CN106486608A - 显示装置及制造该显示装置的装置和方法 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及显示装置及制造该显示装置的装置和方法，所述显示装置，包括布置在衬底上且包括中间层的发射部分；以及通过重叠所述发射部分而密封所述发射部分的封装部分，其中所述中间层包含至少两种有机材料，所述有机材料在5×10‑4托至3×10‑2托的范围内的第一饱和蒸气压下具有不同的相变温度，并且所述相变温度之间的差小于5℃或等于5℃。

Description

显示装置及制造该显示装置的装置和方法
相关申请的交叉引用
本申请要求于2015年9月2日提交的第10-2015-0124228号韩国专利申请、于2016年1月18日提交的第10-2016-0005977号韩国专利申请和于2016年8月3日提交的第10-2016-0099067号韩国专利申请的优先权和权益，所述专利申请均出于所有目的通过援引特此并入，如同在本文中完整阐述一样。
技术领域
示例性实施方案涉及显示装置，以及制造所述显示装置的装置和方法。
背景技术
广泛使用移动电子装置，例如移动电话和平板电脑(tablet PC)。
移动电子装置可以包括显示装置，其向用户提供诸如静止图像或移动图像的视觉信息，从而支持各项功能。最近，驱动显示装置的组件已经被小型化，允许显示装置占据电子装置的更大的部分。
在此背景部分中公开的上述信息仅是为了增强对发明构思的背景的理解，因此，其可以包含不形成在本国内对本领域技术人员而言是已知的现有技术的信息。
发明内容
示例性实施方案提供显示装置，以及制造所述显示装置的装置和方法。
另外的方面将在随后的详细描述中阐述，并且部分地将从本公开内容而变得显而易见，或可以通过本发明构思的实践而获悉。
示例性实施方案公开了显示装置，其包括：布置在衬底上的发射部分，所述发射部分包括中间层；以及通过重叠所述发射部分而密封所述发射部分的封装部分，其中所述中间层包含至少两种有机材料，所述有机材料在5×10-4托至3×10-2托的范围内的第一饱和蒸气压下具有不同的相变温度，并且所述相变温度之间的差小于5℃或等于5℃。
示例性实施方案还公开了用于制造显示装置的装置，其包括：包括用于衬底的支撑件的室；以及被提供为面向所述衬底的沉积源供应器，所述沉积源供应器向所述衬底提供至少两种有机材料，其中所述至少两种有机材料在5×10-4托至3×10-2托的范围内的第一饱和蒸气压下具有不同的相变温度，并且所述相变温度之间的差小于5℃或等于5℃。
另一示例性实施方案公开了制造显示装置的方法，其包括：使第一衬底进入室；加热沉积源供应器以在所述室内供应至少两种有机材料；在所述第一衬底上沉积所述至少两种有机材料以形成中间层，其中所述至少两种有机材料在5×10-4托至3×10-2托的范围内的第一饱和蒸气压下具有不同的相变温度，并且所述相变温度之间的差小于5℃或等于5℃。
以上的一般描述和以下的详细描述是示例性和解释性的，并且旨在提供对要求保护的主题的进一步解释。
附图说明
包括附图以提供对本发明构思的进一步理解，并且所述附图并入本说明书中且构成本说明书的一部分，所述附图例示出本发明构思的示例性实施方案，并且所述附图连同描述一起用于解释本发明构思的原理。
图1例示出根据一个或多个示例性实施方案的用于制造显示装置的装置的示意图。
图2是在图1的装置中使用的有机材料的饱和蒸气压相对于相变温度的图。
图3是图2中所示的部分A的放大视图。
图4是通过使用图1的装置制造的显示装置的示例性实施方案的一部分的横截面视图。
具体实施方式
在下文描述中，出于解释的目的，阐述了多个具体细节，从而提供对各种示例性实施方案的深入理解。然而，显而易见的是，可以在没有这些具体细节的情况下或用一个或多个等同布置来实践各种示例性实施方案。在其他实例中，示出公知的结构和装置，从而避免不必要地混淆各种示例性实施方案。
在附图中，出于清楚和描述目的，可以放大层、膜、板、区域等的尺寸和相对尺寸。此外，相同的参考数字指代相同的元件。
当元件或层被称为在另一元件或层“上”、“连接到”另一元件或层或者“耦接到”另一元件或层时，其可以直接在另一元件或层上、直接连接到另一元件或层或者直接耦接到另一元件或层，或者可以存在介于中间的元件或层。然而，当元件或层被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”另一元件或层或者“直接耦接到”另一元件或层时，不存在介于中间的元件或层。出于本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”以及“选自由X、Y和Z组成的组中的至少一个”可以解释为仅有X、仅有Y、仅有Z，或X、Y和Z中的两个或多于两个的任何组合，例如，XYZ、XYY、YZ以及ZZ。全文中相同的数字指代相同的元件。如本文所用，术语“和/或”包括相关的列出项中的一个或多个项的任一项及所有组合。
