CN106980203A - 一种彩膜基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

一种彩膜基板、显示面板及显示装置 Download PDF

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Abstract

本申请公开了一种彩膜基板、显示面板及显示装置，用以避免在显示产品的透光区出现畴线，提高显示产品的透过率，提升产品的显示品质。本申请实施例提供的一种彩膜基板，包括公共电极层，所述公共电极层上设置有多个开槽，所述开槽在与所述彩膜基板相对的阵列基板上的正投影，落入所述阵列基板的非透光区，并且，在所述阵列基板上，相邻两行的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两行子像素单元；或者，相邻两列的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两列子像素单元。

Description

一种彩膜基板、显示面板及显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、显示面板及显示装置。
背景技术
栅格式垂直排列(Patterned Vertical Alignment，PVA)型液晶显示器具有多畴显示效果，即液晶分子有两个偏转方向，可以避免单畴(即液晶分子只有一个偏转方向)型液晶显示器出现的色偏、视角不对称等问题。现有技术中的PVA液晶显示面板，像素(pixel)电极2在衬底基板1上的排列如图1所示(显示面板其他结构均未示出)，现有技术中的PVA液晶显示面板在像素电极2上设置开槽3，开槽3的长边与数据线(Data)方向平行，并且开槽3的位置对应于非透光区，即每个开槽把一块pixel电极分割成2个部分。图2、3为PVA液晶显示面板沿AA’的截面图，显示面板包括：衬底基板1、像素电极2、液晶层4、公共电极层5，液晶层4包括液晶分子17。如图2所示，在暗态(未对像素电极和公共电极施加电压)时，液晶分子垂直于像素电极2排列，显示面板在偏光片(未示出)的作用下，宏观上显示为黑态。如图3所示，在给像素电极2和公共电极层5施加电压后，液晶分子在像素电极2和公共电极层5的作用下发生偏转，在一个子像素内，液晶分子有两个偏转方向，从而实现液晶显示器的多畴显示效果。但是，如图3所示，由于像素电极开槽对应的区域6的电场排布不均或者电场方向不对等原因，在像素电极开槽对应的区域6的液晶分子会发生紊乱排列，宏观上，如图4所示，对于每一个子像素单元，在子像素单元的透光区15，开槽对应的区域会出现黑色暗线(即畴线16)，影响显示面板的透过率和显示面板的画面品质。
发明内容
本申请实施例提供了一种彩膜基板、显示面板及显示装置，用以避免在显示产品的透光区出现畴线，提高显示产品的透过率，提升产品的显示品质。
本申请实施例提供的一种彩膜基板，包括公共电极层，所述公共电极层上设置有多个开槽，所述开槽在与所述彩膜基板相对的阵列基板上的正投影，落入所述阵列基板的非透光区，并且，在所述阵列基板上，相邻两行的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两行子像素单元；或者，相邻两列的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两列子像素单元。
本申请实施例提供的彩膜基板，由于在公共电极上设置有开槽，将本申请实施例提供的彩膜基板应用于液晶显示面板时，对控制液晶偏转的像素电极和公共电极施加电压，在两电极之间产生电场的方向包括至少两个方向，液晶分子的偏转方向也包括至少两个方向，可以实现液晶显示面板多畴显示。由于所述开槽在阵列基板上的正投影落入非透光区，且相邻的两行或两列所述开槽间隔子像素排列，从而使得液晶排列紊乱的区域只在非透光区出现，宏观上，因液晶排列紊乱而出现的畴线在非透光区被遮挡，从而可以避免畴线出现在透光区，进而可以提高产品的透过率，提升产品显示画面品质。
可选地，所述开槽在所述阵列基板上的正投影的形状为矩形。
可选地，所述矩形的长边与所述阵列基板的栅线平行，或者所述矩形的长边与所述阵列基板的数据线平行。
可选地，当相邻两行的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两行子像素单元时，每一行的开槽的个数与每一行的子像素单元的个数相同，并且每一列开槽与一列子像素单元处于同一列；
当相邻两列的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两列子像素单元时，每一列的开槽的个数与每一列的子像素单元的个数相同，并且每一行开槽与一行子像素单元处于同一行。
这样，当本申请实施例提供的彩膜基板应用于显示面板时，对于同一行子像素单元，或者同一列子像素单元，液晶倾倒方向一致，显示画面的颜色均匀，进一步提升了显示画面的品质。
可选地，当相邻两行的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两行子像素单元时，每一开槽的长边的长度，与对应的子像素单元的行方向上的宽度相等；
