CN106823488A - 沉淀池和具有其的污水处理系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种沉淀池和具有其的污水处理系统。其中，沉淀池包括：池体，池体具有内部腔体和与内部腔体连通的多个配水口，多个配水口在竖直方向上间隔设置；至少一个出水通道，出水通道与配水口在第一水平方向上间隔设置；经多个配水口进入内部腔体中的水流向出水通道流动的过程中，在池体的竖直平面内形成由上至下依次设置的多层循环流场。本发明的技术方案可以解决现有技术中沉淀池只有一个沉淀表面，表面负荷较小，污水处理量较小的问题。

Description

沉淀池和具有其的污水处理系统

技术领域

本发明涉及污水处理设备技术领域，具体而言，涉及一种沉淀池和具有其的污水处理系统。

背景技术

沉淀池是利用悬浮物在水中的重力大于浮力而发生沉降的沉淀作用去除水中悬浮物的污水处理装置，沉淀池在废水处理中广为使用。

水流从进水通道进入沉淀池内，水流穿过沉淀池向出水通道流动的过程中，水流中的悬浮物会在重力作用下沉淀在沉淀池底部，而分离出悬浮物后的清水则通过出水通道排出沉淀池外。沉淀池中沉淀层与清水层交界的表面称为沉淀表面。沉淀池的主要工艺参数是表面负荷，表面负荷是水流的流量与沉淀池的横截面积之比。

现有技术中，沉淀池只有一个配水口和一个出水通道，从而形成单层流场，单层流场只能形成一个沉淀表面，表面负荷较小，污水处理量较小。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种沉淀池和具有其的污水处理系统，以解决现有技术中沉淀池只有一个沉淀表面，表面负荷较小，污水处理量较小的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种沉淀池，包括：池体，池体具有内部腔体和与内部腔体连通的多个配水口，多个配水口在竖直方向上间隔设置；至少一个出水通道，出水通道与配水口在第一水平方向上间隔设置；经多个配水口进入内部腔体中的水流向出水通道流动的过程中，在池体的竖直平面内形成由上至下依次设置的多层循环流场。

进一步地，配水口包括第一配水口和第二配水口，出水通道包括第一出水通道和第二出水通道，第一配水口和第二配水口均设置在池体的第一侧，第一出水通道设置在池体的与第一侧相对的第二侧，第二出水通道位于第二配水口和第一出水通道之间，从第一配水口流出的水流经内部腔体从第一出水通道流出，从第二配水口流出的水流经内部腔体从第二出水通道流出。

进一步地，池体包括池体底壁和设置在池体底壁上且顺次首尾连接的第一侧壁、第二侧壁、第三侧壁和第四侧壁，其中，第一侧壁和第三侧壁相对设置，第二侧壁和第四侧壁相对设置，沉淀池还包括设置在第一侧壁上的配水渠，第一出水通道设置在第三侧壁上，第二出水通道设置在配水渠和第一出水通道之间，第一配水口和第二配水口均设置在配水渠上，配水渠、第一出水通道和第二出水通道均沿第二水平方向延伸，其中，第二水平方向与第一水平方向之间具有夹角。

进一步地，配水渠包括沿第一水平方向间隔设置且沿竖直方向延伸的第一过流通道和第二过流通道，第一过流通道的出口形成第一配水口，第二过流通道的出口形成第二配水口。

进一步地，配水渠还包括设置在第一侧壁上的配水渠底壁以及与配水渠底壁相连的配水渠立板，配水渠立板相对于配水渠底壁向上延伸，第一侧壁、配水渠底壁和配水渠立板之间围成配水槽，配水渠底壁上设有间隔设置的第一配水孔和第二配水孔，第一配水孔与第一过流通道和配水槽均连通，第二配水孔与第二过流通道和配水槽均连通。

进一步地，配水渠还包括设置在配水渠底壁上且向下延伸的第一导流板和第二导流板，第一导流板在竖直方向上的第一高度L1大于第二导流板在竖直方向上的第二高度L2，第一配水孔位于第一导流板和第一侧壁之间，第二配水孔位于第一导流板和第二导流板之间，第一侧壁与第一导流板之间形成第一过流通道，第一导流板与第二导流板之间形成第二过流通道。