尽管术语第一、第二等在本文中可以用于描述各种元件、部件、区域、层和/或部分，但这些元件、部件、区域、层和/或部分不应受这些术语的限制。这些术语用于使一个元件、部件、区域、层和/或部分与另一元件、部件、区域、层和/或部分相区分。因此，以下讨论的第一元件、部件、区域、层和/或部分在不背离本公开的教导的情况下可以称为第二元件、部件、区域、层和/或部分。
空间相对术语，例如“下方”、“之下”、“下”、“之上”、“上”等，在本文中可以用于描述目的，由此用于描述一个元件或特征与另一元件或特征的关系，如附图中所例示的。除了附图中描述的方向之外，空间相对术语旨在还包括在使用、操作和/或制造中的装置的不同方向。例如，如果在附图中的装置被翻转，则被描述成在其他元件或特征“之下”或“下方”的元件会被定位在其他元件或特征“之上”。因此，示例性术语“之下”可以包括上和下的方向两者。此外，装置可以以其他方式定向(例如，旋转90度或在其他方向上)，并且如此，本文所用的空间相对描述被相应地解释。
本文所用的术语是出于描述特定实施方案的目的，而不旨在进行限制。如本文所用，单数形式旨在还包括复数形式，除非上下文明显另有所指。此外，术语“包含”和/或“包括”，当用于本说明书时，指明所阐明的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或它们的群组的存在，但不排除一个或多个其他的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或它们的群组的存在或增添。
在本文中参考截面图示来描述各种示例性实施方案，所述截面图示是理想化的示例性实施方案和/或中间结构的示意图。如此，会预期到由于例如制造技术和/或容差而导致的该图示的形状的变化。因此，本文公开的示例性实施方案不应解释为限于特定例示的区域的形状，而应包括由例如制造所产生的形状的偏差。例如，以矩形例示的植入区域通常会具有圆形或曲线形的特征和/或其边缘处的植入物浓度的梯度，而非从植入区域到非植入区域的二元变化。同样地，由植入形成的包埋区域可以产生在包埋区域与通过其而发生植入的表面之间的区域中的一些植入。因此，附图中例示的区域在本质上是示意性的，并且它们的形状不旨在说明装置的区域的实际形状，并且不旨在进行限制。
除非另外定义，本文使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)均具有如本公开所属领域的普通技术人员通常理解的相同含义。术语，诸如在常用词典中定义的那些术语，应解释为具有与其在相关技术的上下文中的含义相符的含义，并且不会以理想化或过于正式的含义来解释，除非本文明确如此定义。
图1示出根据一个或多个示例性实施方案的用于制造显示装置的装置的示意图。图2是在图1的装置中使用的有机材料的饱和蒸气压相对于相变温度的图。图3是图2中所示的部分A的放大视图。图4是通过使用图1的装置制造的显示装置的一部分的横截面视图。
参考图1，用于制造显示装置的装置100包括室110、支撑第一衬底11的衬底支撑件170、视觉单元120、掩模支撑件130、掩模组件140、沉积源供应器150和压力控制器160。
室110可以具有带有开口的部分，并且可以向室110的开口提供闸阀110a以选择性地打开或关闭室110。
可以以各种形式提供衬底支撑件170。在一些实施方案中，可以以从室110的外部可移动至室110的内部的梭子的形式提供衬底支撑件170。在一些实施方案中，可以以固定在室110的内部中的框架的形式提供衬底支撑件170。在一些实施方案中，可以以在室110的内部中的静电形式提供衬底支撑件170。然而，衬底支撑件170不限于这些形式，并且可以是支撑第一衬底11或使第一衬底11固定在室110内部的任何装置或结构。在下文中，为了便于解释，本文中将假设衬底支撑件170是固定在室110的内部中的框架的形式来描述实施方案。
可以向室110提供视觉单元120。对此，可以将照相机用作视觉单元120以对第一衬底11和掩模组件140中的至少一个拍照。
