CN107051349A - 化学液体的等离子体处理方法及设备 - Google Patents

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CN107051349A CN201710319307.1A CN201710319307A CN107051349A CN 107051349 A CN107051349 A CN 107051349A CN 201710319307 A CN201710319307 A CN 201710319307A CN 107051349 A CN107051349 A CN 107051349A
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Suzhou Long Water Treatment Technology Co Ltd
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    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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Abstract

本发明提供了一种化学液体的等离子体处理方法及设备,涉及化学液体处理技术领域,该化学液体的等离子体处理方法包括以下步骤:将待处理液体进行雾化处理后与等离子体混合形成气液混合物,气液混合物中的等离子体与待处理液体的雾滴反应,以实现对液体的处理。该处理设备包括用于盛放待处理液体的容器,容器设有进液口、出液口和用于连通等离子体发生器的进气口;容器连接有用于雾化待处理液体的雾化器;出液口通过循环管路与进液口连通,循环管路上设有循环泵。利用该化学液体的等离子体处理方法及设备缓解了现有技术中用等离子体处理液体时电耗高、热转化高、投资成本高及反应效率低的技术问题,达到了降低电能损耗及提高反应效率的技术效果。

Description

化学液体的等离子体处理方法及设备
技术领域
本发明涉及化学液体处理技术领域,尤其是涉及一种化学液体的等离子体处理方法及设备。
背景技术
等离子体是物质的第四态,是由大量的自由电子和离子组成、且在整体上表现为电中性的电离气体。等离子体在放电时能产生大量的OH·自由基,OH·自由基可以诱发一系列的自由基链式反应,进而可以应用于污水处理中。OH·自由基具备大规模链式反应能力,反应迅速而无选择性,可以攻击水中的各种污染物,使之降解为二氧化碳、水或其他矿物盐,能有效去除污水中的有机物,并且不会产生二次污染。一些在“三态”条件下不能进行的化学反应可在等离子状态下进行。等离子体处理污染物兼具物理、化学和生物反应。
目前,用等离子体技术处理污水是在污水中产生等离子体并与污水中的有害物质进行反应。由于水的介电常数比较大,等离子体发生器的正负极要克服水的介电常数将气体电离才能产生等离子体,这一过程要损耗大量的电能,造成电能不必要的损耗。另外,由于等离子体发生器的正负极直接与污水接触,对正负极通电后将有一部分的电能用于对污水液体的加热,因此在液相中直接电离产生等离子体,焦耳热高和热转化高,电耗高,从而造成了电能的浪费。同时,由于需要的电能大,对等离子体设备的电源及设备的安装保护要求较高,投资巨大,企业往往难以承担。此外,在液相中,气体电离后产生的等离子体在电极附近与污水反应,由于直接作用与液体内部,因此反应面积小,不利于反应的进行,从而降低了反应效率且难以降解顽固化学污染物。
发明内容
本发明的第一目的在于提供一种化学液体的等离子体处理方法,以缓解现有技术的用等离子体处理液体时电耗高、热转化高、投资成本高及反应效率低的技术问题。
本发明的第二目的在于提供一种处理设备,利用该处理设备对液体进行等离子体处理可以缓解目前的处理设备中对设备安装保护要求高、设备成本高以及反应速度慢、难以反应降解顽固化学污染物的技术问题。
为了实现本发明的上述目的,特采用以下技术方案:
一种化学液体的等离子体处理方法,包括以下步骤:
将待处理液体进行雾化处理后与等离子体混合形成气液混合物,气液混合物中的等离子体与待处理液体的雾滴反应,以实现对液体的处理。
进一步的,包括以下步骤:
雾化处理:先将部分待处理液体进行雾化处理,得到雾滴颗粒;
与等离子体反应:雾滴颗粒与等离子体混合形成气液混合物,气液混合物中的等离子体与待处理液体的雾滴反应后得到的产物溶于剩余的待处理液体中;
