CN106898703A - 显示装置及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明揭示了一种显示装置及其制作方法，显示装置的制作方法包括提供基板；在所述基板上形成紫外光源层；在所述紫外光源层上形成发光层；在所述发光层上形成液晶层；在所述液晶层上形成盖板。这一方法制程简单，不需要传统工艺中RGB三颜色的有机发光二极管的制备，也就避免了蒸镀中复杂的多次对位，有利于提升产品的良率；通过液晶层的存在，可以灵活控制显示装置发出的色彩，能够满足不同需求。

Description

显示装置及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示领域，特别是涉及一种显示装置及其制作方法。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)是主动发光器件。与传统的LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)相比，OLED显示技术无需背光灯，具有自发光的特性。OLED采用较薄的有机材料膜层和玻璃基板，当有电流通过时，有机材料就会发光。因此OLED显示面板能够显著节省电能，可以做得更轻更薄，比LCD显示面板耐受更宽范围的温度变化，而且可视角度更大。OLED显示面板有望成为继LCD之后的下一代平板显示技术，是目前平板显示技术中受到关注最多的技术之一。

全彩化OLED是业界所追求的一个方向。目前的全彩化OLED方法有多种，例如：以白色有机发光二极管为基础，使得显示装置产生白色光，并在显示装置表面加上彩色滤光片，例如RGB三色滤光片，从而获得RGB三颜色，此法为彩色滤光片法；以蓝色光有机发光二极管为基础，于其表面加上一波长变换层，使得其中一蓝色光转变成红光，另一色是将蓝色光转变成绿光，最终形成RGB三颜色，此法为色转换法；以各有色光为基础，直接以RGB三颜色的有机发光二极管形成全彩化的装置，此法为RGB像素法；此外，还有其他一些方法，例如微共振腔调色法和多层堆栈法等。

其中，RGB像素并置法由于是直接以RGB三颜色的有机发光二极管来实现全彩化，相比其他方法较佳，故为最常用方法。但是RGB像素并置法需要利用蒸镀成膜技术透过FMM(Fine Metal Mask，高精细金属掩膜版，所述高精细金属掩膜版通常简称为掩膜版或蒸镀掩膜版)在array(阵列)基板上相应的像素位置形成RGB三颜色的有机发光二极管。然而，随着产品PPI的增加，对设备对位系统的精度要求越来越高，并且在制备RGB三颜色的有机发光二极管时又需要在蒸镀中涉及复杂的多次对位，更加剧了对位的难度。另外，掩膜版开口尺寸越来越小，则掩膜版的制备及张网越来越困难。

因此，如何规避这些缺陷，提高显示装置尤其是全彩化显示装置的良率，是一个研究方向。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种显示装置及其制作方法，提高全彩化OLED显示装置的良率。

为解决上述技术问题，本发明提供一种显示装置，包括：

基板；

设置在所述基板上的紫外光源层；

设置在所述紫外光源层上的发光层；

设置在所述发光层上的液晶层；

设置在所述液晶层上的盖板。

可选的，对于所述的显示装置，所述紫外光源层包括多个发光二极管。

可选的，对于所述的显示装置，所述发光二极管均匀排布在所述基板上。

可选的，对于所述的显示装置，所述发光层包括红、绿、蓝三色发光单元。

可选的，对于所述的显示装置，所述发光层还包括黑矩阵，所述红、绿、蓝三色发光单元填充在所述黑矩阵中。

可选的，对于所述的显示装置，还包括设置在所述液晶层和盖板层之间的紫外光吸收层。

可选的，对于所述的显示装置，所述紫外光吸收层的厚度为10nm-40nm。

可选的，对于所述的显示装置，所述紫外光吸收层为氧化钛、氧化铝和氧化硅中的一种或多种。

本发明还提供一种显示装置的制作方法，包括：

提供基板；

在所述基板上形成紫外光源层；

在所述紫外光源层上形成发光层；

在所述发光层上形成液晶层；

在所述液晶层上形成盖板。

可选的，对于所述的显示装置的制作方法，在所述发光层上形成液晶层之后，在所述液晶层上形成盖板之前，还包括：

在所述盖板内侧形成紫外光吸收层，盖板与基板通过Frit封装形成合板。

本发明提供的显示装置及其制作方法，包括提供基板；在所述基板上形成紫外光源层；在所述紫外光源层上形成发光层；在所述发光层上形成液晶层；在所述液晶层上形成盖板。这一方法制程简单，不需要传统工艺中RGB三颜色的有机发光二极管的制备，也就避免了蒸镀中复杂的多次对位，有利于提升产品的良率；通过液晶层的存在，可以灵活控制显示装置发出的色彩，从而在显示上灵活性大大提高，能够满足不同需求。