可以将掩模组件140安装在掩模支撑件130上。安装掩模组件140后，掩模支撑件130可以改变掩模组件140的位置。例如，掩模支撑件130可以包括用于在三个不同的方向移动并对准掩模组件140的对准装置(未示出)。
根据待沉积在衬底11上的层，掩模组件140的使用是任选的。然而，为了便于解释，将详细地描述其中可以通过使用掩模组件140进行沉积过程的一个或多个实施方案。
在一个或多个实施方案中，掩模组件140可以包括掩模框架141。在该实施方案中，掩模框架141可以具有开放的中央部分，并且可以单独使用掩模框架141。在一个或多个实施方案中，掩模组件140可以包括掩模框架141和掩模片142。掩模组件140可以进一步包括向掩模框架141提供的加强构件(未示出)。为了便于解释，将详细地描述其中掩模组件140包括掩模框架141、掩模片142和加强构件的实施方案。
掩模框架141可以具有开口，并且可以与窗口-框架类似。在一些实施方案中，掩模片142可以具有包含开口的图案。掩模片142可以具有板或多个细长的构件，并且可以在被延伸的同时与掩模框架141组合。
可以以各种形式提供加强构件。例如，向掩模框架141提供的加强构件可以是棒或板的形式。可以提供多个加强构件，并且可以使一些加强构件形成为横跨掩模框架141的内部部分以加强掩模框架141的刚度。在一些实施方案中，可以在掩模框架141上提供一些加强构件并且可以随后向所得的结构提供掩模片142。
在多种实施方案中，掩模组件140可以包括掩模框架141、掩模片142和在掩模框架141上提供的阻挡掩模(未示出)。掩模框架141和掩模片142可以与上文描述的基本相同。可以在掩模框架141上提供阻挡掩模。可以以晶格形状提供阻挡掩模。掩模片142可以在被延伸的同时与阻挡掩模组合。然而，在下文中，为了便于解释，以下将假设掩模组件140包括掩模框架141和掩模片142并且将掩模片142直接提供在掩模框架141上来描述实施方案。
沉积源供应器150可以面向掩模组件140。然而，沉积源供应器150的位置可以取决于有机材料而变化。例如，可以将沉积源供应器150布置在室110的内部的上部上或在室110的内部的下部上。在一些实施方案中，可以将沉积源供应器150布置在室110的内部的侧面上。然而，为了便于解释，以下将假设将沉积源供应器150布置在室110的内部的下部上来描述实施方案。
沉积源供应器150可以具有为有机材料而保留的储备(即，空的)部分。沉积源供应器150可以包括用于加热有机材料的加热器(未示出)。沉积源供应器150可以随后通过加热有机材料而使有机材料升华或蒸发。一旦被蒸发，有机材料可以经过掩模组件140，随后沉积在第一衬底11的表面上。
对此，可以在沉积源供应器150和第一衬底11不移动的同时进行沉积。在一个实施方案中，沉积源供应器150和第一衬底11中的至少一个可以直线移动。例如，当沉积源供应器150在一个方向直线移动时，第一衬底11可以不移动。在一个实施方案中，当第一衬底11在一个方向直线移动(或往复运动)时，沉积源供应器150可以不移动。在一个实施方案中，沉积源供应器150和第一衬底11中的每一个均可以往复运动。在下文中，为了便于解释，本文将假设在沉积源供应器150在一个方向往复运动的同时进行沉积来提供实施方案。
有机材料可以包括多种材料。可以将有机材料沉积在衬底上以形成在图4的有机发光二极管(OLED)18中示出的中间层18b。例如，可以在沉积源供应器150中混合并储存至少两种不同的有机材料。在一个实施方案中，当有机材料包括多种有机材料时，其至少一种有机材料可以具有0.1％至50％的浓度比率。在下文中，为了便于解释，本文将假设在沉积源供应器150中储存两种有机材料来提供实施方案。在本文中，所述两种有机材料包括第一有机材料和与所述第一有机材料不同的第二有机材料。
压力控制器160可以包括连接管161和向连接管161提供的泵162。可以通过操作泵162来调整室110的内部压力。例如，当进行沉积过程时，泵162可以将室110的内部压力维持在接近真空状态的水平。当第一衬底11和掩模组件140进入室110时，泵162可以将室110的内部压力控制在与大气压力相同的水平。
以下将描述装置100的操作实例。当泵162将室110的内部压力维持在与大气压力相同时，可以打开闸阀110a，并且第一衬底11和/或掩模组件140可以进入室110。在室110的内部或外部，例如，可以布置机械臂(未示出)或梭子(未示出)以将第一衬底11和掩模组件140移动至室110内。在下文中，为了便于解释，以下将假设将机械臂布置在室110的外部以将第一衬底11和掩模组件140移动至室110内来提供实施方案。
