CN106569624A - 触控基板与触控装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种触控基板与触控装置，其中，触控基板包括一基板以及一触控电极结构。触控电极结构具有一第一透明导电层与一第二透明导电层，第一透明导电层设置于基板上并具有一第一侧边，第二透明导电层叠设于第一透明导电层上；其中，第一透明导电层具有一第一侧面位于第一侧边，第二透明导电层具有一第二侧面位于第一侧边上，第一侧面具有一第一斜率，第二侧面具有一第二斜率，第一斜率的绝对值大于第二斜率的绝对值。本发明可减少触控感测结构的光线反射量，进而提高触控基板与触控装置可视性。

Description

触控基板与触控装置
技术领域
本发明关于一种触控基板与触控装置，特别关于一种具有较佳可视性的触控基板与触控装置。
背景技术
随着科技不断的进步，各种信息设备不断地推陈出新，例如手机、平板电脑、超轻薄笔记本电脑、及卫星导航等。除了一般以键盘或鼠标输入或操控之外，利用触控式技术来操控信息设备是一种相当直觉且受欢迎的操控方式。其中，触控装置具有人性化及直觉化的输入操作界面，使得任何年龄层次的使用者都可直接以手指或触控笔选取或操控信息设备。
现有一种触控技术称之为TOD(touch on display)技术，TOD是将触控感应器(touch sensor)直接设置在显示面板(例如LCD面板)的彩色滤光基板上，再贴覆偏光板后可加上或不加一保护玻璃后即可完成触控装置。其中，触控感测(器)结构一般为多个走线区与多个触控感测区交替出现的电极结构。触控感测区包含驱动电极及感测电极，而走线区则包含分别连接至触控控制电路的多个走线。然而，在现有技术中，由于触控感测区与走线区的电极图案(patterns)在特定视角(或强光)下，容易看到反射光线所造成亮暗纹路，使得触控装置的可视性不佳(可视性不佳表示容易看见电极图案)。
因此，如何提供一种触控基板与触控装置，可减少触控感测结构的光线反射量而提高其可视性，已成为重要课题之一。
发明内容
有鉴于上述课题，本发明的目的为提供一种可减少光线的反射量而提高可视性的触控基板与触控装置，解决现有技术中触控装置的可视性不佳的问题。
为达上述目的，依据本发明的一种触控基板，包括一基板以及一触控电极结构。触控电极结构具有一第一透明导电层与一第二透明导电层，第一透明导电层设置于基板上并具有一第一侧边，第二透明导电层叠设于第一透明导电层上；其中，第一透明导电层具有一第一侧面位于第一侧边，第二透明导电层具有一第二侧面位于第一侧边上，第一侧面具有一第一斜率，第二侧面具有一第二斜率，第一斜率的绝对值大于第二斜率的绝对值。
为达上述目的，依据本发明的一种触控装置，包括一第一基板一第二基板以及一触控电极结构。第二基板与第一基板相对而设。触控电极结构具有一第一透明导电层与一第二透明导电层，第一透明导电层设置于第一基板上并具有一第一侧边，第二透明导电层叠设于第一透明导电层上，其中，第一透明导电层具有一第一侧面位于第一侧边，第二透明导电层具有一第二侧面位于第一侧边上，第一侧面具有一第一斜率，第二侧面具有一第二斜率，第一斜率的绝对值大于第二斜率的绝对值，且通过触控电极结构使触控装置具有较佳的可视性。
在一实施例中，第一透明导电层或第二透明导电层为非结晶态或结晶态的材料。
在一实施例中，第一透明导电层的材料为铟锌氧化物或铟锡氧化物，第二透明导电层的材料为铟锡氧化物或铟锡锗氧化物。
在一实施例中，第一透明导电层的刻蚀率大于第二透明导电层的刻蚀率。
在一实施例中，第一透明导电层具有一第一厚度，第二透明导电层具有一第二厚度，第一厚度与第二厚度的比值介于0.1与10之间。
承上所述，因本发明的触控基板与触控装置中，是通过将触控电极结构的第二透明导电层叠设于第一透明导电层上，并使得第一透明导电层的第一侧边的第一侧面斜率的绝对值大于位于第一侧边上的第二透明导电层的第二侧面斜率的绝对值，使得触控电极结构的走线或触控电极的斜面长度较现有技术者短，因此，可减少触控感测结构的光线反射量，进而提高触控基板与触控装置可视性。