当相邻两列的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两列子像素单元时，每一开槽的长边的长度，与对应的子像素单元的列方向上的宽度相等。
这样，公共电极仍是一整块电极，并未被开槽分割成独立的若干部分，因此公共电极引线的设置方式采用现有技术中的公共电极引线设置方式即可，即本申请提供的彩膜基板，在无需改变现有技术中公共电极引线的设置方式，即可在获得多畴显示效果的同时提高显示面板的透过率，提升显示画面品质，制备工艺简单，易于实现。
可选地，所述彩膜基板还包括位于所述公共电极次之上的平坦化层、位于所述平坦化层之上的黑矩阵和彩膜层、位于所述黑矩阵和所述彩膜层之上的上玻璃基板，所述开槽在所述阵列基板上的正投影落入所述黑矩阵在所述阵列基板的正投影。
本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例提供的彩膜基板。
可选地，本申请实施例提供的显示面板还包括：与所述彩膜基板相对设置的阵列基板。
可选地，本申请实施例提供的显示面板还包括：位于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层。
本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例提供的显示面板。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中PVA型液晶显示面板在像素电极设置开槽的示意图；
图2为现有技术中PVA型液晶显示面板暗态时液晶排布的示意图；
图3为现有技术中PVA型液晶显示面板亮态时液晶排布的示意图；
图4为现有技术中PVA型液晶显示面板亮态时出现畴线的示意图；
图5为本申请实施例提供的第一种彩膜基板结构示意图；
图6为本申请实施例提供的第二种彩膜基板结构的示意图；
图7为本申请实施例提供的一种公共电极层开槽设置方式的示意图；
图8为本申请实施例提供的另一种公共电极层开槽设置方式的示意图；
图9为本申请实施例提供的第三种彩膜基板结构的示意图；
图10为本申请实施例提供的一种显示面板在暗态时液晶排列方式示意图；
图11为本申请实施例提供的一种显示面板在亮态时液晶排列方式示意图；
图12为本申请实施例提供的显示面板畴线出现位置示意图。
具体实施方式
本申请实施例提供了一种彩膜基板、显示面板及显示装置，用以避免在显示产品的透光区出现畴线，提高显示产品的透过率，提升产品的显示品质。
显示产品的透过率是指显示产品背光源发出的光与最终能通过显示进入到人眼所看到的光的比例。
本申请实施例提供的一种彩膜基板，如图5、6所示，包括公共电极层5，所述公共电极层5上设置有多个开槽3，如图7、8所示，图5、6中的开槽3在与所述彩膜基板相对的阵列基板上的正投影8，落入所述阵列基板的非透光区9，并且，在所述阵列基板上，图5中的相邻两行的所述开槽3在所述阵列基板上的正投影8之间，至少间隔两行子像素单元10；或者，如图8所示，如图6所示的相邻两列的所述开槽3在所述阵列基板上的正投影8之间，至少间隔两列子像素单元10。
本申请实施例提供的彩膜基板，由于在公共电极上设置有开槽，将本申请实施例提供的彩膜基板应用于液晶显示面板时，对控制液晶偏转的像素电极和公共电极施加电压，在两电极之间产生电场的方向包括至少两个方向，液晶分子的偏转方向也包括至少两个方向，可以实现液晶显示面板多畴显示。由于所述开槽在阵列基板上的正投影落入非透光区，且相邻的两行或两列所述开槽间隔子像素排列，从而使得液晶排列紊乱的区域只在非透光区出现，宏观上，因液晶排列紊乱而出现的畴线在非透光区被遮挡，从而可以避免畴线出现在透光区，进而可以提高产品的透过率，提升产品显示画面品质。
需要说明的是，图7、8所示的开槽设置方式，以相邻的两行开槽的在阵列基板上的正投影8之间间隔两行子像素单元10，或者相邻的两列开槽在阵列基板上的正投影8之间间隔两列子像素单元10为例进行举例说明，此种开槽设置方式，多畴显示画面颜色更均匀，多畴显示效果最佳，实际生产中，相邻的两行开槽在阵列基板上的正投影8之间可以间隔三行、四行甚至更多行子像素单元，相邻的两列开槽在阵列基板上的正投影8之间可以间隔三列、四列甚至更多列的子像素单元，都可以实现多畴显示，同时避免畴线出现在透光区，可根据实际情况选择开槽在阵列基板上的正投影之间间隔的子像素单元的行数或列数。
可选地，所述开槽在所述阵列基板上的正投影的形状为矩形。如图7、8所示，开槽在阵列基板上的正投影8的形状均为矩形，当然，开槽也可以设置成其他形状，只要开槽能够实现多畴显示并且避免畴线出现在透光区即可。
可选地，如图7所示，矩形的长边与所述阵列基板的栅线平行，或者如图8所示，矩形的长边与所述阵列基板的数据线平行。
需要说明的是，栅线和数据线横纵交叉排列将阵列基板划分为多个子像素单元，在垂直于阵列基板的方向上，栅线和数据线的设置位置对应于非透光区，一般情况下，栅线对应的非透光区的面积比数据线对应的非透光区的面积大，矩形的长边与栅线平行，即开槽设置在栅线对应的非透光区，矩形的长边与数据线平行，相当于开槽设置在数据线对应的非透光区，因此，与矩形的长边与数据线平行的情况相比，矩形的长边与栅线平行的情况下，对开槽的尺寸限制较小，相应的，设置开槽的工艺难度也较小，更容易实现。在实际生产中，可根据对开槽的尺寸要求以及设置开槽的工艺选择相应的开槽设置位置。
