CN106526971A - 量子点薄膜、显示器及量子点薄膜制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种量子点薄膜、显示器及量子点薄膜制备方法。其中，量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层；隔离件设置于基板一表面，定义出对应各个显示像素的填充槽，量子点层形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层。通过上述方式，本发明能够实现使显示器的显示兼顾高色域与高亮度的特性。

Description

量子点薄膜、显示器及量子点薄膜制备方法
技术领域
本发明涉及平板显示技术领域，特别是涉及一种量子点薄膜、显示器及量子点薄膜制备方法。
背景技术
在信息社会的当代，作为可视信息传输媒介的显示器的重要性在进一步加强，为了在未来占据主导地位，显示器正朝着更轻、更薄、更低能耗、更低成本以及更好图像质量的趋势发展。
其中，量子点薄膜作为显示器的面光源的一部分在整个显示区呈现均匀的白光辐射，而白光经由红、绿、蓝等不同的色阻后仅保留一种色彩，大部分的能量经由彩膜光阻后损失，使得本身量子效率较低的量子点高色域显示器面临较大的亮度损失与功耗问题。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种量子点薄膜、显示器及量子点薄膜制备方法，能够使显示兼顾高色域与高亮度的特性。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种量子点薄膜，该量子点薄膜包括：一基板、隔离件、子像素对应的量子点层；隔离件设置于基板一表面，定义出对应各个显示像素的填充槽，量子点层形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层。
其中，一部分填充槽内的量子点层是红色量子点层，另一部分填充槽内的量子点层是绿色量子点层，剩余填充槽内无填充或填充透明材料或填充红绿色量子点层。
其中，进一步包括水氧阻绝层，覆盖量子点层。
其中个，隔离件为阵列状的光刻胶图形，其横向尺寸大于等于显示器的子像素尺寸，隔离件的条形宽度小于或等于显示器的黑色遮光单元宽度。
其中，隔离件的条形宽度为1-5微米，纵向高度为10-20微米。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种显示器，该显示器包括上述的量子点薄膜、与量子点薄膜相对设置的子像素层。
其中，进一步包括：与量子点薄膜相对设置的色阻层。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种量子点薄膜制备方法，该方法包括：将隔离件设置于基板的一表面；定义出对应各个显示像素的量子点填充槽；将量子点层形成于填充槽中，其中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层。
其中，将量子点层形成于所述填充槽中包括：在一部分填充槽内填充红色量子点层，另一部分填充槽内填充绿色量子点层，剩余填充槽内无填充或填充透明材料或填充红绿色量子点层。
其中，隔离件为阵列状光刻胶图形，其横向尺寸大于等于显示器的子像素尺寸，隔离件的条形宽度小于或等于显示器的黑色遮光单元宽度。
以上方案，该量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层；其中，隔离件设置于基板一表面，定义出对应各个显示像素的填充槽，量子点层形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层，实现了使显示兼顾高色域与高亮度的特性。
附图说明
图1是本发明量子点薄膜一实施方式的结构示意图；
图2是本发明显示器一实施方式的结构示意图；
图3是本发明显示器另一实施方式的结构示意图；
图4是本发明量子点薄膜制备方法一实施方式的流程示意图；
图5是本发明量子点薄膜制备装置一实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本发明进行详细说明。
请参阅图1，图1是本发明一种量子点薄膜一实施方式的结构示意图。如图1所示，本实施方式的量子点薄膜包括：基板11、隔离件12、子像素对应的量子点层13、水氧阻绝层14。其中，隔离件12设置于基板11的一个表面上。在隔离件12上定义出对应各个显示像素的填充槽122，量子点层13就形成于填充槽122中。隔离件12还包括条形部分121。水氧阻绝层14覆盖在量子点层13的上方。
其中，填充槽122中所填充的量子点层13，至少有其中一部分填充的量子点层是单色层。
具体地，填充槽122中所填充的量子点层13，其中一部分填充的量子点层是红色量子点层，另一部分填充的量子点层是绿色量子点层，剩余部分中，或者不填充，或者填充透明材料。这样的填充方式，对应的显示器的子像素的色阻的颜色是红绿蓝(RGB)。对应地，该背光系统所辐照的光是蓝色的，而红色量子点层和绿色量子点层分别接收蓝光光子的辐照输出红光和绿光；不填充部分或者填充透明材料的部分则输出蓝光。