附图说明
图1为一种透明导电膜的厚度与穿透率、反射率及吸收率的关系示意图。
图2A为本发明较佳实施例一种触控装置的示意图。
图2B为图2A的触控装置中，触控感测结构的俯视示意图。
图2C为图2B的触控感测结构中，一区域的放大示意图。
图2D为图2B的触控电极结构的局部侧视示意图。
图3A至图3D分别为不同实施方式的触控电极结构的局部侧视示意图。
图4为本发明的触控装置的另一示意图。
具体实施方式
以下将参照相关附图，说明依本发明较佳实施例的触控基板与触控装置，其中相同的元件将以相同的参照符号加以说明。
于触控感测结构的制造上，常会使用透明导电膜(Transparent Conductive Oxidethin film，简称TCO)来制作触控感测电极及走线，利用透明导电膜(TCO)可达86％以上的穿透率以及导电特性作为电信号的传导介质。在制作上，决定透明导电膜的厚度主要有二个因素，第一是阻抗：阻抗需求愈低，膜厚则愈厚；第二是可视性：需以人眼不可见电极图案(pattern)为追求目标。
请参照图1所示，其为一种透明导电膜的厚度与穿透率、反射率及吸收率的关系示意图。图1的透明导电膜是以铟锡氧化物(indium-tin oxide,ITO)为例。
在图1中可发现，考虑到透明导电膜因光线干涉所造成的穿透率差异，并搭配触控IC的阻抗需求等因素，在透明导电膜使用铟锡氧化物的材料时，其厚度接近1400埃时为最佳的选择，此时透明导电膜有相对较佳的穿透率(T％)，且阻抗亦小于40Ω/平方单位，符合触控感测结构的需求。
另外，在TOD(Touch on Display)技术的单层触控感测结构的制作上，由于触控感测结构的电极图案在特定视角(或强光)下，容易看到电极图案的斜面因反射光线所造成的亮暗纹路，而且愈长的电极图案斜面长度，其反射的光量愈多，使得电极图案的可视性愈差。因此，若可减少电极图案的斜面长度就可减少反射的光量，进而提高其可视性。
以下介绍本发明较佳实施例的触控基板与触控装置，与现有相较，以下的实施例的触控电极结构具有较短的斜面长度，因此，可减少反射光线所造成的亮暗纹路而提高其可视性。
请参照图2A至图2D所示，其中，图2A为本发明较佳实施例一种触控装置1的示意图，图2B为图2A的触控装置1中，触控感测结构13的俯视示意图，图2C为图2B的触控感测结构13中，区域A的放大示意图，而图2D为触控电极结构13的局部侧视示意图。于图示中显示第一方向X、第二方向Y及第三方向Z，第一方向X、第二方向Y及第三方向Z实质上可两两相互垂直。其中，第一方向X例如可与触控装置1的数据线的延伸方向实质上平行，第二方向Y例如可与触控装置1的扫描线的延伸方向实质上平行，而第三方向Z可分别为垂直第一方向X与第二方向Y的另一方向。不过，在一些实施例中，第一方向X与第二方向Y不一定要垂直，且第一方向X与第二方向Y之间的夹角例如可为锐角，并不限定。
本实施例的触控装置1包括一第一基板11、一第二基板12、一触控感测结构13、一第一偏光元件14、一第二偏光元件15及一液晶层LC。
第一基板11与第二基板12相对而设。其中，第一基板11或第二基板12可为可透光材质所制成，其材料例如是玻璃、石英或类似物、塑胶、橡胶、玻璃纤维或其他高分子材料；或者，第一基板11或第二基板12也可为不透光材质所制成，并例如是金属-玻璃纤维复合板、金属-陶瓷复合板，或印刷电路板，或其它材料，并不限定。在本实施例中，第一基板11与第二基板12的材质皆以可透光的玻璃为例。另外，本实施例的触控装置1更可包括一薄膜晶体管阵列、一彩色滤光阵列及一黑色矩阵层(图未显示)，薄膜晶体管阵列设置于第二基板12上，而彩色滤光阵列或黑色矩阵层可设置于第一基板11或第二基板12上。在一实施例中，黑色矩阵层与彩色滤光阵列可分别设置于第一基板11上，不过，在另一实施例中，黑色矩阵层或彩色滤光阵列也可分别设置于第二基板12上，使其成为一BOA(BM on array)基板，或成为一COA(color filter on array)基板，并不加以限制。
