CN106843622A - 采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法，经过PET老化‑镀氧化硅‑镀金属银‑镀氧化烟锡‑印蚀刻膏‑烘烤‑清洗的生产步骤生产电容触摸屏功能片，达到简化了生产流程、提高了生产效率、提高了产品良率和降低了成本目的。

Description

采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法
技术领域
本发明涉及电容触摸屏生产领域，具体涉及一种采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法。
背景技术
现有的触摸面板功能片的基材有：a、玻璃两面镀ITO(氧化铟锡)；b、透明PET薄膜单面镀ITO；c、透明PET薄膜单面铜+ITO；d、单膜双面铜膜。其中玻璃基材因其厚度较厚，一般在0.33—1.1mm之间，很难实现超薄，重量轻的产品，同时易啐，不能实现弯曲作业；PET薄膜单面镀ITO基材需分别制作出功能片的两面，再将两面对位贴合在一起。同时功能片的两边导线要用丝网印刷银线或者激光镭射导线，再通过丝网印刷一层绝缘油墨保护层；因ITO镀膜时其材质的特性附着在PET材料表面的ITO不可进行强度弯曲，无法实现曲面作业；其阻值在100--400Ω，常用的为150Ω，很难实现高精度的效果；两次黄光加工生产，同时需要将两片大片贴合在一起，因此生产流程复杂、效率较低，同时在贴合时会产生气泡和杂质而影响产品良率；PET薄膜单面ITO+铜膜基材也需分别制作出功能片的两面，在将两面对位贴合在一起。因其基材是两层导电层，所以每个单面制程需经过两次蚀刻，同时ITO的面电阻较大，故很难满足大尺寸的要求；单膜双面铜膜制作电容触屏功能片，因铜的不透明性，必须将铜膜制作成3-5um的金属网格，但投资较大，良率较低，透光率较低。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明提出了一种采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法，以达到提高生产效率、减轻工作人员的工作负担、节省工作时间和和保证产品质量的目的。
为达到上述目的，本发明的技术方案如下：
一种采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法，具体步骤如下：
(1).以透明单膜PET薄膜为基材，并对基材进行老化处理；
(2).在经过老化处理的基材上通过磁控溅射的方式镀上一层氧化硅；
(3).在氧化硅表面通过真空磁控溅射的方式镀上一层金属银；
(4).在金属银表面通过真空磁控溅射的方式镀上一层ITO；
(5).经过步骤(4)的基材经过高精度丝印机在膜材的表面通过菲林制作的网版丝印上一层蚀刻膏；
(6).步骤(5)得到的产品进行烘烤；
(7).对经过上述步骤得到的膜材进行清洗，制作出功能片的一面；
(8).重复步骤(5)-步骤(7)制作电容屏功能片的另一面；
(9).将两面用OCA贴合在一起形成电容屏功能片。
作为优选的，所述透明单膜PET薄膜进行老化处理时，要求老化温度140℃，时间30分钟。
作为优选的，步骤(1)中PET薄膜厚度50--200um
作为优选的，步骤(3)中金属银的厚度为5-10nm，面电阻在5-50欧左右，透过率80％以上。
作为优选的，步骤(5)中蚀刻膏的线宽线距为50-300um。
作为优选的，步骤(6)中蚀刻膏经过烘箱烘烤形成图案。
本发明具有如下优点：
1.本发明提供的生产工艺简单，简化了生产流程，提高了生产效率，提高了产品良率，降低了成本。
2.本发明采用PET、Ag、ITO薄膜代替了传统的ITO(氧化铟锡)，降低了生产成本。
3.采用本方法制成的电容触摸屏的表面阻值可实现5-15Ω左右，用此材料生产出的产品其灵敏度提高300-500倍，可实现高精密度的效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
图1为本发明实施例公开的PET薄膜单面镀膜后的剖面图；
图2为本发明实施例公开的PET薄膜单面涂布光刻胶后的剖面图；
图3为本发明实施例公开的单面金属网格功能片剖面图；
图4为本发明实施例公开的金属网格功能片的剖面图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
如图1所示，1、将PET薄膜10以卷对卷的方式通过气体浮动式老化设备进行老化，老化时间30min,老化温度140℃，使薄膜预先收缩，稳定膜材尺寸。
2、将老化过的PET薄膜10通过镀膜设备，采用真空磁控溅射的方式在薄膜10的第一表面从内向外分三次依次镀上第一层粘俯层氧化硅20，第二层导电层金属银30，第三层保护层氧化铟锡(ITO)40形成PET铜膜。如图1所示，其中PET薄膜厚度50--200um可选，金属银的厚度为5-10nm。
3、将镀膜好的PET铜膜通过高精度丝印机，通过菲林制作的网版丝印上蚀刻膏50，其线宽线距在50-300内可选。如图2所示。
4、将丝印好蚀刻膏好的PET铜模放入烘箱内烘烤，其时间和温度可根据蚀刻膏的特性设定。
5、将烘烤好的PET薄膜通过清洗线清洗，清洗液为16兆以上的纯净水，同时可加入适量的清洗剂，烘干后即可制作出电容触摸屏功能片的一面。如图3所示。
6、重复上述3、4、5步同样制作出电容触摸屏功能片的另一面。
7、通过高精度贴合机用OCA精确对位将两面功能片贴合在一起，脱泡处理后即可制作出大片Ag Ito金属网格功能片。如图4所示。其中60为OCA，11、21、31、41为10、20、30、40相对应的另一面。
通过以上的方式，本发明所提供了一种采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法，生产工艺简单，简化了生产流程，提高了生产效率，提高了产品良率，降低了成本。
以上所述的仅是本发明所公开的采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法，其特征在于，具体步骤如下：
(1).以透明单膜PET薄膜为基材，并对基材进行老化处理；
(2).在经过老化处理的基材上通过磁控溅射的方式镀上一层氧化硅；
(3).在氧化硅表面通过真空磁控溅射的方式镀上一层金属银；
(4).在金属银表面通过真空磁控溅射的方式镀上一层氧化铟锡(ITO)；
(5).经过步骤(4)的基材经过高精度丝印机在膜材的表面通过菲林制作的网版丝印上一层蚀刻膏；
(6).步骤(5)得到的产品进行烘烤；
(7).对经过上述步骤得到的膜材进行清洗，制作出功能片的一面；
(8).重复步骤(5)-步骤(7)制作电容屏功能片的另一面；
(9).将两面用透明光学胶OCA贴合在一起形成电容屏功能片。
2.根据权利要求1所述的采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法，其特征在于，所述透明单膜PET薄膜进行老化处理时，要求老化温度140℃，时间30分钟。
3.根据权利要求1所述的采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法，其特征在于，步骤(1)中PET薄膜厚度50--200um。
4.根据权利要求1所述的采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法，其特征在于，步骤(3)中金属银的厚度为5-10nm，面电阻在5-50欧左右，透过率80％以上。
5.根据权利要求1所述的采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法，其特征在于，步骤(5)中蚀刻膏的线宽线距为50-300um。
6.根据权利要求1所述的采用Ag ITO制作电容触摸屏功能片的制作方法，其特征在于，步骤(6)中蚀刻膏经过烘箱烘烤形成图案。
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