CN106538985A - 释放结构 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种释放结构。所述释放结构包括滑动架、支撑台以及撒盐组件,所述支撑台设置于所述滑动架上,所述撒盐组件设置于所述支撑台上,所述撒盐组件包括收容箱、挡设件以及驱动件,所述收容箱底部开设有撒盐口,所述挡设件活动地挡设于所述撒盐口上,所述驱动件与所述挡设件连接。所述挡设件的端部设置有调节孔,所述调节孔的直径小于所述撒盐口的直径,所述调节孔与撒盐口部分重合,所述挡设件上还设置有弹性片,所述弹性片挡设于所述调节孔上。所述释放结构能够实现对撒盐作业的自动控制且能够调整撒盐速度。
Description
技术领域
本发明涉及一种释放结构。
背景技术
随着农业现代化,农产品的产量得到了很大的提高。很多农产品需要经过后端加工才能进入销售市场。例如,在很多手工作坊中,为了腌制蛋类,例如鸡蛋、鸭蛋或鹅蛋等,常需要采用人工的方式向装有水的容器中撒入一定量的盐分,然后进行后续作业。对于需要大量作业时,由于不能实现自动化,因此会耗费大量人力。
发明内容
基于此,有必要提供一种能够自动撒盐的释放结构。
一种释放结构,包括滑动架、支撑台以及撒盐组件,所述支撑台设置于所述滑动架上,所述撒盐组件设置于所述支撑台上,所述撒盐组件包括收容箱、挡设件以及驱动件,所述收容箱底部开设有撒盐口,所述挡设件活动地挡设于所述撒盐口上,所述驱动件与所述挡设件连接;所述挡设件的端部设置有调节孔,所述调节孔的直径小于所述撒盐口的直径,所述调节孔与撒盐口部分重合,所述挡设件上还设置有弹性片,所述弹性片挡设于所述调节孔上。
在其中一个实施方式中,所述调节孔为圆孔。
在其中一个实施方式中,所述撒盐口为圆形开口。
在其中一个实施方式中,所述挡设件包括基体层以及设置于所述基体层上的挡止层。
在其中一个实施方式中,所述挡止层的厚度小于所述基体层的厚度。
在其中一个实施方式中,所述挡止层的表面设置有镀膜层。
在其中一个实施方式中,所述镀膜层的厚度小于所述挡止层的厚度。
将盐倒入所述收容箱中,盐可以依靠重力从所述撒盐口中落下,从而实现撒盐作业,而驱动件可以驱动所述挡设件对所述撒盐口进行挡设,从而实现了对撒盐量的控制,因此所述释放结构能够实现对撒盐作业的自动控制,节省了劳力。
当需要调节撒盐速度时,所述驱动件驱动所述挡设件移动,进而使得所述调节孔与所述撒盐口的重叠部分变化,从而使得盐分的下落速度不同,从而实现了对撒盐速度的调节。而所述弹性片可在盐分的重力下发生弯折,当无需撒盐时,所述弹性片能够实现密封,以保证底部的盐分不易融化或受潮。
附图说明
图1为一实施例的释放结构的立体示意图;
图2为一实施例的滑动框的剖视图;
图3为一实施例的撒盐筒的剖视图;
图4为一实施例的挡设件与驱动件的剖视图;
图5为一实施例的释放组件的俯视图;以及
图6为一实施例的释放组件的侧视图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
本发明涉及一种释放结构。所述释放结构包括滑动架、支撑台以及撒盐组件,所述支撑台设置于所述滑动架上。例如,所述撒盐组件设置于所述支撑台上,所述撒盐组件包括收容箱、挡设件以及驱动件。例如,所述收容箱底部开设有撒盐口,所述挡设件活动地挡设于所述撒盐口上,所述驱动件与所述挡设件连接;所述挡设件的端部设置有调节孔。例如,所述调节孔的直径小于所述撒盐口的直径,所述调节孔与撒盐口部分重合,所述挡设件上还设置有弹性片,所述弹性片挡设于所述调节孔上。
请参阅图1,一种释放结构100,包括滑动架10、支撑台20以及撒盐组件30,所述支撑台设置于所述滑动架上,所述撒盐组件设置于所述支撑台上,所述撒盐组件包括收容箱31、挡设件33以及驱动件35,所述收容箱底部开设有撒盐口311,所述挡设件活动地挡设于所述撒盐口上,所述驱动件与所述挡设件连接。