进一步地，第一高度L1与第二高度L2之间满足以下关系：2L2≤L1≤3L2，其中，150cm≤L1≤300cm。

进一步地，配水渠立板的顶部低于第一侧壁的顶部，配水渠立板的顶部与第一侧壁的顶部之间的距离L3满足以下关系：30cm≤L3≤50cm。

进一步地，第一配水孔和第二配水孔均为多个，任意相邻两个第一配水孔之间的间距L4大于任意相邻两个第二配水孔之间的间距L5，且满足以下关系：40cm≤L4≤100cm，30cm≤L5≤80cm。

进一步地，第一配水孔和第二配水孔中均设有配水管，配水管的直径D满足以下关系：4cm≤D≤10cm。

进一步地，第一出水通道由第三侧壁、与第三侧壁连接的第一底壁以及与第一底壁连接的第一立板围成，第一底壁与第一立板之间具有夹角，配水渠包括设置在第一侧壁上的配水渠底壁以及与配水渠底壁相连的配水渠立板，第二出水通道由配水渠立板、与配水渠立板连接的第二底壁以及与第二底壁连接的第二立板围成，第二底壁与第二立板之间具有夹角。

进一步地，第一立板的顶部低于第三侧壁的顶部，第二立板的顶部与第一立板的顶部齐平，第一立板的顶部到第三侧壁的顶部之间的距离L6满足以下关系：90cm≤L6≤110cm。

进一步地，沉淀池还包括设置在第一侧壁和池体底壁的连接处且位于内部腔体内的导流部，导流部具有倾斜表面，倾斜表面与池体底壁之间具有导流夹角α，导流夹角α满足以下关系：55°≤α≤65°。

进一步地，沉淀池还包括排污装置和设置在池体外侧的排泥通道，排污装置用于将沉淀池底部的污泥排至排泥通道。

根据本发明的另一个方面，提供了一种污水处理系统，包括反应装置和与反应装置连通的沉淀池，沉淀池为前述的沉淀池。

应用本发明的技术方案，池体具有内部腔体、与内部腔体连通的多个配水口以及与配水口在第一水平方向上间隔设置的至少一个出水通道，多个配水口在竖直方向上间隔设置，经多个配水口进入内部腔体中的水流向出水通道流动的过程中，可以在池体的竖直平面内形成由上至下依次设置的多层循环流场，从而将沉淀池沿池体的深度方向分为多层，每层流场中的悬浮物均会在重力作用下在本层内沉淀，从而在沉淀池内形成多个沉淀表面，这样，在不改变配水口流量的情况下，多个配水口可以将沉淀池的污水处理量提高多倍，进而在相同占地面积的情况下可以大幅提升沉淀池的表面负荷和污水处理量。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本发明的沉淀池的实施例的剖视图；以及

图2示出了图1的沉淀池的立体结构示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、池体；11、内部腔体；12、池体底壁；13、第一侧壁；14、第二侧壁；15、第三侧壁；16、导流部；20、配水渠；21、配水渠底壁；22、配水渠立板；23、第一配水孔；24、第二配水孔；25、第一导流板；26、第二导流板；27、第一配水口；28、第二配水口；30、第一出水通道；31、第一底壁；32、第一立板；40、第二出水通道；41、第二底壁；42、第二立板；50、排泥通道。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

本发明提供了一种沉淀池和具有其的污水处理系统。

污水处理系统包括反应装置和与反应装置连通的沉淀池。

反应装置可以与沉淀池一体设置，也可以与沉淀池分体设置。反应装置与沉淀池一体设置时，反应装置和沉淀池可以合建在一起，直接连通。反应装置与沉淀池分体设置时，反应装置可以通过管道等与沉淀池连通。

本发明的实施例中，反应装置可以是混凝反应器，隔油反应器，氧化或还原反应器，酸碱中和反应器，水解酸化反应器，厌氧生化反应器，好氧生化反应器等中的一个或多个的组合。

本发明的实施例中，为了解决现有技术中的沉淀池只有一个沉淀表面，表面负荷较小，污水处理量较小的问题，对沉淀池的结构进行了改进，下面进行具体说明：

如图1和图2所示，本发明的实施例中，沉淀池包括池体10，池体10具有内部腔体11和与内部腔体11连通的多个配水口，多个配水口在竖直方向上间隔设置。沉淀池还包括至少一个出水通道，出水通道与配水口在第一水平方向上间隔设置。经多个配水口进入内部腔体11中的水流向出水通道流动的过程中，在池体10的竖直平面内形成由上至下依次设置的多层循环流场。其中，第一水平方向为图2所示的左右方向。

