CN106456049A - 患者接近性调制的比吸收率 - Google Patents

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Abstract

一种关于调节要被施加到要被成像的感兴趣对象(20)的射频激励场B1来操作磁共振成像系统(10)的方法，所述方法包括以下步骤：‑确定至少一个位置参数(d)，其指示所述感兴趣对象(20)的至少部分相对于所述磁共振成像系统(10)的至少一个射频发射天线(36)的位置；并且‑取决于出自所确定的所述感兴趣对象(20)的至少一个位置参数(d)和确定的几何尺寸(w)中的至少一个，调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的射频功率的至少一个射频功率相关的参数；以及‑具有接近检测单元(46)的磁共振成像系统(10)，其包括至少一个接近检测器(D)，以及控制单元(26)，其中，所述控制单元(26)被配置为执行这样的方法的步骤。

Description

患者接近性调制的比吸收率
技术领域
本发明涉及关于调节被应用到要被成像的感兴趣对象的射频激励场来操作磁共振成像系统的方法，以及通过采用这样的方法来操作的磁共振成像系统。
背景技术
在磁共振成像的领域中，要被成像的感兴趣对象被暴露于射频场，在从激励的原子核采集磁共振信号之前所述射频场被应用以激励感兴趣对象的原子核或感兴趣对象内的原子核。关于比吸收率的上限的安全要求必须被观察。
美国专利申请US2005/0122108公开了被提供有轮廓检测单元的磁共振成像装置，所述轮廓检测单元检测客体的轮廓。此外，线圈移动单元被提供用于基于所检测的轮廓来移动射频线圈。
发明内容
期望操作磁共振成像系统，使得关于针对要被成像的对象的比吸收率的上限在任何时间处被观察。
因此本发明的一个目的是提供关于调节射频激励场操作磁共振成像系统的方法，所述射频激励场要被施加到要被成像的感兴趣对象，其中，所述磁共振成像系统被配置用于采集感兴趣对象的至少部分的磁共振图像。
所述方法包括以下步骤：
-确定至少一个位置参数，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象的至少部分相对于所述磁共振成像系统的至少一个射频发射天线的位置；并且
-取决于出自所确定的所述感兴趣对象的至少一个位置参数和确定的几何尺寸中的至少一个，调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线的射频功率的至少一个射频功率相关的参数。
如本申请中使用的短语“位置参数”应当尤其被理解为直接或间接指示感兴趣对象的至少部分相对于至少一个射频发射天线的位置的参数。在间接情况下，位置参数可以指示感兴趣对象的至少部分相对于参考位置的位置，所述参考位置到至少一个射频发射天线的相对位置继而是已知的。
以这种方式，能够可靠地防止感兴趣对象到可能潜在地危害感兴趣对象的健康的比吸收率的暴露，而无论感兴趣对象相对于磁共振系统的射频发射天线的尺寸、姿态或者相对位置。
调节至少一个射频功率相关的参数的步骤可以由操作者来人工执行，或者优选地，其可以自动地并且较不易于出现人类错误地执行，例如由磁共振成像系统的控制单元执行，其中，所述控制单元被配置用于直接或者间接控制至少一个射频功率相关的参数。
在方法的优选实施例中，通过采用具有至少一个接近检测器的接近检测单元来执行确定所述至少一个位置参数的步骤。如本申请中使用的术语“接近检测器”应当被尤其理解为能够检测客体的位置而无需检测器与客体之间的物理接触的检测器。优选地，所述至少一个接近检测器是从由多个超声接近检测器、光学(例如，红外)接近检测器(尤其是在接近感测(弥散)布置中)形成的组中选择的，并且总体而言基于光学或者声学工作原理。在一个实施例中，至少一个接近检测器可以被设计为相机。术语“接近检测单元”应当明确地排除具有基于磁共振成像的工作原理的单元。
优选地，所述至少一个接近检测器被布置在磁共振扫描单元的检查空间的进入区域中。如本申请中所使用的术语“进入区域”应当尤其被理解为患者在进入检查空间之前必须通过的体积。
在另外的优选实施例中，所述接近检测单元包括至少两个接近检测器，所述至少两个接近检测器被布置为朝向所述感兴趣对象的相对的各一半瞄准。所述方法还包括以下步骤：确定所述感兴趣对象的至少一个横向尺寸。调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线的所述射频功率的所述至少一个射频功率相关的参数的步骤还取决于所述感兴趣对象的所确定的至少一个位置参数和至少一个横向尺寸两者而被执行。
通过这样，感兴趣对象到可以潜在地危害感兴趣对象的健康的比吸收率的暴露能够容易且可靠地被防止，而无论尺寸、感兴趣对象的姿势或者相对位置。
在方法的又一优选实施例中，以下步骤针对所述感兴趣对象的所述至少部分的多个位置而被执行：
-确定至少一个位置参数，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象的所述至少部分相对于所述磁共振成像系统的所述至少一个射频发射天线的位置；并且
-经由所述至少两个接近检测器来确定所述感兴趣对象的至少一个横向尺寸。
所述方法还包括以下步骤：
-获得用于根据在所述多个位置处确定的所述位置参数和所述横向尺寸来生成所述感兴趣对象相对于所述磁共振成像系统的所述至少一个射频发射天线的几何轮廓的数据。