机械臂可以将第一衬底11移动至室110内，并随后，可以将第一衬底11安装在衬底支撑件170上。机械臂可以将掩模组件140移动至室110内并随后将掩模组件140安装在掩模支撑件130上。
一旦安装了第一衬底11和掩模组件140，则视觉单元120可以捕获第一衬底11和掩模组件140的图像。第一衬底11和掩模组件140中的每一个均可以具有对准标记。
视觉单元120可以将捕获的图像传输至控制器(未示出)，控制器随后确定第一衬底11和掩模组件140是否位于它们被设定所处的位置。控制器可以确定第一衬底11和掩模组件140的相对位置是否准确。可以将控制器形成为，例如，电子电路或者外部终端，例如计算机。
一旦控制器比较了第一衬底11和掩模组件140彼此的位置并确定第一衬底11没有对准掩模组件140，则控制器可以开动掩模支撑件130并控制掩模组件140的位置。
一旦控制器确定第一衬底11的位置已经与掩模组件140的位置相匹配，则控制器可以开动沉积源供应器150以在第一衬底11上沉积有机材料。在接收衬底之后且在开动沉积源供应器之前的某一点，控制器操作泵162以使室110达到用于沉积的期望的低压。随后可以加热沉积源供应器150以在室110内部供应至少两种有机材料(例如，第一有机材料和第二有机材料)。第一衬底11和沉积源供应器150中的至少一个可以直线移动。下文中，将详细地描述其中沉积源供应器150直线移动的实施方案。泵162可以将室110的内部压力维持在接近真空状态的水平。
例如，当沉积源供应器150开动时，在沉积源供应器150中包含的第一有机材料和第二有机材料可以被升华或被蒸发。第一有机材料和第二有机材料中的至少一个可以包含通过蒸发从液态相变为气态的可蒸发的材料。第一有机材料和第二有机材料中的至少一个可以包含通过升华从固态相变为气态的升华材料。在下文中，为了便于解释，以下将假设第一有机材料和第二有机材料中的每一种均包含升华材料来提供实施方案。
第一有机材料和第二有机材料不限于此，并且可以各自变化。第一有机材料和第二有机材料可以各自包含组成OLED 18的中间层18b的任何材料。因此，可以通过经掩模组件140在第一衬底11上沉积至少两种有机材料，从而形成中间层18b。在5×10-3托至3×10-2托的范围内的所选的饱和蒸气压(第一饱和蒸气压)下，第一有机材料和第二有机材料可以具有不同的相变温度，并且相变温度之间的差为5℃或小于5℃。
例如，第一有机材料或第二有机材料可以为具有由式1表示的分子结构的有机材料。另一种材料可以为具有由式2表示的分子结构的有机材料。在下文中，为了便于解释，以下将假设第一有机材料具有由式1表示的分子结构并且第二有机材料具有由式2表示的分子结构来提供实施方案：
[式1]
[式2]
图2是具有由式1表示的分子结构的第一有机材料和具有由式2表示的分子结构的第二有机材料的饱和蒸气压相对于相变温度的图。参考图2，在饱和蒸气压下第一有机材料的相变温度将被称为第一温度(实线)，并且在相同饱和蒸气压下第二有机材料的相变温度将被称为第二温度(虚线)。例如，在3×10-3托的饱和蒸气压下，第一温度可以为约324.2℃且第二温度可以为约329℃。因此，第一有机材料的相变温度与第二有机材料的相变温度之间的差，即，第一温度与第二温度之间的差可以为约4.8℃。当饱和蒸气压为1×10-2托时，第一温度可以为约341℃且第二温度可以为约343℃。因此，第一温度与第二温度之间的差可以为约2℃。如果第一有机材料的相变温度与第二有机材料的相变温度之间的差为5℃或小于5℃，则可以使第一有机材料与第二有机材料的浓度比率维持恒定。表1示出当通过使用第一有机材料和第二有机材料进行沉积过程且相变温度差为5℃或小于5℃时第一有机材料和第二有机材料的浓度值。通过将第一有机材料的重量除以第一有机材料和第二有机材料的总和来计算第一有机材料的浓度。通过将第二有机材料的重量除以第一有机材料和第二有机材料的总和来计算第二有机材料的浓度。以％表示第一有机材料和第二有机材料的浓度值。
[表1]
参考以上所示结果，可以看出，最初，在沉积源供应器150中包含的第一有机材料的浓度和第二有机材料的浓度分别为20％和80％。沉积后，在第一衬底11上形成的沉积层(或中间层18b)中的第一有机材料的浓度和第二有机材料的浓度分别为21.5％和78.5％。即，可以看出，最初在沉积源供应器150中包含的第一有机材料的浓度和第二有机材料的浓度基本上与沉积后沉积层中的第一有机材料的浓度和第二有机材料的浓度相似。在这种情况下，最初在沉积源供应器150中包含的第一有机材料的浓度与在沉积层中的第一有机材料的浓度之间的差在2％以内，即，在为装置100设计的误差范围以内。