通过上述设置，经多个配水口进入内部腔体11中的水流向出水通道流动的过程中，可以在池体10的竖直平面内形成由上至下依次设置的多层循环流场，从而将沉淀池沿池体10的深度方向分为多层，每层流场中的悬浮物均会在重力作用下在本层内沉淀，从而在沉淀池内形成多个沉淀表面，这样，在不改变配水口流量的情况下，多个配水口可以将沉淀池的污水处理量提高多倍，进而在相同占地面积的情况下可以大幅提升沉淀池的表面负荷和污水处理量。

当出水通道只有一个时，该出水通道与至少一个配水口在第一水平方向上间隔设置。相邻两个配水口之间可以在第一水平方向上具有间隔，也可以不设间隔。

如图1所示，本发明的实施例中，多个配水口包括第一配水口27和第二配水口28。出水通道包括第一出水通道30和第二出水通道40。第一配水口27和第二配水口28均设置在池体10的第一侧，第一出水通道30设置在池体10的与第一侧相对的第二侧，第二出水通道40位于第二配水口28和第一出水通道30之间。从第一配水口27流出的水流经内部腔体11从第一出水通道30流出，从第二配水口28流出的水流经内部腔体11从第二出水通道40流出。

上述设置中，沉淀池具有两个配水口和两个出水通道，形成双进双出沉淀池。从第一配水口27流出的水流经内部腔体11从第一出水通道30流出，从第二配水口28流出的水流经内部腔体11从第二出水通道40流出。这样，可以在池体10的竖直平面内形成双层流场，位于沉淀池内的水沿池体10的深度方向分为两层，从而形成两个沉淀表面，与仅有单层沉淀表面的沉淀池相比，在相同占地面积的情况下可以将沉淀池的污水处理量提高一倍。

进一步地，第一配水口27设置在池体10的第一侧，第一出水通道30设置在池体10的第二侧，这样，从第一配水口27流出的水流穿过内部腔体11从第一出水通道30流出，可以使水流具有较长的流动距离，从而使水流中的悬浮物充分沉淀，提高沉淀池的沉淀效果。

同样的道理，第二出水通道40位于第二配水口28和第一出水通道30之间，从第二配水口28流出的水流穿过内部腔体11后，流动到池体10的第二侧壁面时转而向池体10的第一侧流动，并从第二出水通道40流出，进一步增大水流的流动距离，提高沉淀效果。

优选地，本发明的实施例中，第一出水通道30的高度高于第一配水口27，第二出水通道40的高度高于第二配水口28。

这样，可以使水流形成竖直向上的流动，避免扰动池体10底部已经沉淀的污泥，同时，在水流向上流动的过程中可以进一步分离悬浮物和清水，提高沉淀池的沉淀效果。

可选地，在附图未示出的替代实施例中，也可以将第一配水口27设置在池体10的第一侧，将第二配水口28设置在池体10的第二侧。

这样，从第一配水口27和第二配水口28流出的水流反向流动，形成双层流场。

如图1和图2所示，本发明的实施例中，池体10包括池体底壁12和设置在池体底壁12上且顺次首尾连接的第一侧壁13、第二侧壁14、第三侧壁15和第四侧壁。其中，第一侧壁13和第三侧壁15相对设置，第二侧壁14和第四侧壁相对设置。沉淀池还包括设置在第一侧壁13上的配水渠20，第一出水通道30设置在第三侧壁15上，第二出水通道40设置在配水渠20和第一出水通道30之间，第一配水口27和第二配水口28均设置在配水渠20上。配水渠20、第一出水通道30和第二出水通道40均沿第二水平方向延伸。其中，第二水平方向与第一水平方向之间具有夹角。

上述设置中，将配水渠20设置在第一侧壁13上，第一出水通道30设置在第三侧壁15上，可以使水流在第一水平方向上的流动距离最大化。将第一配水口27和第二配水口28均设置在配水渠20上可以简化沉淀池的结构。配水渠20、第一出水通道30和第二出水通道40均沿第二水平方向延伸，可以在沉淀池的垂直于第二水平方向上的截面内形成均匀一致的流场。

具体地，如图1和图2所示，本发明的实施例中，池体10的横截面为矩形，第一侧壁13、第二侧壁14、第三侧壁15和第四侧壁均垂直于池体底壁12设置，从而形成矩形沉淀池，第二水平方向与第一水平方向之间的夹角为90°。

