CN106619023B - 一种振动力集中装置及按摩器 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种振动力集中装置及按摩器，所述装置包括：振动机构、传动机构、支撑机构和吸附盘；其中，吸附盘设置于支撑机构与传动机构之间，并以可拆卸的方式与支撑机构固定连接；传动机构与吸附盘连接，并在二者之间形成容纳空间；振动机构设置于容纳空间内，并被套设于传动机构内，振动机构两侧面与吸附盘和传动机构相贴合；传动机构远离振动机构的一侧为振动力集中端，吸附盘远离振动机构的一侧为振动力释放端；在振动机构的振动下，吸附盘能够将与振动机构贴合处受到的振动力释放；传动机构能够将与振动机构贴合处受到的振动力传递至振动力集中端，从而满足受力部位的对振动力的需求，提高舒适感。

Description

一种振动力集中装置及按摩器

技术领域

本发明涉及美容医疗机械领域，特别涉及一种振动力集中装置及按摩器。

背景技术

目前，市场上出现了各种针对人体的按摩设备，这些按摩器械通常可以通过对人体部位进行挤压和振动来实现按摩，并且可以通过改变频率的方式调节按摩的强度，以达到人体放松的目的，例如以下几种：

家用按摩椅：在按摩椅内部设置多个按摩头，人体利用自身重量与按摩头充分接触，通过按摩椅的主控器控制按摩头的速度、频率和强度。通过按摩头的按摩可以达到放松肌肉的目的。

减肥腰带：在腰带内部内置了多个偏心电机。通过腰带使电机与人体接触，利用偏心电机实现振动从而使得肌肉振动，从而达到消耗脂肪的作用。

颈椎按摩仪：通过软体连接物与按摩仪体两侧连接，所述的按摩珠块有两组，依次固定设于按摩仪里侧，所述的调节键固定于按摩仪体顶部。所述的调节键固定于按摩仪体端部一侧，所述的遥控器独立设置，用于操控颈椎按摩仪。

肩部捶打器：内置电磁铁，一般呈空心状，电磁铁均布于壳体19侧壁上，中心处设置按摩头，利用电流变化可以改变捶打的强度和速率，以起到放松颈部和肩部的作用。

脊椎按摩仪，可以在进行水平往复运动同时，进行上下往复运动，从而更有效地提高按摩疗效。

上述按摩设备存在以下缺陷：

一方面是：在按摩个过程中振动力会产生在设备上各个位置处，无法将振动力集中于按摩位置处，导致用户体验较差，按摩效果不佳。

第二是：通过调整电机转速，实现调节振动频率以变化按摩强度，或者通过复杂的机械结构完成对按摩强度的调整；

第三是：方便对人体大部分较为容易按摩到的器官进行按摩，对关节处或者是中医理论上强调的穴位按摩等却无法顾及。

因此，如何提供一种结构简单，并且能够将振动力集中于按摩部位的装置成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是如何提供一种振动力集中装置及按摩器，以解决现有技术中振动力无法集中于受震动的位置上以及按摩效果不佳的技术问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种振动力集中装置，包括：振动机构、传动机构、支撑机构和吸附盘；

其中，所述吸附盘设置于所述支撑机构与所述传动机构之间，并以可拆卸的方式与所述支撑机构固定连接；所述传动机构与所述吸附盘连接，并在二者之间形成容纳空间；所述振动机构设置于所述容纳空间内，并被套设于所述传动机构内，所述振动机构两侧面与所述吸附盘和所述传动机构相贴合；所述传动机构远离所述振动机构的一侧为振动力集中端，所述吸附盘远离所述振动机构的一侧为振动力释放端；