附图说明

图1为本发明一实施例中显示装置的制作方法的流程图；

图2为本发明一实施例中提供基板的示意图；

图3为本发明一实施例中形成紫外光源层的示意图；

图4为本发明一实施例中形成发光层的示意图；

图5为本发明一实施例中形成液晶层的示意图；

图6为本发明一实施例中形成紫外光吸收层的示意图；

图7为本发明一实施例中形成的显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合示意图对本发明的显示装置及其制作方法进行更详细的描述，其中表示了本发明的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明，而仍然实现本发明的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本发明的限制。

在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

本发明的核心思想是，提供一种显示装置的制作方法，包括：

步骤S11，提供一基板；

步骤S12，在所述基板上形成紫外光源层；

步骤S13，在所述紫外光源层上形成发光层；例如发光层包括红、绿、蓝三色发光单元；

步骤S14，在所述发光层上形成液晶层；

步骤S15，在所述液晶层上形成盖板。

由此，使得制程简单，不需要使用传统工艺制备RGB三颜色的有机发光二极管，也就避免了蒸镀中复杂的多次对位，有利于提升产品的良率。并且通过紫外光源层和发光层的存在，实现全彩化显示。进一步的，通过液晶层的存在，使得显示能够更加灵活，控制显示装置发出所需的色彩。

以下列举所述显示装置及其制作方法的较优实施例，以清楚的说明本发明的内容，应当明确的是，本发明的内容并不限制于以下实施例，其他通过本领域普通技术人员的常规技术手段的改进亦在本发明的思想范围之内。

下面结合图1-图7对本发明的显示装置及其制作方法进行详细说明。

首先，执行步骤S11，如图2所示，提供基板10。所述基板10可以是玻璃基板。所述基板10也可以是柔性基板，优选是一聚酰亚胺(PI)基板，所述柔性基板的形状可为平面、曲面或其他不规则形状。应理解的是，所述基板的材质以及形状在此不做限制。

接着，执行步骤S12，如图3所示，在所述基板10上形成紫外光源层11。作为一个非限制性的例子，所述紫外光源层11包括多个发光二极管，并且所述多个发光二极管均匀排布在基板10上，从而可以提供均匀的发光强度。

在本实施例中，所述紫外光源层11是制备在基板上的UV LED(紫外发光二极管)灯管矩阵。可以理解的是，发光二极管的制备过程已经比较成熟，本领域技术人员在本发明公开的基础上，可以灵活选择适当的方法进行制备。

请继续参考图3，在所述基板10上形成紫外光源层11之后，可以在所述紫外光源层11上(具体是第二透明电极上)形成一透明保护层12。所述透明保护层12选择为透明的材料，例如是有机胶，可以涂覆在所述紫外光源层11上，也可以是采用有机胶和玻璃胶合后作为所述透明保护层12。所述透明保护层12还可以选择现有技术中的其他任意材料。

然后，执行步骤S13，如图4所示，在所述紫外光源层11上形成发光层13，所述发光层13包括形成于紫外光源层11上的黑矩阵132以及发光单元131，所述发光单元131填充于黑矩阵132的空隙中。具体的，可以是在所述紫外光源层11(本实施例具体是指透明保护层12)上通过光刻方式形成黑矩阵132，所述黑矩阵132例如是黑色树脂框(例如光阻等)，采用光刻法形成黑矩阵；也可以采用金属材质，例如是先采用溅射工艺制备一层铬(Cr)层，然后通过光刻形成黑矩阵，可以防止漏光，并增强黑白对比。黑矩阵132具有多个空隙，然后将红、绿、蓝三色发光单元131填充在黑矩阵132的空隙中，具体的，可以是采用旋涂工艺依次在相应的空隙中填充红、绿、蓝三色发光材料，使得空隙填充满，从而形成红、绿、蓝三色发光单元131。本实施例采用的旋涂工艺制程简单易操作，不需要使用传统工艺制备RGB三颜色的有机发光二极管，也就避免了蒸镀中复杂的多次对位，有利于提升产品的良率，而且有利于制备大尺寸显示器。所述黑矩阵132的空隙例如可以为长方体状、圆柱形等。并且这些空隙可以是均匀分布，从而确保发光单元131均匀分布。当然，每个空隙的尺寸形状以相同为佳，从而可以确保发光强度基本一致。对于某些特定需求，也可以使得不同空隙的大小(形状体积)并不相同，以使得某一种类型的发光单元131存在较小的(或较大的)空隙中。依据实际需要，可以是红、绿、蓝三色发光单元131均匀分布，即采用“RGBRGBRGB”这样的3*3矩阵式排布，也可以是“RGBGBGRGR”这样的3*3矩阵式排布，还可以是“RGBGBRBGR”这样的3*3矩阵式排布，或者是“RGBGBGRGR”这样的3*3矩阵式排布。如此，当紫外光源层11发出紫外光时，红、绿、蓝三色发光单元131受到紫外光照射就可以相应的发出红光、绿光和蓝光，从而实现全彩化显示。