如图2所示，本发明的实施例中，第二侧壁14的长度的延伸方向与第一水平方向平行，第一侧壁13的长度的延伸方向与第二水平方向平行。

矩形沉淀池与现有技术的沉淀池相比具有容积利用率高，表面负荷大，停留时间短，出水水质好、工程投资低，适用性好的优点，大、中、小型污水厂和多种水质均可应用矩形沉淀池。

如图1所示，本发明的实施例中，配水渠20包括沿第一水平方向间隔设置且沿竖直方向延伸的第一过流通道和第二过流通道。第一过流通道的出口形成第一配水口27，第二过流通道的出口形成第二配水口28。

通过上述设置，进入配水渠20的水流首先分为两路，分别沿第一过流通道和第二过流通道竖直向下流动，由于第一配水口27和第二配水口28在竖直方向上间隔设置，因此从第一配水口27和第二配水口28流出的两路水流先后转为水平流动，并分别沿第一水平方向穿过内部腔体11，从而有利于形成互不影响的双层流场。

如图1所示，本发明的实施例中，配水渠20还包括设置在第一侧壁13上的配水渠底壁21以及与配水渠底壁21相连的配水渠立板22。配水渠立板22相对于配水渠底壁21向上延伸，第一侧壁13、配水渠底壁21和配水渠立板22之间围成配水槽。配水渠底壁21上设有间隔设置的第一配水孔23和第二配水孔24。第一配水孔23与第一过流通道连通，第二配水孔24与第二过流通道连通。

上述设置中，配水槽可以形成沉淀池的进水通道，在配水渠底壁21上间隔设置第一配水孔23和第二配水孔24可以便于形成两路进水水流。

优选地，如图1所示，配水渠底壁21与第一侧壁13垂直连接，配水渠立板22与配水渠底壁21垂直连接，第一配水孔23和第二配水孔24沿第一水平方向间隔，且第一配水孔23和第二配水孔24的轴线均沿竖直方向设置。配水渠底壁21和配水渠立板22均沿第二水平方向延伸。

通过上述设置，可以形成沿第二水平方向延伸的矩形配水槽，便于水流在配水槽内均匀流动，同时可以形成两路竖直向下流动的进水水流，有利于在池体10的竖直平面内形成互不影响的双层流场。

如图1所示，本发明的实施例中，配水渠20还包括设置在配水渠底壁21上且向下延伸的第一导流板25和第二导流板26。第一导流板25在竖直方向上的第一高度L1大于第二导流板26在竖直方向上的第二高度L2。第一配水孔23位于第一导流板25和第一侧壁13之间，第二配水孔24位于第一导流板25和第二导流板26之间。第一侧壁13与第一导流板25之间形成第一过流通道，第一导流板25与第二导流板26之间形成第二过流通道。

通过上述设置，配水槽内的水流通过第一配水孔23和第二配水孔24分为两路向池体10内布水，并在第一导流板25和第二导流板26的作用下分别向下流动，然后再分别向池体10的中心流动，在此过程中，水流会遵循沿程阻力最小的流动原则，在第二导流板26的作用下，从第二过流通道内释放的水流形成O形流场时沿程阻力最小，在第一导流板25的作用下，从第一过流通道内释放的水流形成U形流场时沿程阻力最小。

具体地，由于第二导流板26竖直方向上的高度较小，从第二配水孔24流出的水流经过第二过流通道，在第二导流板26的引导下首先产生向池体10中心流动的水平速度，该路水流沿第一水平方向流动到第三侧壁15时转为上升流动，在向池体10的中心汇流和上升的过程中分离出清水，并反向流到第二出水通道40，形成近似O形的流场，悬浮物则沉降到沉淀池的底部。

由于第一导流板25竖直方向上的高度较大，从第一配水孔23流出的水流经过第一过流通道，在第一导流板25的引导下下降到接近池底污泥面的深度后转为向沉淀池的中心流动，水流沿第一水平方向流动到第三侧壁15时转为上升流动，在向池体10的中心汇流和上升的过程中分离出清水，并流到第一出水通道30，形成近似U形的流场。该路水流因为先向下流动到池体10较低的位置后再向池体10中心缓慢流动，基于浅层沉淀理论，悬浮物会很快沉降到池底污泥层。O形流场和U形流场的水流在沉淀池中形成了上、下两个沉淀表面，增加了沉淀池的表面负荷，同时也增加了沉淀池中沉淀层和清水层的厚度，提高了悬浮物的沉淀效率。