可选地，当相邻两行的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两行子像素单元时，每一行的开槽的个数与每一行的子像素单元的个数相同，并且每一列开槽与一列子像素单元处于同一列；
当相邻两列的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两列子像素单元时，每一列的开槽的个数与每一列的子像素单元的个数相同，并且每一行开槽与一行子像素单元处于同一行。
这样，当本申请实施例提供的彩膜基板应用于显示面板时，对于同一行子像素单元，或者同一列子像素单元，液晶偏转方向一致，使得显示画面的颜色均匀，进一步提升了显示画面的品质。
可选地，当相邻两行的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两行子像素单元时，每一开槽的长边的长度，与对应的子像素单元的行方向上的宽度相等；
当相邻两列的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两列子像素单元时，每一开槽的长边的长度，与对应的子像素单元的列方向上的宽度相等。
这样，公共电极仍是一整块电极，并未被开槽分割成独立的若干部分，因此公共电极引线的设置方式采用现有技术中的公共电极引线设置方式即可，即本申请提供的彩膜基板，在无需改变现有技术中公共电极引线的设置方式，便可以实现在获得多畴显示效果的同时提高显示面板的透过率、提升显示画面品质，制备工艺简单，易于实现。
可选地，如图9所示，所述彩膜基板还包括位于所述公共电极层5之上的平坦化层11、位于所述平坦化层11之上的黑矩阵12和彩膜层13、位于所述黑矩阵12和所述彩膜层13之上的上玻璃基板14，所述开槽在所述阵列基板上的正投影落入所述黑矩阵在所述阵列基板的正投影，即在公共电极层上设置的开槽3位于黑矩阵12的下方。当本申请实施例提供的如图9所示的彩膜基板应用于液晶显示面板，由于开槽设置在黑矩阵的下方，并且黑矩阵与非透光区对应，从而使得出现畴线的位置被黑矩阵遮挡，在实现多畴显示的同时不影响画面显示效果，提高了产品的透过率，提升显示画面品质。
本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例提供的上述彩膜基板。
本申请实施例提供的显示面板，例如可以是液晶显示面板。本申请实施例提供的显示面板，由于在彩膜基板的公共电极上设置有开槽，所述开槽在阵列基板上的正投影落入非透光区，且相邻的两行或两列所述开槽间隔子像素排列，从而可以在实现多畴显示效果的同时，避免畴线出现在显示面板的透光区，从而可以提高显示面板的透过率，提升显示面板的显示品质。
可选地，本申请实施例提供的显示面板还包括：与所述彩膜基板相对设置的阵列基板。
所述阵列基板例如可以包括像素电极，本申请实施例提供的显示面板，由于在公共电极上设置开槽，无需在像素电极上设置开槽将一块像素电极分成两部分，便可以实现多畴显示效果，并且，本申请实施例提供的显示面板实现多畴显示效果的设置方式可以避免畴线出现在透光区，从而不会牺牲显示面板的透过率，不会影响显示面板显示画面的品质。
可选地，本申请实施例提供的显示面板还包括：位于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层。
以图7所示的公共电极开槽设置方式为例，对本申请实施例提供的显示面板进行举例说明。沿图7中BB’截面的显示面板的结构如图10、11所示，显示面板包括：彩膜基板、阵列基板、以及位于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层4，所述彩膜基板包括：设置有开槽3的公共电极层5、位于所述公共电极层5之上的平坦化层11、位于所述平坦化层11之上的黑矩阵12和彩膜层13、位于所述黑矩阵12和所述彩膜层13之上的上玻璃基板14，阵列基板包括：衬底基板1和位于衬底基板1之上的像素电极2，相邻的两个像素电极2之间存在缝隙18，液晶层4包括液晶分子17。其中，图10为显示面板暗态时液晶分子排列示意图，本申请实施例提供的显示面板，在暗态时的液晶分子，仍是垂直于阵列基板排列，与传统的PVA型液晶显示面板相同。图11为显示面板亮态时液晶分子排布示意图，由于开槽3的存在，电场方向包括至少两个方向，从而使得图7所示的区域19的上下两个子像素单元对应的液晶分子的偏转方向不同，实现多畴显示，并且，液晶分子排列紊乱的区域出现在上下两个子像素单元之间，宏观上，如图12所示，图7中的区域19对应的像素，畴线16出现在非透光区9，对透光区15不会造成任何影响，本申请实施例提供的显示面板与现有技术畴线出现在透光区的情况相比，提高了显示面板的透过率，提升了显示画面的品质。