使用时,将盐倒入所述收容箱中,盐可以依靠重力从所述撒盐口中落下,从而实现撒盐作业,而驱动件可以驱动所述挡设件对所述撒盐口进行挡设,从而实现了对撒盐量的控制,因此所述释放结构能够实现对撒盐作业的自动控制,节省了劳力。
例如,为了便于移动所述释放结构,所述滑动架包括滑动框11以及设置于所述滑动框底部的多个滑行杆13,所述支撑台设置于所述滑动框中,所述滑行杆的端部设置有滑动球,所述滑动球的表面设置有多个凹槽。利用所述滑行杆上的滑动球即可实现所述释放结构的滑行。
例如,为了收容所述滑动球,所述滑行杆的端部开设有收容槽,所述滑动球转动地收容于所述收容槽中。所述收容槽的底面设置有磁性层,所述滑动球的表面设置有导磁层,所述多个凹槽开设于所述导磁层上。
请参阅图2,所述滑动框上设置有弹性套设圈111,所述弹性套设圈套设于所述支撑台上。所述弹性套设圈的截面为圆形。所述滑动框上还设置有套设袋113,所述套设袋开设有套设口1131,所述套设袋套设于所述支撑台上。所述弹性套设圈设置于所述套设袋上并环绕所述套设口。拉动所述弹性套设圈即可带动所述弹性套设带套设于支撑台上,从而可以容许支撑台做出小距离的移动调整,且所述套设袋的内部可以装设所述收容箱中多余的盐分。
请参阅图3,例如,为了保证盐的顺利落下,所述撒盐口的周缘设置有撒盐筒25,所述撒盐筒包括主环251以及滑行环253,所述主环设置于所述收容箱的底部并环绕所述撒盐口,所述滑行环自所述主环的边缘沿轴线方向延伸。撒盐筒的滑行环能够引导盐分的落下,因此能够保证盐分落到预设位置。
例如,所述滑行环的直径沿远离所述撒盐口的方向逐渐减小。所述滑行环的长度为所述主环的直径的2-4倍。所述滑行环内表面设置有滑行层2531。滑行层上设置有多个滑行槽。所述多个滑行槽相互间隔设置。所述滑行槽沿所述滑行环的轴线方向延伸。由于所述滑行环上的多个滑行环能够引导盐分的落下,因此可以保证所述盐分精确对准位置。
请参阅图4,例如,为了便于调节撒盐速度,所述挡设件的端部设置有调节孔331,所述调节孔的直径小于所述撒盐口的直径,所述调节孔与撒盐口部分重合,所述挡设件上还设置有弹性片333,所述弹性片挡设于所述调节孔上。当需要调节撒盐速度时,所述驱动件驱动所述挡设件移动,进而使得所述调节孔与所述撒盐口的重叠部分变化,从而使得盐分的下落速度不同,从而实现了对撒盐速度的调节。而所述弹性片可在盐分的重力下发生弯折,当无需撒盐时,所述弹性片能够实现密封,以保证底部的盐分不易融化或者发生其他化学反应。
例如,所述调节孔为圆孔。所述撒盐口为圆形开口。所述挡设件包括基体层334以及设置于所述基体层上的挡止层335。所述挡止层的厚度小于所述基体层的厚度。所述挡止层的表面设置有镀膜层336。所述镀膜层的厚度小于所述挡止层的厚度。所述镀膜层可以保证所述挡设件的表面不至于发生氧化等化学反应而产生变化,影响盐分的质量。
请参阅图5及图6,例如,为了对应大批量的腌制作业,当对撒盐量的精度要求不高时,所述释放结构还包括设置于所述支撑台另一侧的释放组件60。所述释放组件用于抛撒大量的盐分。例如,所述释放组件包括收容板61、切割刀62、推动件63以及驱动件64。所述收容板用于收容袋装盐,所述收容板的两侧边缘分别设置有导轨611。所述切割刀滑动地设置于所述导轨上并用于切割袋装盐,所述推动件滑动地设置于所述导轨的一端并与所述切割刀间隔设置。所述驱动件与所述切割刀连接,用于驱动所述切割刀沿所述导轨滑行,从而推动切下来的盐分落下。当需要撒盐时,所述推动件推动袋装盐沿所述收容板滑行预设距离,即所述袋装盐被推动至所述导轨的预设位置,且处于所述切割刀的下方。然后,所述切割刀朝所述收容板移动并切下所述袋装盐的一部分。最后,所述驱动件驱动所述切割刀沿所述收容板滑动,以使所述切割刀推动切下的盐落下。依上述操作,可以实现盐分的自动撒下,从而无需使用者自己撒盐。而且也避免了使用者自己撒盐时带来的撒盐量不好控制的问题,例如因为手抖而使装盐袋中掉出的盐分太多。完毕后,使用者仅需从释放结构中取出切下的装盐袋。