如图1和图2所示，第一导流板25和第二导流板26均与配水渠底壁21垂直连接。第二导流板26沿配水渠立板22竖直向下延伸。

这样，可以形成沿竖直方向延伸的第一过流通道和第二过流通道，从而使第一配水孔23和第二配水孔24流出的水流形成竖直向下的运动。

本发明的实施例中，池体10的深度为5m-6m。

现有技术中，边进边出矩形沉淀池的深度一般为3.5m-4.5m，池深较浅。本发明的实施例中通过增大池体10的深度，可以确保两层流场中的悬浮物均有足够的沉降距离，从而在确保沉淀效果的同时提高污水的处理量。

进一步地，本发明的实施例中通过增大池体10的深度还可以避免现有技术中水流的流速较大时容易搅动底层已沉降的污泥，造成出水悬浮物含量升高，出水质量变差的问题。

优选地，第一高度L1与第二高度L2之间满足以下关系：2L2≤L1≤3L2，其中，150cm≤L1≤300cm。

这样，可以使流经第一过流通道的水流下降到接近池底污泥面的深度后转为向沉淀池的中心流动，从而使悬浮物快速沉降到池底污泥层。同时，可以有效地将两路进水相互分离，从而形成互不干扰的双层流场。

优选地，本发明的实施例中，第一高度L1为240cm，第一高度L1是第二高度L2的3倍。

如图1所示，本发明的实施例中，配水渠立板22的顶部低于第一侧壁13的顶部，配水渠立板22的顶部与第一侧壁13的顶部之间的距离L3满足以下关系：30cm≤L3≤50cm。

通过上述设置，可以避免配水槽中的水流溢出沉淀池的池体10外。

进一步地，配水渠立板22的顶部高于配水槽中的液位高度，从而防止配水槽中的水流溢出配水槽外，影响池体10内水流的流动。

本发明的实施例中，第一配水孔23和第二配水孔24均为多个。为方便加工，任意相邻两个第一配水孔23之间的间距L4均大于任意相邻两个第二配水孔24之间的间距L5，且满足以下关系：40cm≤L4≤100cm，30cm≤L5≤80cm。

通过上述设置，可以较为均匀地沿第二水平方向分配配水槽中的水流。同时U形流场沿程距离比O形流场的沿程距离短，悬浮物的分离效率较O形流场低，因此采用较大的间距L4，从而使第一配水孔23分配的水流的比例相对较小，平衡两层流场的沉淀效果。

当然，在未示出的替代实施例中，还可以只设置部分相邻两个第一配水孔23之间的间距L4大于部分相邻两个第二配水孔24之间的间距L5。

可选地，第一配水孔23和第二配水孔24为多个间隔设置，且孔截面为圆形的圆形孔。

当然，第一配水孔23和第二配水孔24也可以是孔截面为矩形的矩形孔，第一配水孔23和第二配水孔24均设置一个，第一配水孔23和第二配水孔24沿第二水平方向延伸。

优选地，为了在沉淀池的第二水平方向上形成均匀的流场，任意相邻两个第一配水孔23之间的间距L4相同，任意相邻两个第二配水孔24之间的间距L5相同。

具体地，相邻两个第一配水孔23之间的间距L4为80cm，相邻两个第二配水孔24之间的间距L5为50cm。

当然，多个第一配水孔23之间形成的多个间距L4可以不相同，多个第二配水孔24之间形成的多个间距L5也可以不相同。

如图1所示，第一配水孔23和第二配水孔24中均设有配水管，配水管的直径D满足以下关系：4cm≤D≤10cm。配水管的长度与配水渠底壁21的厚度相同。

优选地，本发明的实施例中，配水管直径为8cm。

如图1所示，本发明的实施例中，第一出水通道30由第三侧壁15、与第三侧壁15连接的第一底壁31以及与第一底壁31连接的第一立板32围成，第一底壁31与第一立板32之间具有夹角，配水渠20包括设置在第一侧壁13上的配水渠底壁21以及与配水渠底壁21相连的配水渠立板22，第二出水通道40由配水渠立板22、与配水渠立板22连接的第二底壁41以及与第二底壁41连接的第二立板42围成，第二底壁41与第二立板42之间具有夹角。