重复雾化以及与等离子体反应的步骤直至全部的待处理液体被处理。
进一步的,待处理液体经雾化后所得雾滴颗粒的尺寸为0.2-200微米。
进一步的,所述等离子体的气源包括待化学液体蒸汽、空气、水蒸气、氧气、氮气或二氧化碳中的任意一种。
一种实现上述化学液体的等离子体处理方法的处理设备,包括用于盛放待处理液体的容器,所述容器设有进液口、出液口和用于连通等离子体发生器的进气口;所述容器连接有用于雾化待处理液体的雾化器;
所述出液口通过循环管路与所述进液口连通,所述循环管路上设有循环泵。
进一步的,所述雾化器设置于所述出液口处。
进一步的,所述雾化器设置于所述进液口处。
进一步的,所述雾化器设置于容器内部并连接于进液口处循环管路向容器内的延伸部。
进一步的,所述雾化器设置于所述容器的底部。
进一步的,所述容器的顶部设有用于防止容器内压力过高的限压阀。
进一步的,所述限压阀连接排气时用于防止液体成分流失的汽水分离器。
一种实现上述化学液体的等离子体处理方法的处理设备,包括用于盛放待处理液体的第一容器、用于生成气液混合物的第二容器和用于雾化所述待处理液体的雾化器;
所述第一容器包括第一进液口和第一出液口,所述第二容器包括第二进液口和第二出液口;所述第一出液口与所述第二进液口通过第一管道相连通,所述第二出液口与所述第一进液口通过第二管道相连通;所述第一管道和所述第二管道上均设有循环泵;
所述第二容器还包括有进气口,所述进气口连接有等离子体发生器。
进一步的,所述雾化器设置于所述第一出液口处;
或,所述雾化器设置于所述第二进液口处;
或,所述雾化器设置于所述第一容器的底部;
或,所述雾化器设置于所述第二容器的内部并与第一管道在第二进液口处向内的延伸部连接。
与已有技术相比,本发明具有如下有益效果:
(1)化学液体的等离子体处理方法的有益效果:
通过将待处理液体进行雾化处理,使待处理液体成为雾滴颗粒,然后通入等离子体,此时待处理液体雾滴颗粒悬浮于等离子体中,等离子体与雾滴颗粒混合,形成密集且稳定的气溶胶,形成气包液,进而形成气液界面,使等离子体与待处理液体在气包液的气液界面进行反应,从而净化待处理液体。与传统液相中的电离激发反应相比,由于气包液结构中的气液界面增加了反应界面的比表面积,因此雾滴颗粒与等离子体形成气包液结构后,等离子体与待处理液体的反应效率更高。
在本发明提供的液体处理方法中,等离子体发生器并未直接在待处理液体中进行反应电离,而是直接对气体进行等离子体激发,因此,只需要较低的电能即可产生出等离子体,从而降低了电能的损耗。
(2)处理设备的有益效果:
本发明提供的处理设备中,等离子体发生器与用于盛放待处理液体的容器通过容器上的进气口连通,等离子体发生器中的电极部分并未直接接触容器内部的待处理液体,而是与待处理液体隔离。等离子体发生器在容器10外部对气体进行激发电离,然后再将等离子体通入到容器中。此过程中,只气体被电离激发。由于电离激发直接作用于气体,因此处理过程中对能耗及等离子体设备的安全防护要求大幅降低。
另外,通过雾化器对待处理液体进行雾化处理后从进液口通入容器中,与等离子气体混合生成气溶胶式的气包液结构,并在气包液结构中的气液表面进行反应,反应后再进入待处理液体内部。然后再循环泵的作用下,再重复上述反应过程,从而实现连续循环界面反应,由于反应比表面积的增加,进而提高了反应效率,同时能够降解化学液体中的顽固污染物。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例4提供的处理设备的结构示意图;
图2为本发明实施例5提供的处理设备的结构示意图;
图3为本发明实施例6提供的处理设备的结构示意图;
图4为本发明实施例7提供的处理设备的结构示意图;
图5为本发明实施例8提供的处理设备的结构示意图;
图6为本发明实施例9提供的处理设备的结构示意图。
图标:10-容器;101-进液口;102-出液口;103-进气口;110-第一容器;111-第一进液口;112-第一出液口;120-第二容器;121-第二进液口;122-第二出液口;20-等离子体发生器;30-雾化器;40-循环泵。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本发明的一个方面提供了一种化学液体的等离子体处理方法,包括以下步骤:
将待处理液体进行雾化处理后与等离子体混合形成气液混合物,气液混合物中的等离子体与待处理液体的雾滴反应,以实现对液体的处理。
