zh) * 2016-06-13 2016-10-26 马颖鏖 紫外曝光机光学混光照明系统

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107765513A (zh) * 2017-12-05 2018-03-06 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 一种用于液晶面板制造的紫外led曝光系统
CN111273522A (zh) * 2020-04-11 2020-06-12 苏州源卓光电科技有限公司 一种基板的曝光方法及加工方法
CN111290222A (zh) * 2020-04-11 2020-06-16 苏州源卓光电科技有限公司 一种油墨层的加工方法
CN112415866A (zh) * 2020-12-17 2021-02-26 张家港中贺自动化科技有限公司 一种能够高效曝光的无掩模光刻系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107065448A (zh) 一种多光谱混合波合束光源与曝光机
CN106442544B (zh) 全景成像系统
CN105393048B (zh) 前照灯装置
CN105209938B (zh) 光束控制部件、发光装置、照明装置以及成型模具
CN102566079B (zh) 激光光源装置
CN103672664A (zh) 车用照明装置
CN106125482A (zh) 激光光源及激光投影设备
CN107884869A (zh) 一种防漏光导光板的背光模组
CN107166290A (zh) 一种照明模组及具有该照明模组的车灯
CN101701693B (zh) 发光装置
CN104456301B (zh) 一种led光源模块、led灯条和直下式背光模组
CN104896366B (zh) 一种背光模组、显示模组和显示装置
CN206741196U (zh) 一种多光谱混合波合束光源与曝光机
US11408577B2 (en) Transparent photoconductor having light shielding function, and application thereof
CN104748021A (zh) 一种led照明装置
CN208383739U (zh) 一种aoi相机及光源模组
CN206400247U (zh) 一种cf‑lcos照明光学系统
CN106154730B (zh) 一种增加对比度和亮度的投影屏幕及其制作方法
CN205824922U (zh) 投光灯透镜、具有该投光灯透镜的发光模块和投光灯
CN206682771U (zh) 一种透镜及应用该透镜的照明装置
CN201765380U (zh) 三向光学照明系统
CN207502764U (zh) 一种防漏光导光板的背光模组
CN203771228U (zh) 一种led照明装置
CN108896566A (zh) 一种aoi相机及光源模组
CN105715997A (zh) 一种led投光灯

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20170818