可选地，可以通过喷墨打印技术在不同的填充槽122内填充与显示器的子像素一一对应的量子点层。
可选地，当对应的显示器的子像素的色阻的颜色是红绿蓝白(RGBW)时，在填充槽122中，所填充的量子点层13是，其中一部分填充的量子点层是红色量子点层，一部分填充的量子点层是绿色量子点层，一部分填充的量子点层是透明材料，或者不填充，剩余部分填充的量子点层是红绿色量子点层。
其中，隔离件12为阵列状的光刻胶图形，其填充槽122的横向尺寸大于等于显示器的子像素尺寸，隔离件12的条形宽度小于或等于显示器的黑色遮光单元宽度。
其中，光刻胶图形是光刻胶经过曝光和适当的溶剂处理后所得到的图形。
一般地，隔离件12的阵列状为岛状结构。由于需要阻隔不同区域量子点层的互相串扰，因此隔离件12的填充槽122的横向尺寸大于等于需要显示器的子像素尺寸。
具体地，隔离件12的条形部分121的宽度为为1-5微米，纵向高度为10-20微米。
其中，水氧阻绝层14可以用于防止水氧侵袭所导致的量子点失效问题。
可选地，水氧阻绝层14是氮化硅(Si3N4)和二氧化硅(SiO2)的混合物。
本实施方式中，该量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层；其中，隔离件设置于基板一表面，定义出对应各个显示像素的填充槽，量子点层形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层，实现了使显示兼顾高色域与高亮度的特性。
请参阅图2，图2是本发明一种显示器一实施方式的结构示意图。如图2所示，本实施方式中的显示器20包括：量子点薄膜21、阵列基板22、液晶层23、对向基板24。
其中，量子点薄膜21是上一实施方式中的量子点薄膜。
其中，量子点薄膜21中的量子点层与阵列基板22的子像素一一相对设置。
其中，液晶层23夹持于阵列基板22和对向基板24之间。
本实施方式中，该显示器包括一量子点薄膜，该量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层；其中，隔离件设置于基板一表面，定义出对应各个显示像素的填充槽，量子点层形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层，实现了使显示兼顾高色域与高亮度的特性。
请参阅图3，图3是本发明显示器另一实施方式的结构示意图。如图3所示，本实施方式中的显示器30包括：量子点薄膜31、阵列基板32、液晶层33、色阻层34及对向基板35。
其中，量子点薄膜31是上一实施方式中的量子点薄膜。
其中，量子点薄膜31中的量子点层与阵列基板32的子像素一一相对设置。
其中，量子点薄膜31中的量子点层与色阻层34中的色阻单元一一对应设置。
其中，量子点薄膜31中的隔离件的条形宽度小于或等于色阻层34中的黑色遮光单元宽度。
具体地，色阻层34中的色阻单元的颜色可以是红绿蓝(RGB)，可以是红绿蓝白(RGBW)，也可以是其他的颜色组合，此处不做限制。
其中，液晶层33夹持于阵列基板32和对向基板35之间。
本实施方式中，该显示器包括一量子点薄膜，该量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层；其中，隔离件设置于基板一表面，定义出对应各个显示像素的填充槽，量子点层形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层，实现了使显示兼顾高色域与高亮度的特性。
请参阅图4，图4是本发明一种量子点薄膜制备方法一实施方式的流程示意图。需注意的是，若有实质上相同的结果，本发明的方法并不以图4所示的流程顺序为限。如图4所示，该方法包括如下步骤：
S401：将隔离件设置于基板的一表面。
可选地，隔离件被涂覆到基板的一表面上。
S402：定义出对应各个显示像素的量子点填充槽。
可选地，可以将隔离件进行曝光，使得隔离件形成一种阵列结构，该阵列结构具有较大的深宽比，可以作为对应各个显示像素的量子点填充槽。
其中，隔离件为阵列状的光刻胶图形，其横向尺寸大于等于显示器的子像素尺寸，隔离件的条形宽度小于或等于显示器的黑色遮光单元宽度。
其中，光刻胶图形是光刻胶经过曝光和适当的溶剂处理后所得到的图形。
一般地，隔离件的阵列状为岛状结构。
S403：将量子点层形成于填充槽中，其中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层。
其中，在一部分填充槽内填充红色量子点层，另一部分填充槽内填充绿色量子点层，剩余的填充槽内无填充或填充透明材料或填充红绿色量子点层。
在其中一个应用场景中，可以通过喷墨打印技术在隔离件的填充槽中填充上量子点层。
进一步地，可以在量子点层覆盖一层水氧阻绝层，以防水氧侵袭所导致的量子点失效问题。
可选地，水氧阻绝层是氮化硅(Si3N4)和二氧化硅(SiO2)的混合物。