当需要再次撒盐时,所述推动件可以再次往前推动所述袋装盐预设距离,然后所述切割刀再次重复上述操作。对于蛋类的腌制,例如蛋类包括鸡蛋、鸭蛋或鹅蛋等,下面以鸡蛋为例,由于每份鸡蛋需要的撒盐量大致相等,因此,所述推动件每次的推动距离可以设定相等。由于在所述盐分推落时,所述切割刀已经远离剩余的盐分,剩余的盐分可能会有部分从装盐袋中滑出,使所述袋装盐的前端发生一些变形。但是只要所述切割刀再次切割之处处于所述袋装盐未变形之处,即能保证每个切落的盐分量大致相等。
例如,为了避免敞开的装盐袋中的盐分滑出,所述收容板包括相互连接的滑行段与推落段,所述滑行段与所述推落段之间形成有夹角。所述推动件设置于所述滑行段上,所述切割刀位于所述滑行段与所述推落段的连接处。例如,所述滑行段与水平面形成有夹角,即所述滑行段的高度沿朝向所述切割刀的方向逐渐增大,这样当所述切割刀推动切下的盐分移动时,剩余的装盐袋的袋口朝向上方,盐分不易滑出。
例如,为了便于所述切割刀推动所述切下的盐分移动,所述推落段上形成有推落面,所述推落面为平面且与水平面形成有夹角。所述推落面的高度沿远离所述滑行段的方向逐渐减小。
例如,为了避免剩余的盐分滑出所述装盐袋,所述释放组件还包括第二切割刀,所述第二切割刀设置于所述导轨上并与所述第一切割刀贴设。当需要切割袋装盐时,所述第一切割刀与所述第二切割刀同步切下,然后,所述第一切割刀推动切下的盐分滑行,而所述第二切割刀固定挡设于剩余的盐分的袋口处,以防止剩余的盐分从装盐袋中滑出。例如,当需要第二次切割时,所述第一切割刀返回并贴合于所述第二切割刀上。所述第二切割刀与所述第一切割刀同步上升,以容许所述推动件推动剩余的盐分通过所述第一切割刀下方。当所述推动件推送完毕后,所述第一切割刀与所述第二切割刀再次同步下移,以进行第二次切割。每次撒盐时,所述释放组件如此进行作业。
例如,所述第一切割刀及所述第二切割刀均包括切割驱动件以及与所述切割驱动件连接的切割刃。当需要切割时,所述切割驱动件驱动所述切割刃朝所述收容板移动。当需要推动剩余的盐分时,所述切割驱动件驱动所述切割刃远离所述收容板,以使剩余的盐分从所述切割刃下方通行。
例如,所述第一切割刀的切割刃为第一切割刃,所述第二切割刀的切割刃为第二切割刃,所述第一切割刃包括相对设置的贴合面与推动面,所述第二切割刃包括接合面与挡持面,所述贴合面与所述接合面相互贴合。所述推动面背离所述第二切割刃,所述挡持面朝向所述推动件,即朝向剩余的盐分。例如,为了便于所述第二切割刃的切割,所述挡持面为平面,所述接合面为曲面,所述贴合面与所述接合面相互贴合。例如,在另一实施方式中,所述推动面为平面。为了便于推落切下的盐分,所述推动段上设置有引导面,所述引导面邻近所述第二切割刃设置,所述引导面为弧形面。
例如,为了使所述装盐袋保持平整,所述释放组件还包括多个按压件,所述多个按压件分散设置于所述收容板上方并与所述收容板间隔设置。所述按压件包括振动杆以及设置于所述振动杆上的按压盘。所述振动杆可以伸长并带动所述按压盘抵压于所述装盐袋上,所述振动杆带动所述按压盘上下、左右振动。所述多个按压件的按压盘的底面处于同一水平面上。因此,通过所述多个按压件的振动作业,可以使得所述收容板上的装盐袋的上表面保持平整,即使得所述装盐袋各处的厚度基本相同,从而保证后续每次的撒盐量基本相等。上述各实施例特别适用于小袋连续包装的盐粉,在使用时切割一小袋即可;亦适用于大袋盐粉的规模使用。