通过将待处理液体进行雾化处理,使待处理液体成为雾滴颗粒,然后通入等离子体,此时待处理液体雾滴颗粒悬浮于等离子体中,等离子体与雾滴颗粒混合,形成密集且稳定的气溶胶,形成气包液,进而形成气液界面,使等离子体与待处理液体在气包液的气液界面进行反应,从而净化待处理液体。与传统液相中的电离激发反应相比,由于气包液结构中的气液界面增加了反应界面的比表面积,因此雾滴颗粒与等离子体形成气包液结构后,等离子体与待处理液体的反应效率更高。
在本发明提供的液体处理方法中,等离子体发生器并未直接在待处理液体中进行反应电离,而是直接对气体进行等离子体激发,因此,只需要较低的电能即可产生出等离子体,从而降低了电能的损耗。
本发明中的化学液体非限制性的例如为:造纸污水、印染污水、皮革污水、医疗污水或石油化工污水。
其中雾化方式包括雾化器造雾或微孔造雾或其他形式。
作为本发明优选的实施方式,包括以下步骤:
雾化处理:先将部分待处理液体进行雾化处理,得到雾滴颗粒;
与等离子体反应:雾滴颗粒与等离子体混合形成气液混合物,气液混合物中的等离子体与待处理液体的雾滴反应后得到的产物溶于剩余的待处理液体中;
重复雾化以及与等离子体反应的步骤直至全部的待处理液体被处理。
重复进行可待处理液体与等离子体的反应更加充分,并且循环进行可以在同一容器内完成,有利于节约设备成本。
作为本发明优选的实施方式,待处理液体经雾化后所得雾滴颗粒的尺寸为0.2-200微米。
作为本发明进一步优选的实施方式,待处理液体经雾化后所得雾滴颗粒的尺寸为10-150微米。
作为本发明进一步优选的实施方式,待处理液体经雾化后所得雾滴颗粒的尺寸为30-110微米。
待处理液体雾化后得到的雾滴颗粒尺寸过小,气液界面的比表面积较大,反应效率增加效果明显,但气液分离困难。待处理液体雾滴颗粒尺寸过大,雾滴颗粒的稳定性较差,同时,尺寸太大还会影响雾滴颗粒内部待处理液体与等离子体的反应,不利于反应的进行。因此,本发明的优选实施方式中通过通入特定尺寸的雾滴颗粒,使反应效率的达到最大化。
作为本发明优选的实施方式,所述等离子体的气源包括化学液体蒸汽、空气、水蒸气、氧气、氮气或二氧化碳中的任意一种。
作为本发明的优选实施方式,等离子体的气源为待处理液体蒸汽。化学液体蒸汽气源除了可以为待处理液体蒸汽外,还可以根据待处理液体的化学性质选用其他化学液体的蒸汽。
实施例1
一种化学液体的等离子体处理方法,包括以下步骤:
步骤a):先将部分待处理液体先进行雾化处理,得到尺寸为0.2-30微米的待处理液体雾滴颗粒;
步骤b):将雾滴颗粒与等离子体(空气在等离子体发生器中激发产生的等离子体)混合形成气液混合物,气液混合物中的等离子体与雾滴颗粒中的待处理液体反应后得到的产物溶于剩余的待处理液体中;
重复进行步骤a)和步骤b)直至全部的待处理液体被完全处理,从而实现对液体的处理。
本实施例中,待处理液体为污水。上述等离子体发生器中产生的等离子体与污水的雾滴颗粒中的有机物反应生成水或二氧化碳等无害物质,从而达到去除有机物的目的。
实施例2
一种化学液体的等离子体处理方法,包括以下步骤:
步骤a):先将部分待处理液体先进行雾化处理,得到尺寸为30-110微米的待处理液体雾滴颗粒;
步骤b):将雾滴颗粒与等离子体(空气在等离子体发生器中激发产生的等离子体)混合形成气液混合物,气液混合物中的等离子体与雾滴颗粒中的待处理液体反应后得到的产物溶于剩余的待处理液体中;
重复进行步骤a)和步骤b)直至全部的待处理液体被完全处理,从而实现对液体的处理。
本实施例中,待处理液体为污水。上述等离子体发生器中产生的等离子体与污水的雾滴颗粒中的有机物反应生成水或二氧化碳等无害物质,从而达到去除有机物的目的。
实施例3
一种化学液体的等离子体处理方法,包括以下步骤:
步骤a):先将部分待处理液体先进行雾化处理,得到尺寸为110-200微米的待处理液体雾滴颗粒;
步骤b):将雾滴颗粒与等离子体(空气在等离子体发生器中激发产生的等离子体)混合形成气液混合物,气液混合物中的等离子体与雾滴颗粒中的待处理液体反应后得到的产物溶于剩余的待处理液体中;
重复进行步骤a)和步骤b)直至全部的待处理液体被完全处理,从而实现对液体的处理。
本实施例中,待处理液体为污水。上述等离子体发生器中产生的等离子体与污水的雾滴颗粒中的有机物反应生成水或二氧化碳等无害物质,从而达到去除有机物的目的。
对比例1
使用传统的污水处理工艺电芬顿法进行污水处理。在污水处理池中直接用等离子体发生器产生等离子体,产生的等离子体与污水中的有机物反应,以达到去除有机物的目的。