通过上述设置，第一出水通道30和第二出水通道40位于池体10的两侧，可以减小两层流场中水流的相互影响，同时增大水流的流动距离，使悬浮物更加有效地沉降。将第二出水通道40设置在配水渠立板22上，结构简单，便于施工。

具体地，如图1所示，配水渠底壁21设置在第一侧壁13的上部，第一底壁31垂直设置在第三侧壁15的上部。第一底壁31与配水渠立板22垂直连接，第一立板32与第一底壁31垂直连接，第二立板42与第二底壁41垂直连接。

通过上述设置，第一出水通道30和第二出水通道40均位于池体10的上部，根据沿程阻力最小的流动原则，可以使水流在流动到第三侧壁15时形成向上的流动，避免搅动池底的污泥。同时，第一出水通道30和第二出水通道40均为矩形凹槽，与壁面具有倾斜角度的梯形凹槽或圆弧形凹槽相比，可以避免清水在流动过程中产生沿第一水平方向的流动速度而流到第一出水通道30和第二出水通道40外，确保清水沿第一出水通道30和第二出水通道40可靠地排出沉淀池外。

如图1所示，本发明的实施例中，第一立板32的顶部低于第三侧壁15的顶部，第二立板42的顶部与第一立板32的顶部齐平。第一立板32的顶部到第三侧壁15的顶部之间的距离L6满足以下关系：90cm≤L6≤110cm。

通过上述设置，可以避免出水水流溢出沉淀池外，同时使第二立板42的顶部低于配水渠立板22的顶部，能够防止出水水流流入配水槽中。

进一步地，第一立板32和第二立板42的顶部低于沉淀池内液位2～5cm，从而使向上流动的清水易于进入第一出水通道30和第二出水通道40。

如图1和图2所示，本发明的实施例中，沉淀池还包括设置在第一侧壁13和池体底壁12的连接处且位于内部腔体11内的导流部16。导流部16具有倾斜表面，倾斜表面与池体底壁12之间具有导流夹角α，导流夹角α满足以下关系：55°≤α≤65°。

通过上述设置，导流斜面一方面可以使水流的紊动性降低，将水流和污泥向沉淀池的中部水平推移，另一方面也使配水槽和出水通道的底部不容易堆积污泥，从而便于污泥的排出。

优选地，如图1和图2所示，本发明的实施例中，导流部16在池体10深度方向上的截面为直角梯形，导流夹角α为60°。

如图1和图2所示，在沉淀池的第三侧壁15和池体底壁12的连接处也设有导流部16。

如图1和图2所示，本发明的实施例中，沉淀池还包括排污装置和设置在池体10外侧的排泥通道50，排污装置用于将沉淀池底部的污泥排至排泥通道50。

上述设置中，沉淀池底部的污泥可以通过排污装置排至排泥通道50，并从排泥通道50排至后续污泥处理装置中。

具体地，排泥通道50由第三底壁、第三立板和第三侧壁15围成，其中，第三底壁与第三侧壁垂直连接，第三立板与第三底壁垂直连接。第三立板的顶部与第三侧壁15的顶部齐平，第三底壁与第一底壁31齐平。

可选地，排污装置可以是吸刮泥机或气提泵。吸刮泥机可以横跨在池体10上，往复运行，采用吸嘴在沉淀池底部进行清扫。泵吸或气提泵可以将沉淀池底部沉淀的污泥吸出并通过管道排入排泥通道50。

现有的边进边出矩形沉淀池的沉淀部位仅有一个沉淀表面，想要增加污水处理量，则必须相应的增加沉淀池的占地面积，在土地紧张的污水处理设施建设地点或原有池体改造的项目中，这种池型就会受到很大局限。

本发明的实施例中的沉淀池为双进双出的矩形沉淀池，由池体底壁12和设置在池体底壁12上且顺次首尾连接的第一侧壁13、第二侧壁14、第三侧壁15和第四侧壁构成沉淀池的矩形池体10。在第一侧壁13上设有配水渠20，配水渠20包括设置在第一侧壁13上的配水渠底壁21以及与配水渠底壁21相连的配水渠立板22，配水渠底壁21上设有第一配水孔23、第二配水孔24以及竖直向下延伸的第一导流板25和第二导流板26。沉淀池还包括由第三侧壁15和设置在第三侧壁15上的第一底壁31以及与第一底壁31连接的第一立板32构成的第一出水通道30，由配水渠立板22和设置在配水渠立板22上的第二底壁41以及与第二底壁41连接的第二立板42构成的第二出水通道40。