在所述紫外光源层11上形成发光层13之后，也可以形成保护层(未图示)，以实现对发光层13的保护。这一保护层与上文提到的透明保护层12可以有着相同的选择。

之后，执行步骤S14，如图5所示，在所述发光层13上形成液晶层14。在本发明中，形成液晶层14可以灵活实现发光的显示。所述液晶层14对应覆盖红、绿、蓝三色发光单元131，因此红、绿、蓝三色发光单元131发出的光需要透过液晶层14才可以发射出去，那么可以通过在液晶层14上不同区域施加不同的电压，实现对红、绿、蓝三色发光单元131发出的光的控制。例如，可以实现单一色光的透过，或者不同区域有着不同的发光强度等，从而实现各种各样色彩的显示。

考虑到紫外光源层11的存在，为了避免紫外光源层11发出的紫外光未被完全利用而发射出去对使用者产生不良影响，可以步骤S14完成后，在一盖板16内侧(即封装后朝向基板10的一侧)上形成一层紫外光吸收层15，如图6所示。例如，所述紫外光吸收层15可以是氧化钛(TiO₂)、氧化铝(Al₂O₃)和氧化硅(SiO₂)中的一种或多种，可以通过化学或物理气相沉积工艺形成所述紫外光吸收层15。当然也可以是其他能够吸收紫外光的材质，本发明对此并不做特别限制。所述紫外光吸收层15的厚度可以控制在10nm-40nm范围，以在确保吸收效率的情况下，不对整体厚度产生较大影响。

最后，执行步骤S15，如图7所示，在所述液晶层14上形成所述盖板16，所述盖板16与基板10通过Frit封装形成合板。所述盖板16也可以是玻璃基板。当然，所述盖板16也可以是柔性基板，例如是一聚酰亚胺(PI)基板，所述柔性基板的形状可为平面、曲面或其他不规则形状。应理解的是，所述盖板16的材质以及形状在此不做限制。

至此，本发明的显示装置制作完成。

请继续参考图7，本发明获得的显示装置，包括：

基板10；

设置在所述基板10上的紫外光源层11，例如，所述紫外光源层11包括多个发光二极管，所述发光二极管均匀排布；

设置在所述紫外光源层11上的发光层13，所述发光层13包括黑矩阵132和红、绿、蓝三色发光单元131，所述红、绿、蓝三色发光单元131填充在所述黑矩阵132中；

设置在所述发光层13上的液晶层14；

设置在所述液晶层14上的紫外光吸收层15，所述紫外光吸收层15的厚度为10nm-40nm，所述紫外光吸收层15可以为氧化钛、氧化铝和氧化硅中的一种或多种；

设置在所述液晶层14上(具体是紫外光吸收层15上)的盖板16。

综上所述，本发明提供的显示装置及其制作方法，包括：提供基板；在所述基板上形成紫外光源层；在所述紫外光源层上形成发光层；在所述发光层上形成液晶层；在所述液晶层上形成盖板。这一方法制程简单，不需要使用传统工艺制备RGB三颜色的有机发光二极管，也就避免了蒸镀中复杂的多次对位，有利于提升产品的良率；液晶层的存在，可以灵活控制显示装置发出的色彩，从而在显示上灵活性大大提高，能够满足不同需求。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种显示装置，包括：

基板；

设置在所述基板上的紫外光源层；

设置在所述紫外光源层上的发光层；

设置在所述发光层上的液晶层；

设置在所述液晶层上的盖板。

2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述紫外光源层包括多个发光二极管。

3.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述发光二极管均匀排布在所述基板上。

4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述发光层包括红、绿、蓝三色发光单元。

5.如权利要求4所述的显示装置，其特征在于，所述发光层还包括黑矩阵，所述红、绿、蓝三色发光单元填充在所述黑矩阵中。

6.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，还包括设置在所述液晶层和盖板层之间的紫外光吸收层。

7.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述紫外光吸收层的厚度为10nm-40nm。

8.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述紫外光吸收层为氧化钛、氧化铝和氧化硅中的一种或多种。

9.一种如权利要求1-8中任意一项所述的显示装置的制作方法，包括：

提供基板；

在所述基板上形成紫外光源层；

在所述紫外光源层上形成发光层；

在所述发光层上形成液晶层；

在所述液晶层上形成盖板。

10.如权利要求1所述的显示装置的制作方法，其特征在于，在所述发光层上形成液晶层之后，在所述液晶层上形成盖板之前，还包括：

在所述盖板内侧形成紫外光吸收层，盖板与基板通过Frit封装形成合板。