试验数据对比:
用实施例1-3和对比例1提供的方法各处理同样浓度的印染污水1吨,将各实施例和对比例中耗电量及处理时间列于表1。
表1耗电量及处理时间对比
处理指标 实施例1 实施例2 实施例3 对比例1
耗电量/kW·h 105 45 78 157
处理时间/min 75 32 45 270
由表1可知,实施例1-3中的耗电量比对比例1中的耗电量降低了33%以上,其中,实施例2中的耗电量最少,与对比例1相比耗电量降低了70%,由此可见,本发明提供的处理方法能够显著降低能耗。同时,对比例1中的处理时间为270min,而实施例1-3中的处理时间为32-75min,由此可知,本发明提供的处理方法可以显著缩短处理时间,提高处理效率。
另外,实施例1-3中处理方法均相同,不同的是雾化后得到的雾滴颗粒的尺寸不同,从表1中的实验数据可以看出,雾滴颗粒的尺寸不同,会对待处理液体的处理时间及处理过程中的耗电量产生影响。由表1可知,实施例2中当气泡的雾滴颗粒的尺寸为30-110微米时,处理效果最好,耗电量及处理时间均较低。
本发明的另一个方面提供了一种处理设备,如图1-3所示,本发明一种实施方式的处理设备,包括用于盛放待处理液体的容器10,容器10设有进液口101、出液口102和用于连通等离子体发生器20的进气口103;容器10连接有用于雾化待处理液体的雾化器30;出液口102通过循环管路与进液口101连通,循环管路上设有循环泵40。
本发明提供的处理设备中,等离子体发生器20与用于盛放待处理液体的容器10通过容器10上的进气口103连通,等离子体发生器20中的电极部分并未直接接触容器10内部的待处理液体,而是与待处理液体隔离。等离子体发生器20在容器10外部对气体进行激发电离,再通入到容器10中。此过程中,只气体被等离子体激发。由于等离子体激发直接作用于气体,因此处理过程中对能耗及等离子体设备的安全防护要求大幅降低。
另外,通过雾化器30对待处理液体进行雾化处理后从进液口101通入容器10中,与等离子气体混合生成气溶胶式的气包液结构,并在气包液结构中的气液表面进行反应,反应后再进入待处理液体内部。然后再循环泵40的作用下,再重复上述反应过程,从而实现连续循环界面反应,由于反应比表面积的增加,进而提高了反应效率。
等离子体发生器20的枪头还可以直接内置于盛放待处理液体的容器10的内部,但不接触液面,从而实现向容器10内通入等离子体。
进液口101、出液口102和进气口103可以根据实际处理工艺流程设置在容器10壁上的任意位置,只要能实现相应的功能即可。
可选的,雾化器30设置于出液口102处。
可选的,雾化器30设置于进液口101处。
可选的,雾化器30设置于容器10内部并连接于进液口101处循环管路向容器10内的延伸部。
可选的,雾化器30设置于容器10的底部。
容器10还设有用于防止容器10内压力过高的限压阀;限压阀处还连接有排气时用于防止液体成分流失的汽水分离器。
由于容器10内不断地通入雾滴和等离子体,因此容器10内的压力会不断增加。为了防止容器10内的压力过高而发生爆炸,容器10的顶部还设有限压阀,当容器10内的压力过高时,限压阀开启并排气。为了防止在排气时液体成分流失,在流经限压阀前或限压阀后还设有汽水分离器。排气时先将液体成分通过汽水分离器进行回收,再通过将气体排出。
本发明还提供了另外一种处理设备,如图4-6所示,本发明一种实施方式的处理设备,包括用于盛放待处理液体的第一容器110、用于生成气液混合物的第二容器120和用于雾化待处理液体的雾化器30;第一容器110包括第一进液口111和第一出液口112,第二容器120包括第二进液口121和第二出液口122;第一出液口112与第二进液口121通过第一管道相连通,第二出液口122与第一进液口111通过第二管道相连通;第一管道和第二管道上均设有循环泵40;第二容器120还包括有进气口103,进气口103连接有等离子体发生器20。
可选的,雾化器30设置于第一出液口112处;
或,雾化器30设置于第二进液口121处;
或,雾化器30设置于第一容器110的底部;
或,雾化器30设置于所述第二容器120的内部并与第一管道在第二进液口121处向内的延伸部连接。
实施例4
如图1所示,本实施例是一种处理设备,包括用于盛放待处理液体的容器10,容器10设有进液口101、出液口102和用于连通等离子体发生器20的进气口103;容器10连接有用于雾化待处理液体的雾化器30;出液口102通过循环管路与进液口101连通,循环管路上设有循环泵40,雾化器30设置于出液口102处。
