CN107037615A - 支撑杆与应用此支撑杆的蚀刻设备 - Google Patents

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许文宏
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    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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Abstract

本发明公开了一种支撑杆与应用此支撑杆的蚀刻设备。蚀刻设备的支撑杆包含第一部分、第二部分与第三部分。第一部分连接至控制装置，以使控制装置控制支撑杆的移动。第二部分用以支撑玻璃基板，其中第二部分的材质为工程塑胶。第三部分位于第一部分与第二部分之间，其中第三部分的材质为陶瓷材料。借此，本发明的蚀刻设备的支撑杆可提供优选的支撑效果来支撑玻璃基板，并避免刮伤玻璃基板。

Description

支撑杆与应用此支撑杆的蚀刻设备
技术领域
本发明涉及一种支撑杆与应用此支撑杆的蚀刻设备，且特别涉及一种应用于较薄玻璃基板的支撑杆与应用此支撑杆的蚀刻设备。
背景技术
近年来，由于显示器制造技术的快速发展，各种携带式电子装置，例如个人数字助理、智能型手机、平板电脑等等，越来越普遍地应用于人们的日常生活中。在各种显示器中，由于液晶显示器具有轻、薄且成本低廉等优点，液晶显示器广泛地应用于各种携带式电子装置中。
在液晶显示器的制造过程中，通常需要利用蚀刻设备在玻璃基板上进行蚀刻来形成具有各种不同功能的层面。在一般的蚀刻工艺中，蚀刻设备会利用支撑杆来支撑待蚀刻的玻璃基板，使玻璃基板位在两个电极之间。接着，引入蚀刻气体并利用电极所提供的电场来离子化蚀刻气体，以蚀刻玻璃基板。
为了满足使用者的需求，玻璃基板的厚度变得越来越小，以利于制造出体积和重量更小的电子装置。然而，当玻璃基板的厚度变小时，蚀刻设备便无法有效地支撑玻璃基板。
因此，需要一种支撑杆与应用此支撑杆的蚀刻设备来解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种支撑杆与应用此支撑杆的蚀刻设备，以提供优选的支撑效果来支撑玻璃基板，并避免刮伤玻璃基板。
本发明的一实施例是在提供一种蚀刻设备的支撑杆。此支撑杆包含第一部分、第二部分以及第三部分。第一部分连接至控制装置，以使控制装置控制支撑杆的移动。第二部分用以支撑玻璃基板。此第二部分的材质为工程塑胶。第三部分位于第一部分与第二部分之间，其材质为陶瓷材料。
根据本发明的一实施例，在前述的支撑杆中，工程塑胶为聚酰亚胺。
根据本发明的一实施例，在前述的支撑杆中，第一部分的材质为金属。
根据本发明的一实施例，在前述的支撑杆中，第三部分用以在支撑杆受到撞击时提供溃缩机制。
根据本发明的一实施例，在前述的支撑杆中，第三部分的材质为氧化锆。
本发明的另一实施例是在提供一种蚀刻设备。此蚀刻设备用以蚀刻玻璃基板。此蚀刻设备包含蚀刻气体供应装置、电极装置以及多个支撑杆。蚀刻气体供应装置用以提供蚀刻气体。电极装置用以离子化蚀刻气体。电极装置包含下电极部和上电极部。下电极部具有多个贯穿孔。上电极部对应设置于下电极部上方。支撑杆穿设于前述的贯穿孔中，以支撑玻璃基板，并使玻璃基板位于上电极部与下电极部之间，其中每个支撑杆包含第一部分、第二部分以及第三部分。第一部分连接至控制装置，以使控制装置控制支撑杆的移动。第二部分用以支撑玻璃基板。此第二部分的材质为工程塑胶。第三部分位于第一部分与第二部分之间，其材质为陶瓷材料。
根据本发明的一实施例，在前述的蚀刻设备中，工程塑胶为聚酰亚胺。
根据本发明的一实施例，在前述的蚀刻设备中，第一部分的材质为金属。
根据本发明的一实施例，在前述的蚀刻设备中，第三部分用以在支撑杆受到撞击时提供溃缩机制。
根据本发明的一实施例，在前述的蚀刻设备中，玻璃基板具有可视区域，此可视区域对应至下电极部的辅助支撑区域，贯穿孔的至少一个位于辅助支撑区域中。
由上述说明可知，本发明实施例的支撑杆具有三节式架构，此三节式架构不但可提供溃缩机制来保护玻璃基板和支撑杆，也能够避免刮伤玻璃基板并具有提供长效的抗腐蚀能力。另外，本发明实施例的蚀刻设备是在玻璃基板的可视区域内设置至少一个支撑杆来支撑玻璃基板，如此可提供优选的支撑效果来支撑玻璃基板。