在所述振动机构的振动下，所述吸附盘能够将与所述振动机构贴合处受到的振动力释放；所述传动机构能够将与所述振动机构贴合处受到的振动力传递至所述振动力集中端。

优选的，所述振动力集中端设置有与所述振动力的承受侧配合的集中凹槽或集中凸起，所述振动力能够被聚集于所述集中凹槽内或集中凸起处，并传递至所述承受侧。

优选的，所述吸附盘靠近所述支撑机构的端面上设置有连续或离散的环形凹槽结构。

优选的，所述环形凹槽结构是由所述吸附盘中心向边缘逐步延伸的环状凹槽结构，或者是由所述吸附盘中心依次向边缘扩充的波纹式环状凹槽结构。

优选的，所述振动力集中端的振动力的大小，通过所述环形凹槽的宽度和/或数量、及所述振动机构的输出功率设定。

优选的，所述吸附盘与所述传动机构相对的边缘位置处，设置有啮合式装配固定结构。

优选的，包括：无线连接接口，设置于所述振动机构上，接收控制端的控制信号，触发所述振动机构振动。

本发明还提供一种按摩器，包括：壳体，在所述壳体内设置有如上所述的振动力集中装置；所述壳体包覆所述吸附盘、所述振动机构及所述传动机构，构成封闭结构。

优选的，所述壳体内壁设置有与所述振动力集中端相配合的集中结构。

优选的，当所述振动力集中端设置为所述集中凹槽时，所述壳体内壁相对所述集中凹槽位置处设置相匹配的凸块；或者，当所述振动力集中端设置为所述集中凸起时，所述壳体内壁相对所述集中凸起位置处设置有相匹配的凹口。

与现有技术相比，本发明提供的一种振动力集中装置，通过在支撑机构上设置吸附盘，在吸附盘上设置振动机构，在振动机构外套设传动机构，在传动机构靠近振动力承受侧设置振动力集中端，从而在所述振动机构的振动下，所述吸附盘能够将与所述振动机构贴合处受到的振动力释放；同时，所述传动机构能够将与所述振动机构贴合处受到的振动力传递至所述振动力集中端，并有所述振动力集中端向所述振动力承受侧传递；从而能够满足振动力对受力部位的需求，并不受所述受力部位的结构、面积等限制，提高振动按摩效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例和现有技术中的技术方案，下面将对实施例和现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明提供的一种振动力集中装置的实施例的结构示意图；

图2是本发明提供的一种振动力集中装置中传动机构的结构示意图；

图3是本发明提供的一种振动力集中装置中吸附盘的结构示意图；

图4是本发明提供的一种振动力集中装置中吸附盘靠近支撑机构侧的结构示意图；

图5是本发明提供的一种按摩器的结构示意图；

图6是图5的长度方向的剖视图。

图号说明

振动力集中装置100，支撑机构11，吸附盘12，振动机构13，传动机构14，振动力集中端15，啮合式装配固定结构16，环形凹槽17，集中凹槽18，壳体19，凸块20，外翻边21，内翻边22，承受侧23。

具体实施方式

下面将接合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参考图1所示，图1是本发明提供的一种振动力集中装置的结构示意图。本发明提供的一种振动力集中装置包括：振动机构11、传动机构14、支撑机构11和吸附盘12。

其中，所述吸附盘12设置于所述支撑机构11与所述传动机构14之间，并以可拆卸的方式与所述支撑机构11固定连接；所述传动机构14与所述吸附盘12连接，并在二者之间形成容纳空间；所述振动机构11设置于所述容纳空间内，并被套设于所述传动机构14内；所述振动机构11的两侧面与所述吸附盘12和所述传动机构14相贴合；所述传动机构14远离所述振动机构11的一侧为振动力集中端15，所述吸附盘12远离所述振动机构11的一侧为振动力释放端；

在所述振动机构11的振动下，所述吸附盘12能够将与所述振动机构11贴合处受到的振动力释放；所述传动机构14能够将与所述振动机构11贴合处受到的振动力传递至所述振动力集中端15。

请结合图1，参考图2所示，图2是本发明提供的一种振动力集中装置中传动机构的结构示意图。

为达到更好的振动力集中效果，如图2所示，在所述振动力集中端15设置有与所述振动力承受侧23配合的集中凹槽18或集中凸起，所述振动力能够被聚集于所述集中凹槽18内或集中凸起处，所述振动机构11的振动力通过所述集中凹槽18或所述集中凸起传递至振动力承受侧23。

所述传动机构14的所述振动力集中端15可以根据振动力的承受侧23结构设置相匹配的结构。例如：当所述承受侧23具有凸起结构时，所述振动力集中端15可以设置集中凹槽18，与其对应匹配；当所述承受侧23具有凹槽结构时，所述振动力集中端15可以设置为集中凸起，与其对应匹配。