因此，即使重复使用装置100以在各自与第一衬底11相同的多个衬底上沉积第一有机材料和第二有机材料，在时间流逝之后，可以将第一有机材料的浓度和第二有机材料的浓度保持为与第一有机材料的初始浓度和第二有机材料的初始浓度相似。更具体地，参考表1，例如，当将装置100开动200小时以在第一衬底11上沉积第一有机材料和第二有机材料时，在沉积源供应器150中保留的第一有机材料的浓度和第二有机材料的浓度分别为21.6％和78.4％。这些结果与第一有机材料的初始浓度和第二有机材料的初始浓度相似，并且其误差范围可以在2％以内。因此，甚至当将有机材料沉积在第一衬底11上时，装置100可以使第一有机材料和第二有机材料能够沉积在第一衬底11上，并同时将第一有机材料与第二有机材料的浓度比率维持在基本上协同的水平。
然而，当饱和蒸气压为1×10-3托时，第一温度为约301.4℃且第二温度为约312℃。因此，第一温度与第二温度之间的差为约10.6℃，这是大于5℃的值。在这种情况下，在沉积期间，第一有机材料的浓度与第二有机材料的浓度之间的差变宽，因此，在第一衬底11上的中间层18b中包含的第一有机材料的浓度与第二有机材料的浓度之比可能变化。在这种情况下，当时间流逝时，显示装置10的亮度或分辨率可能变化，因此，极有可能制造有缺陷的显示装置。因此，在3×10-3托至1×10-2托的范围内的饱和蒸气压范围内，具有以上这类式的第一有机材料和第二有机材料可以是可用的。实施方案不限于此，并且可以将任何有机材料用作第一有机材料和第二有机材料，只要在5×10-4托至3×10-2托的范围内的饱和蒸气压下，有机材料具有5℃或小于5℃的相变温度差即可。
以下将描述确认包含第一有机材料和第二有机材料的混合物是否能够从单个沉积源供应器150中被蒸发的方法的实例。
首先，将第一有机材料提供至热重分析仪(TGA)，并随后，设定TGA的每小时的温度变化(例如，10℃/min的增长速率)。TGA可以包括，例如，用于接收样品的坩埚、用于测量坩埚重量的重量测量单元、围绕坩埚以加热坩埚的加热器、位于坩埚的外部的室，以及与该室连接且将该室的内部压力维持在几乎为真空状态(例如，约1×10-4托或小于1×10-4托)的进入单元。
在上述TGA的情况下，最初地，可以将相对于时间的温度变化设定为5℃。在这种情况下，TGA可以测量第一有机材料的初始重量，以及第一有机材料的重量相对于温度变化的变化，该温度变化是相对于时间的温度变化。即，TGA可以从第一有机材料的重量的变化计算重量变化速率，即，如下列等式中所示的相对于时间的重量变化。
[等式1]
其中W为有机材料的重量，t为时间，并且T为TGA的温度。对此，如上所述那样，可以最初设定dT/dt，其是等式1中相对于时间的温度变化。可以通过使用经使用TGA和已知的等式获得的测量值来获得
基于重量变化速率，可以通过使用下列等式计算每单位面积的蒸发速率。
[等式2]
其中m为每单位面积的蒸发速率，并且U为TGA的坩埚的面积(不包括坩埚的开口的面积)。
对于每单位面积的蒸发速率与有机材料的饱和蒸气压之间的关系，可以由已知的郎缪尔等式获得下列等式。
[等式3]
其中a为1或小于1的蒸发系数，M为有机材料的分子量，并且R为8.3145J/K·mol的气体系数。
蒸发系数a可以取决于蒸发压力或取决于是否一起混合有其他材料。然而，当一种有机材料在TGA中被蒸发时，因为室的内部压力几乎为真空且没有一起混合有其他材料，可以假设a为1。甚至对于相同的材料，因为a是压力的函数，在1×10-4托或低于1×10-4托的压力下，a可以通常为1。因此，仅仅需要考虑当满足该条件时饱和蒸气压相对于相变温度的曲线。
当假设a为1时，可以根据基于这些结果获得的有机材料的温度与重量损失之间的关系来计算有机材料的每单位面积的蒸发速率。对此，可以通过使用等式1计算有机材料的温度与重量损失之间的关系。
图2和图3示出可以通过使用等式1、等式2和等式3计算饱和蒸气压与有机材料的温度之间的关系。
参考图2和图3，第一有机材料和第二有机材料可以仅在5×10-4托至3×10-2托的饱和蒸气压范围内具有系数关系。即，可以看出当饱和蒸气压低于5×10-4托或高于3×10-4托时，饱和蒸气压与温度之间的关系不是恒定的。除了第一有机材料和第二有机材料之外，其他材料也显示出这种关系。参考图2，第一有机材料具有在约360℃附近的拐点，并且第二有机材料具有在约370℃附近的拐点。假设这些拐点由于第一有机材料和第二有机材料的热分解而出现。当图2和图3的饱和蒸气压在5×10-4托至3×10-2托以内时，第一有机材料和第二有机材料中的每一种均可以相变。