通过上述设置，从第二配水孔24流出的水流先竖直向下流动，然后在第二导流板26的引导下首先产生向池体10中心流动的水平速度，并沿第一水平方向流动到第三侧壁15时转为上升流动，上升到接近沉淀池液面时反向流到第二出水通道40，形成近似O形的流场。从第一配水孔23流出的水流先竖直向下流动，然后在第一导流板25的引导下下降到接近池底污泥面的深度后转为向沉淀池的中心流动，水流沿第一水平方向流动到第三侧壁15时转为上升流动，并流到第一出水通道30，形成近似U形的流场。O形流场和U形流场的水流在沉淀池中形成了上、下两个沉淀表面，增加了沉淀池的表面负荷，在不改变配水口流量的情况下，可以将沉淀池的污水处理量提高一倍，进而在相同占地面积的情况下可以大幅提升沉淀池的表面负荷和污水处理量。

从以上的描述中，可以看出，本发明上述的实施例实现了如下技术效果：池体具有内部腔体、与内部腔体连通的第一配水口和第二配水口，与第一配水口对应设置的第一出水通道，以及与第二配水口对应设置的第二出水通道，水流从第一配水口和第二配水口分别进入池体内并向第一出水通道和第二出水通道流动的过程中，可以在池体的竖直平面内形成由上至下依次设置的两层循环流场，从而将沉淀池沿池体的深度方向分为多两，每层流场中的悬浮物均会在重力作用下在本层内沉淀，从而在沉淀池内形成两个沉淀表面，这样，在不改变配水口流量的情况下，两个配水口可以将沉淀池的污水处理量提高一倍，进而在相同占地面积的情况下可以大幅提升沉淀池的表面负荷和污水处理量。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (15)

1.一种沉淀池，其特征在于，包括：

池体(10)，所述池体(10)具有内部腔体(11)和与所述内部腔体(11)连通的多个配水口，多个所述配水口在竖直方向上间隔设置；

至少一个出水通道，所述出水通道与所述配水口在第一水平方向上间隔设置；

经多个所述配水口进入所述内部腔体(11)中的水流向所述出水通道流动的过程中，在所述池体(10)的竖直平面内形成由上至下依次设置的多层循环流场。

2.根据权利要求1所述的沉淀池，其特征在于，所述配水口包括第一配水口(27)和第二配水口(28)，所述出水通道包括第一出水通道(30)和第二出水通道(40)，所述第一配水口(27)和所述第二配水口(28)均设置在所述池体(10)的第一侧，所述第一出水通道(30)设置在所述池体(10)的与所述第一侧相对的第二侧，所述第二出水通道(40)位于所述第二配水口(28)和所述第一出水通道(30)之间，从所述第一配水口(27)流出的水流经所述内部腔体(11)从所述第一出水通道(30)流出，从所述第二配水口(28)流出的水流经所述内部腔体(11)从所述第二出水通道(40)流出。

3.根据权利要求2所述的沉淀池，其特征在于，所述池体(10)包括池体底壁(12)和设置在所述池体底壁(12)上且顺次首尾连接的第一侧壁(13)、第二侧壁(14)、第三侧壁(15)和第四侧壁，其中，所述第一侧壁(13)和所述第三侧壁(15)相对设置，所述第二侧壁(14)和所述第四侧壁相对设置，所述沉淀池还包括设置在所述第一侧壁(13)上的配水渠(20)，所述第一出水通道(30)设置在所述第三侧壁(15)上，所述第二出水通道(40)设置在所述配水渠(20)和所述第一出水通道(30)之间，所述第一配水口(27)和所述第二配水口(28)均设置在所述配水渠(20)上，所述配水渠(20)、所述第一出水通道(30)和所述第二出水通道(40)均沿第二水平方向延伸，其中，所述第二水平方向与所述第一水平方向之间具有夹角。

4.根据权利要求3所述的沉淀池，其特征在于，所述配水渠(20)包括沿第一水平方向间隔设置且沿竖直方向延伸的第一过流通道和第二过流通道，所述第一过流通道的出口形成所述第一配水口(27)，所述第二过流通道的出口形成所述第二配水口(28)。