可理解的是，所述承受侧23与所述振动力集中端15也可以不设置任何的集中凹槽17或凸块18，仅通过二者的相接处即可实现振动力集中施加于所述承受侧上，也可以是，仅在所述振动力集中端15设置朝向所述承受侧的凸块20，使所述凸块20与所述承受侧接触，传递振动力；或者仅在所述承受侧23上设置朝向所述振动力集中端的凸块20，使凸块能够传递所述振动力集中端的振动力。

所述集中凹槽18和集中凸起的形状及大小可以根据所述承受侧的承受面积以及形状来确定。

请结合图1、图2参考图3和图4所示，图3是本发明提供的一种振动力集中装置中吸附盘的结构示意图；图4是本发明提供的一种振动力集中装置中吸附盘靠近支撑机构侧的结构示意图。

在本发明提供的振动力集中装置的实施中，如图3所示，所述吸附盘12靠近所述支撑机构11的端面上设置有连续或离散的环形凹槽17结构，从而能够将所述振动机构11向所述吸附盘12释放的振动力通过所述环形凹槽17结构释放。

为提高所述吸附盘12的释放能力，如图4所示，所述吸附盘12的环形凹槽17结构可以是由所述吸附盘12中心向边缘逐步延伸的环状凹槽结构，或者是由所述吸附盘12中心依次向边缘扩散的波纹式环状凹槽结构。所述由所述吸附盘12中心向边缘逐步延伸的环状凹槽结构可以是依次连续的设置也可以是断续离散的设置，同样的，所述由所述吸附盘12中心依次向边缘扩散的波纹式环状凹槽结构可以是依次连续设置，也可以是连续的间隔设置，或者是依次的错位离散设置。也就是说，所述环状凹槽结构可以是所述吸附盘12半径为依次增大的方向上进行设置，设置为整环状或者非整环状的导槽结构。

在本实施中，所述环形凹槽17的宽度和/或数量、及所述振动机构11的输出功率等设置所述振动力集中端15的振动力的大小。

为便于所述吸附盘12与所述支撑机构11之间的连接固定，在本实施中可以采用可拆卸的方式，例如：嵌入卡扣式等。

请参考图2至图4所示，为便于将所述吸附盘12与所述传动机构14连接固定，在所述吸附盘12与所述传动机构14相对的边缘位置处，设置有啮合式装配固定结构16。

所述啮合式装配固定结构16具体为在所述传动机构14的边侧设置有向外延伸并外翻的外翻边21，所述外翻边21是朝向所述传动机构14顶部方向外翻，所述传动机构14顶部为靠近所述承受侧的一侧。

在所述吸附盘12的边侧设置有向内延伸并内翻的内翻边22，所述内翻边22是朝向所述吸附盘12顶部的方向内翻，所述吸附盘12顶部为靠近所述支撑机构11的一侧。

所述传动机构14的外翻边21与所述吸附盘12的内翻边22相配合，将所述传动机构14与所述吸附盘12相互啮合连接，进而将所述传动机构14容纳于二者形成的容纳空间内。

为便于所述振动机构11的控制，提高操控的便利性，本发明提供的振动力集中装置还包括：无线连接接口，设置于所述振动机构11上，接收来自外部控制端的控制信号，触发所述振动机构11振动。

本发明提供的一种振动力集中装置，在所述振动机构11的振动下，能够将所述振动机构11施加在所述吸附盘12侧的振动力，由所述吸附盘12的环形凹槽17释放出去，通过所述传动机构14的振动力集中端15将所述振动机构11施加于所述传动机构14上的振动力集中在所述振动力集中端15，并聚集于所述振动力承受侧位置处，从而满足所述承受侧振动力的需求。

在本实施中，所述振动机构11可以选用振动马达，所述传动机构14、吸附盘12可以选用硅胶类材质，所述硅胶可以选用邵氏硬度为40度的硅胶材质。

基于上述，请参考图5至图6所示，图5本发明提供的一种按摩器的结构示意图；图6是图5的横向剖视图。

如图5和图6所示，本发明还提供一种按摩器，所述按摩器包括：包括：壳体19，在所述壳体19内设置有如上所述的振动力集中装置；所述壳体19包覆所述吸附盘12、所述振动机构11及所述传动机构14，构成封闭结构。所述支撑机构11可以固定于所述壳体19内。