在饱和蒸气压范围以内，如上所述，甚至当将至少两种不同的有机材料混合时，只要转变温度差在5℃以内，则可以在长时间段内将至少两种不同的有机材料的混合比率维持恒定。
例如，在其中将除了第一有机材料和第二有机材料之外的两种有机材料混合的一个实施方案中，可以获得表2中示出的结果。表2的结果显示当在沉积源供应器150中混合第三有机材料和第四有机材料并且随后将该混合物沉积在第一衬底11上时，第三有机材料和第四有机材料的浓度的变化。对此，当第三有机材料和第四有机材料的饱和蒸气压为3×10-3托时，相变温度差可以为3.4℃。第三有机材料可以为包含5p型分子的绿色主体，并且第四有机材料可以为包含5n型分子的绿色主体。
[表2]
材料 蒸发(或升华)前的浓度(％) 200小时的沉积后残余的量(％)
第三有机材料 50 49.6
第四有机材料 50 50.4
这些结果表明当在相同的饱和蒸气压下相变温度差为5℃或小于5℃时，甚至在沉积后残余的量很少变化。
除了所述材料，可以代替地使用各种其他有机材料。例如，在相同的饱和蒸气压下具有0.55℃的相变温度差的两种不同的有机材料(或用作绿色主体的两种有机材料)的情况下，沉积前，所述两种不同的有机材料可以分别具有69.9％和30.1％的浓度，并且在200小时沉积后，所述两种不同的有机材料可以分别具有69.8％和30.2％的浓度。
因此，以上述相同的方式，通过使用TGA分析所述至少两种不同的有机材料中的每一种以确认饱和蒸气压与转变温度之间的关系。从所获得的结果，可以将各自具有5×10-4托至3×10-2托的饱和蒸气压和5℃的转变温度差的至少两种不同的有机材料用于沉积。可以在被放置在沉积源供应器150中的同时，将所述至少两种不同的有机材料同时沉积在第一衬底11上。
一旦在第一衬底11上完全地进行沉积过程，则开动泵162以将室110的内部压力维持在与大气压力相同。当开动闸阀110a以打开室110时，机械臂可以将第一衬底11移至室110的外部。
因此，装置100和用于其的制造方法使得待混合的至少两种有机材料的浓度能够在误差范围以内，甚至当将有机材料连续地、同时地沉积在第一衬底11上时。
因此，装置100和用于其的制造方法使得OLED 18的中间层18b能够均匀地形成，甚至当在长时间段内连续地进行沉积过程时。因此，装置100和用于其的制造方法可以使得能够生产高品质的显示装置，同时使缺陷率最小化。
参考图3，可以将装置100用于形成中间层18b。其后，在中间层18b上形成相对的电极18c，并且随后，在相对的电极18c上形成封装部分以完成制造显示装置10。封装部分可以包括薄膜封装层E或第二衬底(未示出)。
显示装置10可以包括第一衬底11和发射部分D。显示装置10可以在发射部分D上包括薄膜封装层E或第二衬底。第二衬底与常规显示装置中使用的基本相同，并且因此，将省略对其的描述。为了便于解释，将假设显示装置10包括薄膜封装层E来提供实施方案。
发射部分D可以包括薄膜晶体管TFT、覆盖薄膜晶体管TFT的钝化膜17以及在钝化膜17上布置的OLED 18。
第一衬底11可以包括玻璃材料。然而，用于形成第一衬底11的材料不限于此。例如，第一衬底11可以包括塑料材料，或诸如SUS或Ti的金属材料。在一些实施方案中，第一衬底11可以包括聚酰亚胺(PI)。在下文中，为了便于解释，以下将假设第一衬底11包括玻璃材料来提供实施方案。
可以在第一衬底11上形成缓冲层12。缓冲层12可以包含有机化合物和/或无机化合物。例如，缓冲层12可以包含SiOX(X≥1)或SiNX(X≥1)。
可以在缓冲层12上形成具有某一图案的有源层13，并且随后，由栅绝缘层14覆盖有源层13。有源层13包括源区13a、漏区13c和在源区13a与漏区13c之间的沟道区13b。
有源层13可以包含多种材料。例如，有源层13可以包含无机半导体材料，例如非晶硅或晶体硅。在一些实施方案中，有源层13可以包含氧化物半导体。在一些实施方案中，有源层13可以包含有机半导体材料。
可以以在缓冲层12上形成非晶硅膜且随后将非晶硅膜结晶以形成多晶硅膜，然后将多晶硅膜图案化的这种方式形成有源层13。根据薄膜晶体管，即，根据薄膜晶体管是驱动薄膜晶体管(未示出)还是开关薄膜晶体管(未示出)，用相应的杂质掺杂接触TFT的源电极和漏电极的有源层13的源区13a和漏区13c。
在栅绝缘层14上形成栅电极15，与有源层13相对应，并且层间绝缘层16覆盖栅电极15。