5.根据权利要求3所述的沉淀池，其特征在于，所述配水渠(20)还包括设置在所述第一侧壁(13)上的配水渠底壁(21)以及与所述配水渠底壁(21)相连的配水渠立板(22)，所述配水渠立板(22)相对于所述配水渠底壁(21)向上延伸，所述第一侧壁(13)、所述配水渠底壁(21)和配水渠立板(22)之间围成配水槽，所述配水渠底壁(21)上设有间隔设置的第一配水孔(23)和第二配水孔(24)，所述第一配水孔(23)与第一过流通道和所述配水槽均连通，所述第二配水孔(24)与第二过流通道和所述配水槽均连通。

6.根据权利要求5所述的沉淀池，其特征在于，所述配水渠(20)还包括设置在所述配水渠底壁(21)上且向下延伸的第一导流板(25)和第二导流板(26)，所述第一导流板(25)在竖直方向上的第一高度L1大于所述第二导流板(26)在竖直方向上的第二高度L2，所述第一配水孔(23)位于所述第一导流板(25)和所述第一侧壁(13)之间，所述第二配水孔(24)位于所述第一导流板(25)和所述第二导流板(26)之间，所述第一侧壁(13)与所述第一导流板(25)之间形成所述第一过流通道，所述第一导流板(25)与所述第二导流板(26)之间形成所述第二过流通道。

7.根据权利要求6所述的沉淀池，其特征在于，所述第一高度L1与所述第二高度L2之间满足以下关系：2L2≤L1≤3L2，其中，150cm≤L1≤300cm。

8.根据权利要求5所述的沉淀池，其特征在于，所述配水渠立板(22)的顶部低于所述第一侧壁(13)的顶部，所述配水渠立板(22)的顶部与所述第一侧壁(13)的顶部之间的距离L3满足以下关系：30cm≤L3≤50cm。

9.根据权利要求5所述的沉淀池，其特征在于，所述第一配水孔(23)和所述第二配水孔(24)均为多个，任意相邻两个所述第一配水孔(23)之间的间距L4大于任意相邻两个所述第二配水孔(24)之间的间距L5，且满足以下关系：40cm≤L4≤100cm，30cm≤L5≤80cm。

10.根据权利要求5所述的沉淀池，其特征在于，所述第一配水孔(23)和所述第二配水孔(24)中均设有配水管，所述配水管的直径D满足以下关系：4cm≤D≤10cm。

11.根据权利要求3至10中任一项所述的沉淀池，其特征在于，所述第一出水通道(30)由所述第三侧壁(15)、与所述第三侧壁(15)连接的第一底壁(31)以及与所述第一底壁(31)连接的第一立板(32)围成，所述第一底壁(31)与所述第一立板(32)之间具有夹角，所述配水渠(20)包括设置在所述第一侧壁(13)上的配水渠底壁(21)以及与所述配水渠底壁(21)相连的配水渠立板(22)，所述第二出水通道(40)由所述配水渠立板(22)、与所述配水渠立板(22)连接的第二底壁(41)以及与所述第二底壁(41)连接的第二立板(42)围成，所述第二底壁(41)与所述第二立板(42)之间具有夹角。

12.根据权利要求11所述的沉淀池，其特征在于，所述第一立板(32)的顶部低于所述第三侧壁(15)的顶部，所述第二立板(42)的顶部与所述第一立板(32)的顶部齐平，所述第一立板(32)的顶部到所述第三侧壁(15)的顶部之间的距离L6满足以下关系：90cm≤L6≤110cm。

13.根据权利要求3至10中任一项所述的沉淀池，其特征在于，所述沉淀池还包括设置在所述第一侧壁(13)和所述池体底壁(12)的连接处且位于所述内部腔体(11)内的导流部(16)，所述导流部(16)具有倾斜表面，所述倾斜表面与所述池体底壁(12)之间具有导流夹角α，所述导流夹角α满足以下关系：55°≤α≤65°。

14.根据权利要求3至10中任一项所述的沉淀池，其特征在于，所述沉淀池还包括排污装置和设置在所述池体(10)外侧的排泥通道(50)，所述排污装置用于将所述沉淀池底部的污泥排至所述排泥通道(50)。

15.一种污水处理系统，包括反应装置和与所述反应装置连通的沉淀池，其特征在于，所述沉淀池为权利要求1至14中任一项所述的沉淀池。