附图说明
为了更完整了解实施例及其优点，现参照结合所附图式所做的下列描述，其中：
图1是绘示根据本发明实施例的蚀刻设备的侧视结构示意图；
图2是绘示根据本发明实施例的下电极部的俯视结构示意图；以及
图3是绘示根据本发明实施例的支撑杆的结构示意图。
具体实施方式
请参照图1，图1是绘示根据本发明实施例的蚀刻设备100的侧视结构示意图。蚀刻设备100包含支撑座110，上电极部120以及蚀刻气体供应装置130。支撑座110包含下电极部112以及多个支撑杆114。支撑杆114贯穿下部电极112，以支撑待处理的玻璃基板LCP。蚀刻气体供应装置130用以提供蚀刻气体。而上电极部120和下电极部112组成电极装置，以离子化蚀刻气体供应装置130所提供的蚀刻气体。
在本实施例中，上电极部120和下电极部112是提供垂直于玻璃基板LCP的电场，而蚀刻气体供应装置130则沿着垂直此电场的方向来提供蚀刻气体至上电极部120和玻璃基板LCP之间，但本发明的实施例并不受限于此。在本发明的其他实施例中，蚀刻气体供应装置130可设置于上电极部120上方，以沿着平行此电场的方向来提供蚀刻气体至上电极部120和玻璃基板LCP之间。
请参照图2，图2是绘示根据本发明实施例的下电极部112的俯视结构示意图。下电极部112具有辅助支撑区域AA，辅助支撑区域AA对应至玻璃基板LCP的可视区域。具体而言，玻璃基板LCP为液晶面板的半成品，其具有可视区域。当玻璃基板LCP设置于下电极部112上方时，玻璃基板LCP的可视区域可在下电极部112上相应地定义出辅助支撑区域AA。
下电极部112具有多个贯穿孔H1和H2，以供支撑杆114穿设于其中。在本发明的实施例中，辅助支撑区域AA内具有至少一个贯穿孔。例如，贯穿孔H2设置于辅助支撑区域AA内，而贯穿孔H1设置于辅助支撑区域AA外。在本实施例中，下电极部112具有八个贯穿孔H1，且每两个贯穿孔H1为一组并对应设置于下电极部112的一个侧边。类似地，下电极部112具有八个贯穿孔H2，且每两个贯穿孔H2为一组并对应设置于下电极部112的一个侧边。
请参照图3，其是绘示根据本发明实施例的支撑杆114的结构示意图。支撑杆114包含第一部分114a、第二部分114c以及位于第一部分114a与第二部分114c之间的第三部分114b。第一部分114a连接至控制装置(未绘示)，以供控制装置控制支撑杆114的移动。例如，支撑杆114可上下移动，以调整玻璃基板LCP的高度。在本实施例中，第一部分114a的材质为金属，但本发明的实施例并不受限于此。
第二部分114c用以直接接触玻璃基板LCP，以支撑玻璃基板LCP。如图2所示，由于贯穿孔H2设置于辅助支撑区域AA中，因此穿设贯穿孔H2的支撑杆114会直接接触玻璃基板LCP的可视区域。为了避免支撑杆114的第二部分114c被蚀刻气体腐蚀，以及避免支撑杆114的第二部分114c刮伤玻璃基板LCP的可视区域，本发明实施例的第二部分114c利用硬度比玻璃低的工程塑胶来制作。在本实施例中，支撑杆114的第二部分114c是以聚酰亚胺(Polyimide)来制作，但本发明的实施例并不受限于此。
第三部分114b用以在支撑杆114受到撞击时提供溃缩机制。例如，当第二部分114c受到撞击时，第三部分114b会溃缩，进而避免产生更大的伤害。在本实施例中，第三部分114b的材质为陶瓷材料，例如氧化锆，但本发明的实施例并不受限于此。
由以上说明可知，本发明实施例的蚀刻设备100是在玻璃基板LCP的可视区域内设置至少一个支撑杆114来支撑玻璃基板LCP，如此本发明实施例的蚀刻设备100可提供优选的支撑效果来支撑玻璃基板LCP。
另外，本发明实施例的支撑杆114具有三节式架构(第一部分114a、第二部分114c以及第三部分114b)，此三节式架构不但可提供溃缩机制来保护玻璃基板LCP和支撑杆114，也能够避免刮伤玻璃基板LCP并具有提供长效的抗腐蚀能力。
虽然本发明已经以实施方式公开如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种变动与润饰，因此本发明的保护范围当视权利要求所界定者为准。