所述振动力集中装置，在所述壳体19内可以设置有多个，可以依次的顺序设置，也可以在所述壳体19的各个方向交错设置。所述壳体19内的振动力集中装置的设置方式、数量可以根据实际按摩需要进行设置，并不限于上述内容。

所述壳体19内壁设置有与所述振动力集中端15相配合的集中结构。在本实施中，当所述振动力集中端15设置为所述集中凹槽18时，所述壳体19内壁相对所述集中凹槽18位置处设置相匹配的凸块20，所述凸块20能够嵌入在所述集中凹槽18内，在所述振动机构11振动下，通过所述传动机构14将振动力集中在所述集中凹槽18处，所述集中凹槽18将振动力传递至所述凸块20上，再由所述凸块20将所述振动力传递至按摩部位。

或者，当所述振动力集中端15设置为所述集中凸起时，所述壳体19内壁相对所述集中凸起位置处设置有相匹配的凹口；所述集中凸起能够嵌入至所述凹口，所述振动机构11的振动力通过所述传动机构14将振动力集中于所述集中凸起上并传递至所述凹口内，在由所述凹口传递至按摩部位。

所述振动机构11靠近所述吸附盘12的振动力能够被所述吸附盘12吸收，并通过吸附盘12底部环形凹槽17释放，进而使得按摩器在按摩过程中，将振动机构11的振动力集中于按摩部位，提高按摩部位的按摩效果，并将降低振动机构11对非按摩部位的振动提高舒适度。

以上所述仅为本发明提供的一种振动力集中装置及按摩器的优选实施方式，并不构成对本发明保护范围的限定。该实施例中的部件数量并不局限于实施例中所采用的方式，任何在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的权利要求保护范围之内。

Claims (8)

1.一种振动力集中装置，其特征在于，包括：振动机构、传动机构、支撑机构和吸附盘；

其中，所述吸附盘设置于所述支撑机构与所述传动机构之间，并以可拆卸的方式与所述支撑机构固定连接，所述吸附盘靠近所述支撑机构的端面上设置有连续的环形凹槽结构；所述传动机构与所述吸附盘连接，并在二者之间形成容纳空间；所述振动机构设置于所述容纳空间内，并被套设于所述传动机构内，所述振动机构两侧面与所述吸附盘和所述传动机构相贴合；所述传动机构远离所述振动机构的一侧为振动力集中端，所述吸附盘远离所述振动机构的一侧为振动力释放端；

在所述振动机构的振动下，所述吸附盘能够将与所述振动机构贴合处受到的振动力释放；所述传动机构能够将与所述振动机构贴合处受到的振动力传递至所述振动力集中端，所述振动力集中端设置有与所述振动力的承受侧配合的集中凹槽或集中凸起，所述振动力能够被聚集于所述集中凹槽内或集中凸起处，并传递至所述承受侧。

2.根据权利要求1所述的振动力集中装置，其特征在于，所述环形凹槽结构是由所述吸附盘中心向边缘逐步延伸的环状凹槽结构，或者是由所述吸附盘中心依次向边缘扩充的波纹式环状凹槽结构。

3.根据权利要求1所述的振动力集中装置，其特征在于，所述振动力集中端的振动力的大小，通过所述环形凹槽的宽度和/或数量、及所述振动机构的输出功率设定。

4.根据权利要求1所述的振动力集中装置，其特征在于，所述吸附盘与所述传动机构相对的边缘位置处，设置有啮合式装配固定结构。

5.根据权利要求1所述的振动力集中装置，其特征在于，包括：无线连接接口，设置于所述振动机构上，接收控制端的控制信号，触发所述振动机构振动。

6.一种按摩器，其特征在于，包括：壳体，在所述壳体内设置有如权利要求1-5任意一项所述的振动力集中装置；所述壳体包覆所述吸附盘、所述振动机构及所述传动机构，构成封闭结构。

7.根据权利要求6所述的按摩器，其特征在于，所述壳体内壁设置有与所述振动力集中端相配合的集中结构。

8.根据权利要求7所述的按摩器，其特征在于，当所述振动力集中端设置为所述集中凹槽时，所述壳体内壁相对所述集中凹槽位置处设置相匹配的凸块；或者，当所述振动力集中端设置为所述集中凸起时，所述壳体内壁相对所述集中凸起位置处设置有相匹配的凹口。

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