本实施例中,出液口102位于容器10的底部,进液口101位于容器10的顶部,进气口103位于容器10的顶部。
待处理液体在上述设备中的处理过程为:待处理液体在循环泵40的作用下从出液口102流出,经过雾化器30的雾化作用形成小液滴,而后流向循环泵40,在循环泵40的压力驱动下从进液口101处喷射入容器10中。此时等离子体发生器20将等离子气体喷射入容器10内与小液滴结合,形成气溶胶。此时等离子体与小液滴形式的待处理液体在气液界面处发生反应,净化待处理液体。之后,反应后的气溶胶颗粒进入容器10中的待处理液体中。在循环泵40的作用下,重复上述过程,直至容器10中的待处理液体净化完全,再停止设备的运转。
实施例5
如图2所示,本实施例是一种处理设备,与实施例4中的设备相比,不同之处在于,雾化器30设置于进液口101处。
待处理液体在上述设备中的处理过程为:待处理液体在循环泵40的作用下从出液口102流出流向循环泵40,在循环泵40的压力驱动下从进液口101处经过雾化器30的雾化作用形成小液滴,而后喷射入容器10中。此时等离子体发生器20将等离子气体喷射入容器10内与小液滴结合,形成气溶胶。等离子体与小液滴形式的待处理液体在气液界面处发生反应,净化待处理液体。之后,反应后的气溶胶颗粒进入容器10中的待处理液体中。在循环泵40的作用下,重复上述过程,直至容器10中的待处理液体净化完全,再停止设备的运转。
实施例6
如图3所示,本实施例是一种处理设备,与实施例4中的设备相比,不同之处在于,出液口102位于容器10的侧壁,进液口101位于容器10的底部,进气口103位于容器10的顶部;雾化器30设置于容器10的底部。
待处理液体在上述设备中的处理过程为:本实施例中,雾化器30设置与容器10内部,经过雾化器30的震动作用在待处理液体表面产生雾化液滴。此时等离子体发生器20将等离子气体喷射入容器10内与雾化液滴结合,形成气溶胶。等离子体与雾化液滴形式的待处理液体在气液界面处发生反应,净化待处理液体。之后,反应后的雾化液滴在循环泵40的作用下经出液口102流出流向循环泵40,并且在循环泵40的压力驱动下从进液口101重新进入容器10内的待处理液体中。
重复上述过程,直至容器10中的待处理液体净化完全,再停止设备的运转。
实施例7
如图4所示,本实施例是另外一种结构的处理设备,包括用于盛放待处理液体的第一容器110、用于生成气液混合物的第二容器120和用于雾化待处理液体的雾化器30;第一容器110包括第一进液口111和第一出液口112,第二容器120包括第二进液口121和第二出液口122;第一出液口112与第二进液口121通过第一管道相连通,第二出液口122与第一进液口111通过第二管道相连通;第一管道和第二管道上均设有增加泵;第二容器120还包括有进气口103,进气口103连接有等离子体发生器20,雾化器30设置于第一出液口112处。
待处理液体在上述设备中的处理过程为:待处理液体在循环泵40的作用下从第一容器110的第一出液口112流出,经过雾化器30的雾化作用形成小液滴,而后流向循环泵40,在循环泵40的压力驱动下从第二容器120的第二进液口121处喷射入第二容器120中。此时等离子体发生器20将等离子气体喷射入第二容器120内与小液滴结合,形成气溶胶。等离子体与小液滴形式的待处理液体在气液界面处发生反应,净化待处理液体。之后,反应后的气溶胶颗粒在循环泵40的作用下从第二容器120中的第二出液口122流出,经过第一进液口111进入到第一容器110的待处理液体中。
重复上述过程,直至容器10中的待处理液体净化完全,再停止设备的运转。
实施例8
如图5所示,本实施例是一种处理设备,与实施例7中的设备相比,不同之处在于,雾化器30设置于第二进液口121处。
待处理液体在上述设备中的处理过程为:待处理液体在循环泵40的作用下从第一出液口112流出,在循环泵40的压力驱动下流向第二进液口121,在第二进液口121处经过雾化器30的雾化作用形成小液滴,而后喷射入第二容器120中。此时等离子体发生器20将等离子气体喷射入容器10内与小液滴结合,形成气溶胶。等离子体与小液滴形式的待处理液体在气液界面处发生反应,净化待处理液体。之后,反应后的气溶胶颗粒在循环泵40的作用下从第二容器120中的第二出液口122流出,经过第一进液口111进入到第一容器110的待处理液体中。