例如,为了提高所述按压盘的按压效果,所述按压盘为椭圆形,且所述按压盘远离所述振动杆的一侧形成按压层,所述按压层的周缘形成有多个按压凸肋,所述多个按压凸肋沿着所述按压盘的周缘间隔设置,相邻两个按压凸肋之间形成有抚平槽,所述抚平槽的深度沿着远离所述按压盘中心的方向逐渐减小。例如,为了提高所述按压盘的按压效果,所述多个按压凸肋为弯曲的条形凸起,所述多个按压凸肋的高度沿着朝向所述按压盘中心的方向逐渐减小。例如,为了防止所述多个按压凸肋与袋子产生硬性碰撞,所述按压凸肋的底部两侧形成有倒圆角。例如,所述按压凸肋上形成一个U形,即所述按压凸起的侧壁形成有一个U形开口,所述U形开口朝向相邻的另一个按压凸肋。而为了避免所述按压凸肋与所述抚平槽之间的高度差,所述抚平槽中设置有多个摩擦凸点,所述多个摩擦凸点均匀设置于所述抚平槽中,用于避免袋子深陷在所述抚平槽中。例如,所述摩擦凸点上设置有硅胶垫,所述硅胶垫能够提升所述按压盘的柔性。例如,为了避免在按压袋子的过程中形成脏污,所述按压盘上还设置清洗布团,所述清洗布团设置于所述按压盘的大致中心位置,所述清洗布团的周缘设置有多个连接线,所述连接线沿所述按压盘的径向方向延伸,并连接至所述摩擦凸点上。为了便于设置所述清洗布团,所述按压层的中心设置有碗形腔,所述清洗布团收容于所述碗形腔中。为了便于收集污垢,所述清洗布团的周缘形成有弯曲凹槽,所述弯曲凹槽设置于所述按压层上并围绕所述碗形腔的周缘,例如所述弯曲凹槽自一端朝向另一端的方向与所述碗形腔周缘的距离逐渐增大,即所述弯曲凹槽的中心线为抛物线的一段。所述弯曲凹槽的深度沿远离所述碗形腔的方向逐渐增大。因此,当所述按压盘旋转时,能够将污染物旋转排入所述弯曲凹槽中,而且由于所述清洗布团的周缘能够对污染物产生擦除效果,使袋子上的污染物可以移动,并是污染物远离所述清洗布团并进入所述弯曲凹槽中。例如,为了积聚污染物,所述弯曲凹槽的一端设置有粘性部,所述粘性部为圆形部,所述粘性部的中心设置有圆形吸收腔,用于吸收污染物。
例如,在有些情况下,每次的撒盐量需求差异较大时,所述释放组件还包括控制件与称量件,所述称量件设置于所述支撑台的侧壁上,所述控制件与所述称量件及所述推动件电性连接。所述称量件获取腌制的蛋类的重量信息,并将该重量信息传输至所述控制件,所述控制件根据预设程式换算成所述推动件的滑行距离,并控制所述推动件推动盐分朝所述第一切割刀滑行预设的距离,从而使得撒盐量随蛋类的重量而改变。
本发明的其它实施例还包括上述各实施例中的技术特征相互组合所形成的能够实施的技术方案。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (7)
1.一种释放结构,其特征在于,包括滑动架、支撑台以及撒盐组件,所述支撑台设置于所述滑动架上,所述撒盐组件设置于所述支撑台上,所述撒盐组件包括收容箱、挡设件以及驱动件,所述收容箱底部开设有撒盐口,所述挡设件活动地挡设于所述撒盐口上,所述驱动件与所述挡设件连接;
所述挡设件的端部设置有调节孔,所述调节孔的直径小于所述撒盐口的直径,所述调节孔与撒盐口部分重合,所述挡设件上还设置有弹性片,所述弹性片挡设于所述调节孔上。
2.如权利要求1所述的释放结构,其特征在于,所述调节孔为圆孔。
3.如权利要求2所述的释放结构,其特征在于,所述撒盐口为圆形开口。
4.如权利要求1所述的释放结构,其特征在于,所述挡设件包括基体层以及设置于所述基体层上的挡止层。
5.如权利要求4所述的释放结构,其特征在于,所述挡止层的厚度小于所述基体层的厚度。
6.如权利要求5所述的释放结构,其特征在于,所述挡止层的表面设置有镀膜层。
7.如权利要求6所述的释放结构,其特征在于,所述镀膜层的厚度小于所述挡止层的厚度。
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