液晶层LC夹置于第一基板11与第二基板12之间，且第一基板11、第二基板12、液晶层LC、薄膜晶体管阵列、彩色滤光阵列可形成一液晶显示面板而具有多个次像素(subpixel，图未显示)。另外，触控装置1更可包括多条扫描线与多条数据线(图未显示)，所述扫描线与所述数据线交错设置，并例如相互垂直而定义出该像素阵列的区域。
第一偏光元件14设置于触控感测结构13上，而第二偏光元件15设置于第二基板12远离第一基板11的一侧。于此，可通过一光学胶，例如感压胶(Pressure SensitiveAdhesive,PSA)将第一偏光元件14贴附于触控电极结构13上。其中，第一偏光元件14具有一第一吸收轴，而第二偏光元件15具有一第二吸收轴，且第二吸收轴垂直于第一吸收轴。于此，第一偏光元件14及第二偏光元件15分别为一偏光板，且光线偏振态与吸收轴同向的光线会被偏光板吸收。通过两吸收轴实质上相差90度的偏光元件14、15，即可达到将背光源遮蔽的功能，再利用控制电场的强弱可对液晶产生偏转以调变光线的偏光特性，达到显示影像的目的。
触控感测结构13设置于第一基板11(或简称基板11)上，并位于第一基板11与第一偏光元件14之间。于此，可将包含触控感测结构13及第一基板11的结构称为触控基板。本实施例的触控感测结构13为复合材料制成，并具有多个触控电极图案(未标示)，如图2B所示，该些触控电极图案分别具有一走线区131及与走线区131相邻的一驱动感测区132。换言之，触控感测结构13包含沿第一方向X重复配置的多个触控电极图案，而每一个触控电极图案可包含一个走线区131及一个驱动感测区132。顾名思义，驱动感测区132即为多个触控电极(包含多个驱动电极Tx及多个感测电极Rx)设置的区域，而走线区131则为将驱动感测区132的触控电极连接到一控制电路板17(控制电路板17可处理触控信号)的走线(导线)设置区域。当触控感测结构13的触控电极被碰触时可产生触控信号，触控信号可传送至控制电路板17，由此产生对应的触控动作。
如图2C所示，于区域A中显示一个走线区131及一个驱动感测区132。图2C只是示意，并没有按照实际元件的比例放大。
驱动感测区132具有驱动电极Tx及感测电极Rx所形成的多个触控电极，而走线区131则具有往同一侧(例如往区域A的下侧，即往控制电路板17)延伸的多个条走线1311，且这些走线1311与这些驱动电极Tx及这些感测电极Rx电连接，并设置于第一基板11上，且沿第一方向X配置。
如图2D所示，图2D显示走线1311与其邻接的狭缝s(slit，指的是两走线1311之间或两电极之间的区域，如图2C的s所示)的侧视示意图。于此，触控电极结构13的走线1311(或触控电极)具有一第一透明导电层T1与一第二透明导电层T2，第一透明导电层T1设置于第一基板11上并具有一第一侧边B1，且第二透明导电层T2叠设于第一透明导电层T1上。第一透明导电层T1或第二透明导电层T2可为非结晶(amorphous)态或结晶(crystalline)态的材料，并不限定。另外，第一透明导电层T1的刻蚀率大于第二透明导电层T2的刻蚀率(刻蚀率是测量在刻蚀工艺中物质被移除的速率有多快的一种参数)。第一透明导电层T1的材料例如但不限于为铟锌氧化物(indium-zinc oxide,IZO)或铟锡氧化物(indium-tin oxide,ITO)，而第二透明导电层T2的材料例如但不限于为铟锡氧化物或铟锡锗氧化物。本实施例是以第一透明导电层T1的材料为铟锌氧化物，而第二透明导电层T2的材料是以铟锡氧化物为例。其中，铟锌氧化物与铟锡氧化物的折射率大约相等(n≈2)，但铟锌氧化物的刻蚀率约为而铟锡氧化物的刻蚀率约为
另外，本实施侧的第一透明导电层T1具有一第一厚度d1，第二透明导电层T2具有一第二厚度d2。本实施例的第一透明导电层T1的第一厚度d1为而第二透明导电层T2的第二厚度d2为使得第一透明导电层T1的第一厚度d1与第二透明导电层T2的第二厚度d2之和约为另外，第一厚度d1与第二厚度d2的比值可介于0.1与10之间(0.1≦d1/d2≦10)。于此，第一厚度d1与第二厚度d2的比值约为7。