重复上述过程,直至容器10中的待处理液体净化完全,再停止设备的运转。
实施例9
如图6所示,本实施例是一种处理设备,与实施例7中的设备相比,不同之处在于,雾化器30设置于第一容器110的底部。
待处理液体在上述设备中的处理过程为:本实施例中,雾化器30设置与第一容器110内部,经过雾化器30的震动作用在待处理液体表面产生雾化液滴。雾化液滴在循环泵40的作用下从第一出液口112流出,经第二进液口121进入到第二容器120中。此时等离子体发生器20将等离子气体喷射入容器10内与小液滴结合,形成气溶胶。等离子体与小液滴形式的待处理液体在气液界面处发生反应,净化待处理液体。之后,反应后的气溶胶颗粒在循环泵40的作用下从第二容器120中的第二出液口122流出,经过第一进液口111进入到第一容器110的待处理液体中。
重复上述过程,直至容器10中的待处理液体净化完全,再停止设备的运转。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种化学液体的等离子体处理方法,其特征在于,包括以下步骤:
将待处理液体进行雾化处理后与等离子体混合形成气液混合物,气液混合物中的等离子体与待处理液体的雾滴反应,以实现对液体的处理。
2.根据权利要求1所述的化学液体的等离子体处理方法,其特征在于,包括以下步骤:
雾化处理:先将部分待处理液体进行雾化处理,得到雾滴颗粒;
与等离子体反应:雾滴颗粒与等离子体混合形成气液混合物,气液混合物中的等离子体与待处理液体的雾滴反应后得到的产物溶于剩余的待处理液体中;
重复雾化以及与等离子体反应的步骤直至全部的待处理液体被处理。
3.根据权利要求1或2所述的化学液体的等离子体处理方法,其特征在于,待处理液体经雾化后所得雾滴颗粒的尺寸为0.2-200微米。
4.根据权利要求1或2所述的化学液体的等离子体处理方法,其特征在于,所述等离子体的气源包括化学液体蒸汽、空气、水蒸气、氧气、氮气或二氧化碳中的任意一种。
5.一种实现权利要求1-4任一项所述的化学液体的等离子体处理方法的处理设备,其特征在于,包括用于盛放待处理液体的容器,所述容器设有进液口、出液口和用于连通等离子体发生器的进气口;所述容器连接有用于雾化待处理液体的雾化器;
所述出液口通过循环管路与所述进液口连通,所述循环管路上设有循环泵。
6.根据权利要求5所述的处理设备,其特征在于,所述雾化器设置于所述出液口处;
或,
所述雾化器设置于所述进液口处;
或,
所述雾化器设置于容器内部并连接于进液口处循环管路向容器内的延伸部。
7.根据权利要求5所述的处理设备,其特征在于,所述雾化器设置于所述容器的底部。
8.根据权利要求5-7任一项所述的处理设备,其特征在于,所述容器的顶部设有用于防止容器内压力过高的限压阀;
优选地,所述限压阀连接有排气时用于防止液体成分流失的汽水分离器。
9.一种实现权利要求1-4任一项所述的化学液体的等离子体处理方法的处理设备,其特征在于,包括用于盛放待处理液体的第一容器、用于生成气液混合物的第二容器和用于雾化所述待处理液体的雾化器;
所述第一容器包括第一进液口和第一出液口,所述第二容器包括第二进液口和第二出液口;所述第一出液口与所述第二进液口通过第一管道相连通,所述第二出液口与所述第一进液口通过第二管道相连通;所述第一管道和所述第二管道上均设有循环泵;
所述第二容器还包括有进气口,所述进气口连接有等离子体发生器。
10.根据权利要求9所述的处理设备,其特征在于,所述雾化器设置于所述第一出液口处;
或,所述雾化器设置于所述第二进液口处;
或,所述雾化器设置于所述第一容器的底部;
或,所述雾化器设置于所述第二容器的内部并与第一管道在第二进液口处向内的延伸部连接。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108454605A (zh) * 2018-01-26 2018-08-28 北汽福田汽车股份有限公司 液压制动系统排气检测装置及具有该装置的液压系统
WO2018205863A1 (zh) * 2017-05-08 2018-11-15 程久华 化学液体的等离子体处理设备、方法及其在处理污水中的应用
CN109023760A (zh) * 2018-07-27 2018-12-18 浙江工业大学之江学院 一种防羊毛衣起毛球设备和方法
CN110550694A (zh) * 2019-09-18 2019-12-10 大连民族大学 一种采用非平衡等离子体射流技术的净水系统