Claims (10)

1.一种蚀刻设备的支撑杆，其特征在于，所述蚀刻设备的支撑杆包含：
第一部分，其连接至控制装置，以使所述控制装置控制所述支撑杆的移动；
第二部分，其用以支撑玻璃基板，其中所述第二部分的材质为工程塑胶；以及
第三部分，其位于所述第一部分与所述第二部分之间，其中所述第三部分的材质为陶瓷材料。
2.如权利要求1所述的蚀刻设备的支撑杆，其特征在于，所述工程塑胶为聚酰亚胺。
3.如权利要求1所述的蚀刻设备的支撑杆，其特征在于，所述第一部分的材质为金属。
4.如权利要求1所述的蚀刻设备的支撑杆，其特征在于，所述第三部分用以在所述支撑杆受到撞击时提供溃缩机制。
5.如权利要求4所述的蚀刻设备的支撑杆，其特征在于，所述第三部分的材质为氧化锆。
6.一种蚀刻设备，用以蚀刻玻璃基板，其特征在于，所述蚀刻设备包含：
蚀刻气体供应装置，其用以提供蚀刻气体；
电极装置，其用以离子化所述蚀刻气体，所述电极装置包含:
下电极部，其具有多个贯穿孔；以及
上电极部，其对应设置于所述下电极部上方；以及
多个支撑杆，其穿设于所述多个贯穿孔中，以支撑所述玻璃基板，使所述玻璃基板位于所述上电极部与所述下电极部之间，其中每个所述支撑杆包含：
第一部分，其连接至控制装置，以使所述控制装置控制所述支撑杆的移动；
第二部分，其用以支撑玻璃基板，其中所述第二部分的材质为工程塑胶；以及
第三部分，其位于所述第一部分与所述第二部分之间，其中所述第三部分的材质为陶瓷材料。
7.如权利要求6所述的蚀刻设备，其特征在于，所述第一部分的材质为金属。
8.如权利要求6所述的蚀刻设备，其特征在于，所述第三部分用以在所述支撑杆受到撞击时提供溃缩机制。
9.如权利要求8所述的蚀刻设备，其特征在于，所述第三部分的材质为氧化锆。
10.如权利要求6所述的蚀刻设备，其特征在于，所述玻璃基板具有可视区域，所述可视区域对应至所述下电极部的辅助支撑区域，所述多个贯穿孔的至少一个位于所述辅助支撑区域中。
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