在层间绝缘层16和栅绝缘层14中的每一个中形成接触孔H1，并且随后，以源电极17a和漏电极17b分别接触源区13a和漏区13c的这种方式在层间绝缘层16上形成源电极17a和漏电极17b。
在薄膜晶体管TFT上形成钝化膜17，并在钝化膜17上形成OLED18的像素电极18a。像素电极18a经由在钝化膜17中形成的通孔H2接触薄膜晶体管的漏电极17b。钝化膜17可以包含无机材料和有机材料中的至少一种，并且可以具有单层结构或包括两层或多于两层的多层结构。在一些实施方案中，钝化膜17可以为具有平坦顶表面的平整化层，尽管其下层是不平坦的。在一些实施方案中，钝化膜17可以适形于其下层，所以如果下层是弯曲的，则钝化膜17也是弯曲的。为了获得共振效应，钝化膜17可以包含透明绝缘材料。
在钝化膜17上形成像素电极18a之后，形成覆盖像素电极18a和钝化膜17的像素限定膜19。像素限定膜19可以包含有机材料和/或无机材料。像素限定膜19是敞开的，使得像素电极18a被暴露。
在像素电极18a上形成中间层18b和相对的电极18c。
像素电极18a可以充当阳极并且相对的电极18c可以充当阴极。然而，在一些实施方案中，像素电极18a可以充当阴极并且相对的电极18c可以充当阳极。
像素电极18a和相对的电极18c可以通过中间层18b而彼此绝缘，并且对中间层18b施加具有不同极性的电压以允许有机发射层发光。
中间层18b可以包括有机发射层。在任选的实施方案中，中间层18b可以包括有机发射层，并且额外地包括作为公共层(未示出)的选自空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的至少一层。
组成中间层18b的层可以各自包含至少两种有机材料，例如第一有机材料和第二有机材料，其中所述有机材料以混合状态存在。所述至少两种有机材料可以具有不同的相变温度，并且在5×10-4托至3×10-2托的某一饱和蒸气压(第一饱和蒸气压)下，相变温度之间的差为5℃或小于5℃。例如，有机发射层和公共层中的至少一个可以包含处于混合状态的至少两种或多于两种的有机材料。例如，仅有机发射层可以包含处于混合状态的至少两种或多于两种的有机材料。例如，仅公共层可以包含处于混合状态的至少两种或多于两种的有机材料。对此，从组成公共层的层中，至少一层可以包含处于混合状态的至少两种或多于两种的有机材料。在一些实施方案中，有机发射层和公共层中的每一个均可以包含处于混合状态的至少两种或多于两种的有机材料。然而，为了便于解释，将假设有机发射层包含第一有机材料和第二有机材料来提供实施方案。单个单元像素包括多个子像素，所述子像素发射多种的光颜色。例如，子像素可以包括发射红光的子像素、发射绿光的子像素和发射蓝光的子像素，或者子像素可以包括发射红光的子像素、发射绿光的子像素、发射蓝光的子像素和发射白光的子像素。
薄膜封装层E可以包括多个无机层，或可以包括无机层和有机层。
薄膜封装层E的有机层可以包含聚合物。例如，有机层可以是包含选自聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸酯中的至少一种的单层膜或堆叠膜。例如，有机层可以包含聚丙烯酸酯，或通过聚合包含基于二丙烯酸酯的单体和基于三丙烯酸酯的单体的单体组合物而获得的聚合物。单体组合物可以进一步包含基于单丙烯酸酯的单体。单体组合物可以进一步包含已知的光引发剂，例如2，4，6-三甲基苯甲酰基氧化膦(TPO)。然而，实施方案不限于此。
薄膜封装层E的无机层可以为包含金属氧化物或金属氮化物的单层膜或堆叠膜。例如，无机层可以包含SiNX、Al2O3、SiO2和TiO2中的任一种。
从组成薄膜封装层E的层中，暴露于显示装置10的外部的最上层可以包括无机层以防止水分渗入OLED 18。
薄膜封装层E可以包括至少一个在至少两个无机层之间包括至少一个有机层的夹层结构。在一些实施方案中，薄膜封装层E可以包括至少一个在至少两个有机层之间包括至少一个无机层的夹层结构。在一些实施方案中，薄膜封装层E可以包括在至少两个无机层之间包括至少一个有机层的夹层结构和在至少两个有机层之间包括至少一个无机层的夹层结构。
薄膜封装层E可以包括第一无机层、第一有机层和第二无机层，这些以这种规定的顺序依次形成在OLED 18上。
在一些实施方案中，薄膜封装层E可以包括第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层和第三无机层，这些以这种规定的顺序依次形成在OLED 18上。