本实施方式中，该量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层；其中，隔离件设置于基板一表面，定义出对应各个显示像素的填充槽，量子点层形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层，实现了使显示兼顾高色域与高亮度的特性。
请参阅图5，图5是本发明一种量子点薄膜制备装置一实施方式的结构示意图。本实施方式中，该量子点薄膜制备装置50为上述实施方式中的量子点薄膜制备装置，该量子点薄膜制备装置50包括：设置模块51、定义模块52、填充模块53、覆盖模块54。
其中，设置模块51用于将隔离件设置于基板的一表面。
其中，定义模块52用于定义出对应各个显示像素的量子点填充槽。
其中，填充模块53用于将量子点层形成于填充槽中，其中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层。
其中，覆盖模块54用于在量子点层覆盖一层水氧阻绝层。
可选地，设置模块51具体用于将隔离件涂覆在基板的一表面上。
可选地，定义模块52具体用于曝光显影隔离件，使得隔离件具有较大的深宽比。
其中，隔离件为阵列状的光刻胶图形，其横向尺寸大于等于显示器的子像素尺寸，隔离件的条形宽度小于或等于显示器的黑色遮光单元宽度。
其中，光刻胶图形是光刻胶经过曝光和适当的溶剂处理后所得到的图形。
一般地，隔离件的阵列状为岛状结构。
其中，填充模块53中所填充上量子点层包括：在一部分填充槽内填充红色量子点层，另一部分填充槽内填充绿色量子点层，剩余填充槽内无填充或填充透明材料或填充红绿色量子点层。
可选地，填充模块53可以通过喷墨打印技术在隔离件的填充槽中填充量子点。
可选地，覆盖模块54中所涂覆的水氧阻绝层可以是氮化硅(Si3N4)和二氧化硅(SiO2)的混合物。
本实施方式中，该量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层；其中，隔离件设置于基板一表面，定义出对应各个显示像素的填充槽，量子点层形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽内的量子点层是单色层，实现了使显示兼顾高色域与高亮度的特性。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种量子点薄膜，其特征在于，包括：
所述量子点薄膜包括一基板、隔离件、子像素对应的量子点层；
所述隔离件设置于所述基板一表面，定义出对应各个显示像素的填充槽，所述量子点层形成于所述填充槽中，至少其中一部分所述填充槽内的所述量子点层是单色层。
2.根据权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于，
一部分所述填充槽内的所述量子点层是红色量子点层，另一部分所述填充槽内的所述量子点层是绿色量子点层，剩余所述填充槽内无填充或填充透明材料或填充红绿色量子点层。
3.根据权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于，
进一步包括水氧阻绝层，覆盖所述量子点层。
4.根据权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于，
所述隔离件为阵列状的光刻胶图形，其横向尺寸大于等于显示器的子像素尺寸，所述隔离件的条形宽度小于或等于所述显示器的黑色遮光单元宽度。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，
所述隔离件的条形宽度为1-5微米，纵向高度为10-20微米。
6.一种显示器，其特征在于，
包括如权利要求1-5任意一项所述量子点薄膜、与所述量子点薄膜相对设置的子像素层。
7.根据权利要求6所述的显示器，其特征在于，
进一步包括：与所述量子点薄膜相对设置的色阻层。
8.一种量子点薄膜制备方法，其特征在于，包括：
将隔离件设置于基板的一表面；
定义出对应各个显示像素的量子点填充槽；
将量子点层形成于所述填充槽中，其中，至少其中一部分所述填充槽内的所述量子点层是单色层。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，
所述将量子点层形成于所述填充槽中包括：
在一部分所述填充槽内填充红色量子点层，另一部分所述填充槽内填充绿色量子点层，剩余所述填充槽内无填充或填充透明材料或填充红绿色量子点层。
10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，
所述隔离件为阵列状光刻胶图形，其横向尺寸大于等于显示器的子像素尺寸，所述隔离件的条形宽度小于或等于所述显示器的黑色遮光单元宽度。
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Application publication date: 20170322

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