需要说明的是，图10、11中，公共电极上的开槽位于像素电极间隙的正上方，由于相邻的两个像素电极之间的间隙非常小，公共电极开槽的尺寸大于像素电极间的间隙，因此在给像素电极和公共电极通电后，开槽的存在依然使得电场方向包括至少两个方向，仍能实现多畴显示。在实际设置公共电极开槽位置时，只要保证黑矩阵区域覆盖公共电极开槽区域，并且使得显示面板能够实现多畴显示即可，无需保证公共电极的开槽正对相邻的两个像素电极的间隙。
本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例提供的显示面板。
综上所述，本申请实施例提供的彩膜基板、显示面板及显示装置，由于在公共电极上设置有开槽，将本申请实施例提供的彩膜基板应用于液晶显示面板时，对控制液晶偏转的像素电极和公共电极施加电压，在两电极之间产生电场的方向包括至少两个方向，液晶分子的偏转方向也包括至少两个方向，可以实现液晶显示面板多畴显示。由于所述开槽在阵列基板上的正投影落入非透光区，且相邻的两行或两列所述开槽间隔子像素排列，从而使得液晶排列紊乱的区域只在非透光区出现，宏观上，因液晶排列紊乱而出现的畴线在非透光区被遮挡，从而可以避免畴线出现在透光区，进而可以提高产品的透过率，提升产品显示画面品质。当本申请实施例提供的彩膜基板，对于同一行子像素单元，或者同一列子像素单元，液晶倾倒方向一致，使得显示画面的颜色均匀，进一步提升了显示画面的品质。本申请实施例提供的彩膜基板，公共电极仍是一整块电极，并未被开槽分割成独立的若干部分，因此公共电极引线的设置方式采用现有技术中的公共电极引线设置方式即可，即本申请提供的彩膜基板，在无需改变现有技术中公共电极引线的设置方式，即可在获得多畴显示效果的同时提高显示面板的透过率，提升显示画面品质，制备工艺简单，易于实现。本申请实施例提供的如图9所示的彩膜基板，由于开槽设置在黑矩阵的下方，并且黑矩阵与非透光区对应，从而使得出现畴线的位置被黑矩阵遮挡，进而提高了产品的透过率，提升显示画面品质。
显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，包括公共电极层，其特征在于，所述公共电极层上设置有多个开槽，所述开槽在与所述彩膜基板相对的阵列基板上的正投影，落入所述阵列基板的非透光区，并且，在所述阵列基板上，相邻两行的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两行子像素单元；或者，相邻两列的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两列子像素单元。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述开槽在所述阵列基板上的正投影的形状为矩形。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述矩形的长边与所述阵列基板的栅线平行，或者所述矩形的长边与所述阵列基板的数据线平行。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，当相邻两行的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两行子像素单元时，每一行的开槽的个数与每一行的子像素单元的个数相同，并且每一列开槽与一列子像素单元处于同一列；
当相邻两列的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两列子像素单元时，每一列的开槽的个数与每一列的子像素单元的个数相同，并且每一行开槽与一行子像素单元处于同一行。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，当相邻两行的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两行子像素单元时，每一开槽的长边的长度，与对应的子像素单元的行方向上的宽度相等；
当相邻两列的所述开槽在所述阵列基板上的正投影之间，至少间隔两列子像素单元时，每一开槽的长边的长度，与对应的子像素单元的列方向上的宽度相等。
6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括位于所述公共电极层之上的平坦化层、位于所述平坦化层之上的黑矩阵和彩膜层、位于所述黑矩阵和所述彩膜层之上的上玻璃基板，所述开槽在所述阵列基板上的正投影落入所述黑矩阵在所述阵列基板的正投影。
7.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1～6任一项所述的彩膜基板。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，还包括：与所述彩膜基板相对设置的阵列基板。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，还包括：位于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求7～9任一项所述的显示面板。
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