CN111588951A (zh) * 2019-02-21 2020-08-28 陈之硕 等离子体气雾吸入装置及等离子体液的用途
CN113104927A (zh) * 2021-03-29 2021-07-13 成都科衡环保技术有限公司 一种用于高含盐难降解有机废水的处理装置及处理方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7442364B1 (en) * 2005-11-16 2008-10-28 Wang Chi S Plasma-induced hydrogen production from water
CN103819030A (zh) * 2014-01-21 2014-05-28 中国科学院等离子体物理研究所 气液混合介质阻挡放电水处理装置与方法
CN103896361A (zh) * 2014-03-22 2014-07-02 中国科学院等离子体物理研究所 水等离子体炬处理有机废水装置与方法
CN104624138A (zh) * 2015-02-04 2015-05-20 中国科学院电工研究所 一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液装置及处理方法
CN205999054U (zh) * 2016-03-18 2017-03-08 连云港启明电子技术有限公司 等离子体制取消毒活化水的装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7442364B1 (en) * 2005-11-16 2008-10-28 Wang Chi S Plasma-induced hydrogen production from water
CN103819030A (zh) * 2014-01-21 2014-05-28 中国科学院等离子体物理研究所 气液混合介质阻挡放电水处理装置与方法
CN103896361A (zh) * 2014-03-22 2014-07-02 中国科学院等离子体物理研究所 水等离子体炬处理有机废水装置与方法
CN104624138A (zh) * 2015-02-04 2015-05-20 中国科学院电工研究所 一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液装置及处理方法
CN205999054U (zh) * 2016-03-18 2017-03-08 连云港启明电子技术有限公司 等离子体制取消毒活化水的装置

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
曾贵玉: "《中国工程物理研究院科技丛书-微纳米含能材料》", 31 May 2015, 国防工业出版社 *
潘永康等: "《现代干燥技术》", 31 May 2007, 化学工业出版社 *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018205863A1 (zh) * 2017-05-08 2018-11-15 程久华 化学液体的等离子体处理设备、方法及其在处理污水中的应用
CN108454605A (zh) * 2018-01-26 2018-08-28 北汽福田汽车股份有限公司 液压制动系统排气检测装置及具有该装置的液压系统
CN109023760A (zh) * 2018-07-27 2018-12-18 浙江工业大学之江学院 一种防羊毛衣起毛球设备和方法
CN111588951A (zh) * 2019-02-21 2020-08-28 陈之硕 等离子体气雾吸入装置及等离子体液的用途
CN110550694A (zh) * 2019-09-18 2019-12-10 大连民族大学 一种采用非平衡等离子体射流技术的净水系统
CN110550694B (zh) * 2019-09-18 2022-03-15 大连民族大学 一种采用非平衡等离子体射流技术的净水系统
CN113104927A (zh) * 2021-03-29 2021-07-13 成都科衡环保技术有限公司 一种用于高含盐难降解有机废水的处理装置及处理方法

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