另外，第一透明导电层T1具有一第一侧面S1位于第一侧边B1，且第二透明导电层T2具有一第二侧面S2位于第一侧边B1上(亦即第二侧面S2位于第一侧面S1的上方)。其中，本实施例的第一透明导电层T1的第一侧面S1与第一基板11之间的夹角θ1为54.46°。另外，第一侧面S1具有一第一斜率，而第二侧面S2具有一第二斜率，且第一斜率的绝对值大于第二斜率的绝对值。于此，第一斜率可为第一侧面S1的切线斜率，而第二斜率可为第二侧面S2的切线斜率。
具体而言，当一直线由左往右上升的话，其斜率为正，当一直线由右往左下降的话，其斜率为负。本实施例的第一侧面S1的第一斜率与第二侧面S2的第二斜率均为正值。不过，在不同的实施方式中，第一侧面S1的第一斜率与第二侧面S2的第二斜率可均为负值，或者，第一侧面S1的第一斜率为正值，但第二侧面S2的第二斜率为负值，或者相反，只要第一透明导电层T1的第一侧面S1的第一斜率的绝对值大于第二透明导电层T2的第二侧面S2的第二斜率的绝对值即可。
因此，在本实施例中，通过第一透明导电层T1的材料刻蚀率高于第二透明导电层T2的刻蚀率，可使完成第一透明导电层T1与第二透明导电层T2的(刻蚀)工艺之后，触控电极结构13的第一透明导电层T1的第一侧边B1的第一侧面S1的第一斜率的绝对值大于位于第一侧边B1上的第二透明导电层T2的第二侧面S2的第二斜率的绝对值，因此，可使触控电极结构13的走线1311(或触控电极)的斜面长度较现有技术者短，因此，可减少光线的反射量，进而提高触控基板与触控装置1的可视性。
补充说的是，上述的触控电极图案13的工艺可包含以下步骤：形成第一透明导电层T1于基板11上；形成第二透明导电层T2叠设于第一透明导电层T1上；进行光阻涂布、曝光、显影等黄光工艺；再经后烘烤(post bake)、刻蚀、去光阻等工艺后，以完成触控感测结构13。特别一提的是，在不同的实施例中，也可不进行后烘烤工艺，因为经后烘烤热工艺后会使第二透明导电层T2的膜质变硬，经过刻蚀工艺(例如草酸)后会因第二透明导电层T2的刻蚀去除程度变小而可能会有倒角的产生。
另外，请参照图3A至图3D所示，其分别为不同实施方式的触控电极结构13a～13d的局部侧视示意图。触控电极结构13a～13d与触控电极结构13相同，同样为第一透明导电层T1设置于第一基板11上，且第二透明导电层T2叠设于第一透明导电层T1上。另外，触控电极结构13a～13d的第一透明导电层T1的第一侧面S1的斜率同样大于第二透明导电层T2的第二侧面S2的斜率。
如图3A所示，与图2D不同的是，触控电极结构13a的第一透明导电层T1的第一厚度d1为而第二透明导电层T2的第二厚度d2为且第二透明导电层T2的第二侧面S2产生的倒角(夹角θ2)为155.22°。另外，本实施例的第一透明导电层T1的第一侧面S1与第一基板11之间的夹角θ3为85.68°。
另外，如图3B所示，与图2D不同的是，触控电极结构13b的第一透明导电层T1的第一厚度d1为而第二透明导电层T2的第二厚度d2亦为 且第二透明导电层T2的第二侧面S2与平行于第一方向X之间的夹角θ4为32.62°。另外，本实施例的第一透明导电层T1的第一侧面S1与第一基板11之间的夹角(未标示)略大于90度。
另外，如图3C所示，与图2D不同的是，触控电极结构13c的第一透明导电层T1的第一厚度d1为而第二透明导电层T2的第二厚度d2为 且第二透明导电层T2的第二侧面S2与平行于第一方向X之间的夹角θ5为34.26°。另外，本实施例的第一透明导电层T1的第一侧面S1与第一基板11之间的夹角(未标示)约为90度。
另外，如图3D所示，与图2D不同的是，触控电极结构13d的第一透明导电层T1的第一厚度d1为而第二透明导电层T2的第二厚度d2为 且第二透明导电层T2的第二侧面S2与平行于第一方向X之间的夹角θ6为29.27°。另外，本实施例的第一透明导电层T1的第一侧面S1与第一基板11之间的夹角(未标示)大于90度。