在一些实施方案中，薄膜封装层E可以包括第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层、第三无机层、第三有机层和第四无机层，这些以这种规定的顺序依次形成在OLED 18上。
在OLED 18与第一无机层之间可额外地包括含有LiF的卤化金属层。当通过溅射形成第一无机层时，卤化金属层可以保护OLED 18。
第一有机层的面积可以小于第二无机层的面积，以及第二有机层的面积可以小于第三无机层的面积。
因此，可以将显示装置10的品质维持在高水平。此外，由于包括包含有机材料的中间层18b，其中所述有机材料的设计的浓度比率被维持恒定，因此显示装置10可以体现出高发光效率。
根据实施方案的显示装置以及制造所述显示装置的装置和方法允许显示装置准确地体现出图像。
应理解应仅以描述性意义而不是为了限制的目的考虑本文所述的示例性实施方案。在各个示例性实施方案内的特征或方面的描述应通常被认为可用于其他示例性实施方案中的其他类似的特征或方面。
虽然在本文中已经描述了某些示例性实施方案和实施，但是其他实施方案和修改从该描述中会变得显而易见。因此，本发明构思不限于此类实施方案，而相反地，限于所提出的权利要求和各种显而易见的修改和等同布置的更宽的范围。

Claims (19)

1.显示装置，包括：
发射部分，其布置在衬底上，所述发射部分包含中间层；以及
封装部分，其通过重叠所述发射部分而密封所述发射部分，
其中所述中间层包含至少两种有机材料，所述有机材料在5×10-4托至3×10-2托的范围内的第一饱和蒸气压下具有不同的相变温度，并且所述相变温度之间的差小于5℃或等于5℃。
2.如权利要求1所述的显示装置，其中，从所述至少两种有机材料中，至少一种有机材料是从液态蒸发至气态的可蒸发的材料。
3.如权利要求1所述的显示装置，其中，从所述至少两种有机材料中，至少一种有机材料是从固态升华至气态的升华材料。
4.如权利要求1所述的显示装置，其中所述中间层包括有机发射层。
5.如权利要求4所述的显示装置，其中所述中间层还包括选自空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的至少一层。
6.如权利要求1所述的显示装置，其中所述第一饱和蒸气压在3×10-3托至1×10-2托的范围内。
7.用于制造显示装置的装置，包括：
室，所述室在所述室中包含用于衬底的支撑件；以及
沉积源供应器，其被提供为面向所述衬底，所述沉积源供应器向所述衬底提供至少两种有机材料，
其中所述至少两种有机材料在5×10-4托至3×10-2托的范围内的第一饱和蒸气压下具有不同的相变温度，并且所述相变温度之间的差小于5℃或等于5℃。
8.如权利要求7所述的装置，其中从所述至少两种有机材料中，至少一种有机材料是从液态蒸发至气态的可蒸发的材料。
9.如权利要求7所述的装置，其中从所述至少两种有机材料中，至少一种有机材料为从固态升华至气态的升华材料。
10.如权利要求7所述的装置，其中所述衬底和所述沉积源供应器中的至少一个被配置为直线运动。
11.如权利要求7所述的装置，其中所述第一饱和蒸气压在3×10-3托至1×10-2托的范围内。
12.制造显示装置的方法，所述方法包括：
使衬底进入室；
加热沉积源供应器以在所述室内供应至少两种有机材料；以及
在所述衬底上沉积所述至少两种有机材料以形成中间层，
其中所述至少两种有机材料在5×10-4托至3×10-2托的范围内的第一饱和蒸气压下具有不同的相变温度，并且所述相变温度之间的差小于5℃或等于5℃。
13.如权利要求12所述的方法，其中，从所述至少两种有机材料中，至少一种有机材料为从液态蒸发至气态的可蒸发的材料。
14.如权利要求12所述的方法，其中，从所述至少两种有机材料中，至少一种有机材料为从固态升华至气态的升华材料。
15.如权利要求12所述的方法，其中所述衬底和所述沉积源供应器中的至少一个进行直线运动。
16.如权利要求12所述的方法，其中，从所述至少两种有机材料中，一种有机材料具有以重量计在0.1％至50％的范围内的浓度比率。
17.如权利要求12所述的方法，其中所述中间层包括有机发射层。
18.如权利要求17所述的方法，其中所述中间层还包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的至少一个。
19.如权利要求12所述的方法，其中所述第一饱和蒸气压在3×10-3托至1×10-2托的范围内。
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