此外，触控电极结构13a～13d的其他技术特征可参照触控电极结构13的相同元件，不再赘述。
请参照图4所示，其为触控装置1的另一示意图。触控装置1更可包括一保护基板16，保护基板16例如但不限于为一保护玻璃(cover lens)，通过保护基板16可保护免于撞击，或者异物、水气的入侵。此外，本实施例的触控装置1还可包括一背光模组18，背光模组18与第二基板12相对而设，并可发出光线入射至第二基板12，使液晶显示面板可显示影像。其中，背光模组18可具有发光元件、导光板、反射片、多个光学膜片、…等元件。背光模组18为现有技术，本领域技术人员，当可了解背光模组18所有元件的功能及对应的设置关系，本发明不再赘述。
最后一提的是，本实施例的触控电极结构13是应用于LCD面板上，但在不同的实施例中，可将上述的触控电极结构13应用于有机发光二极管(OLED)显示面板上，使触控装置为一有机发光二极管触控装置。
综上所述，因本发明的触控基板与触控装置中，是通过将触控电极结构的第二透明导电层叠设于第一透明导电层上，并使得第一透明导电层的第一侧边的第一侧面斜率的绝对值大于位于第一侧边上的第二透明导电层的第二侧面斜率的绝对值，使得触控电极结构的走线或触控电极的斜面长度较现有技术者短，因此，可减少触控感测结构的光线反射量，进而提高触控基板与触控装置可视性。
以上所述仅为举例性，而非为限制性者。任何未脱离本发明的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于本申请专利范围之中。

Claims (10)

1.一种触控基板，其特征在于，所述触控基板包括：
一基板；以及
一触控电极结构，具有一第一透明导电层与一第二透明导电层，该第一透明导电层设置于该基板上并具有一第一侧边，该第二透明导电层叠设于该第一透明导电层上；
其中，该第一透明导电层具有一第一侧面位于该第一侧边，该第二透明导电层具有一第二侧面位于该第一侧边上，该第一侧面具有一第一斜率，该第二侧面具有一第二斜率，该第一斜率的绝对值大于该第二斜率的绝对值。
2.如权利要求1所述的触控基板，其特征在于，该第一透明导电层或该第二透明导电层为非结晶态或结晶态的材料。
3.如权利要求1所述的触控基板，其特征在于，该第一透明导电层的材料为铟锌氧化物或铟锡氧化物，该第二透明导电层的材料为铟锡氧化物或铟锡锗氧化物。
4.如权利要求1所述的触控基板，其特征在于，该第一透明导电层的刻蚀率大于该第二透明导电层的刻蚀率。
5.如权利要求1所述的触控基板，其特征在于，该第一透明导电层具有一第一厚度，该第二透明导电层具有一第二厚度，该第一厚度与该第二厚度的比值介于0.1与10之间。
6.一种触控装置，其特征在于，所述触控装置包括：
一第一基板；
一第二基板，与该第一基板相对而设；以及
一触控电极结构，具有一第一透明导电层与一第二透明导电层，该第一透明导电层设置于该第一基板上并具有一第一侧边，该第二透明导电层叠设于该第一透明导电层上；
其中，该第一透明导电层具有一第一侧面位于该第一侧边，该第二透明导电层具有一第二侧面位于该第一侧边上，该第一侧面具有一第一斜率，该第二侧面具有一第二斜率，该第一斜率的绝对值大于该第二斜率的绝对值。
7.如权利要求6所述的触控装置，其特征在于，该第一透明导电层或该第二透明导电层为非结晶态或结晶态的材料。
8.如权利要求6所述的触控装置，其特征在于，该第一透明导电层的材料为铟锌氧化物或铟锡氧化物，该第二透明导电层的材料为铟锡氧化物或铟锡锗氧化物。
9.如权利要求6所述的触控装置，其特征在于，该第一透明导电层的刻蚀率大于该第二透明导电层的刻蚀率。
10.如权利要求6所述的触控装置，其特征在于，该第一透明导电层具有一第一厚度，该第二透明导电层具有一第二厚度，该第一厚度与该第二厚度的比值介于0.1与10之间。
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