对针对多个位置的感兴趣对象的位置参数和横向尺寸的确定可以在通过移动感兴趣对象或者通过移动接近检测器来相对于接近检测器移动感兴趣对象期间相继地执行。在人类感兴趣对象的情况下，多个位置沿人类感兴趣对象的身体轴线来布置。
以这种方式，使用适合的布置，感兴趣对象相对于至少一个射频发射天线的位置能够容易地被监测和检查。监测和检查可以由操作者来执行，或者优选地，其可以自动地并且较少易于发生人类错误地执行，例如由磁共振成像系统的控制单元来执行。
在又一实施例中，所述方法还包括以下步骤：通过利用感兴趣对象的确定的位置参数和横向尺寸来确定要由所述至少一个射频发射天线发射的射频功率的预期的比吸收率。所述确定是基于针对由具有指定横向尺寸的所述感兴趣对象在以指定相对位置参数被暴露于的所发射的射频功率时吸收的所述比吸收率的预定关系的。取决于所确定的预期的比吸收率，来执行调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线的射频功率的所述至少一个射频功率相关的参数的步骤。
如本文中使用的短语“比吸收率”应被理解为特别地涵盖全身比吸收率以及与正被成像的感兴趣对象的部分有关的局部比吸收率。
以这种方式，能够估计针对预期的比吸收率的患者特异性和位置特异性估计，其允许执行调节至少一个射频功率相关的参数的步骤，使得射频激励场针对最佳信噪比尽可能大，但是被可靠地保持低于最大可容忍比吸收率。
在一个实施例中，调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线的射频功率的所述至少一个射频功率相关的参数的步骤包括调节出自射频脉冲序列的占空比和射频功率幅度中的至少一个。通过这样，能够实现针对调节在磁共振成像领域中常用的射频脉冲序列的灵活性。
在本发明的另一方面中，提供了一种被配置用于采集感兴趣对象的至少部分的磁共振图像的磁共振成像系统。所述磁共振成像系统包括：
-扫描单元，其提供检查空间以将所述感兴趣对象的所述至少部分定位于其内，其中，所述检查空间具有供所述感兴趣对象进入所述检查空间的进入区域，并且所述扫描单元还具有被配置用于生成所述检查空间中的静态磁场B0的主磁体；
-磁梯度线圈系统，其被配置用于生成被叠加到所述静态磁场B0的梯度磁场；
-至少一个射频发射天线，其被配置用于将射频激励场B1施加到所述感兴趣对象的所述部分的原子核或所述感兴趣对象的所述部分内的原子核，以用于磁共振激励；
-至少一个射频接收天线，其被配置用于接收来自已经通过施加所述射频激励场B1激励的所述感兴趣对象的所述部分的所述原子核或所述感兴趣对象的所述部分内的所述原子核的磁共振信号；
-控制单元，其被配置用于控制所述磁共振成像系统的功能；
-接近检测单元，其包括至少一个接近检测器，所述至少一个接近检测器被配置用于确定至少一个位置参数，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象的所述至少部分相对于所述至少一个射频发射天线的位置。
所述控制单元被配置为执行以上描述的方法中的任一项或其组合的步骤。
以这种方式，能够在采集感兴趣对象的至少部分的磁共振图像期间可靠地防止对感兴趣对象超过最大可容忍比吸收率的射频激励场的暴露。
在磁共振成像系统的另一优选实施例中，所述接近检测单元包括至少一对接近检测器，所述至少一对接近检测器在至少一个操作的状态中被布置为从形成至少45°的角的两个相交方向朝向感兴趣对象瞄准。
通过这样，能够基于发展感兴趣对象在多个位置上的截面来估计针对预期的比吸收率的患者特异性和位置特异性估计，所述感兴趣对象在多个位置上的截面能够根据感兴趣对象的横向尺寸和位置参数来确定。对预期的比吸收率的估计允许执行调节至少一个射频功率相关的参数的步骤，使得射频激励场是与能够用于最佳信噪比的一样大的，但是被可靠地保持低于最大可容忍比吸收率。
此外，感兴趣对象的确定的截面能够实现对接触本体感兴趣对象的肢体和/或腿部触摸的检测。
在磁共振成像系统的又一优选实施例中，所述至少一个接近检测器或者所述接近检测器的对被布置在所述扫描单元的所述进入区域中。以这种方式，能够在感兴趣对象在检查空间内的定位期间容易地确定在多个位置上的截面的开发。
在磁共振成像系统的另一优选实施例中，所述至少一个接近检测器被设计为相机。所述相机可以在输出端口处提供数字信号。优选地，所述相机被布置在扫描单元之外，朝向检查空间的进入区域瞄准。根据由相机拍摄的照片，能够容易地获得感兴趣对象的至少部分相对于所述至少一个射频发射天线的位置和所述感兴趣对象的横向尺寸。
附图说明
本发明的这些和其他方面讲根据下文描述的实施例而显而易见，并且将参考下文描述的实施例得到阐述。这样的实施例并不一定表示本发明的完整范围，然而，因此参考权利要求书和本文以解释本发明的范围。
在附图中，
图1示出了根据本发明的磁共振成像系统的实施例的部分的示意性图示，
图2是依据图1的磁共振成像系统的扫描单元的进入区域的顶视图，
图3图示了相对于射频发射天线的两个不同位置中的感兴趣对象的几何轮廓，
图4描绘了包括多个的四个接近检测器的接近检测单元的备选实施例，并且
图5示出了包括多个的九个径向布置的接近检测器的接近检测单元的另一备选实施例。
附图标记列表
10 磁共振流变成像系统 B0 静态磁场
12 扫描单元 B1 射频激励场
14 主磁体 Di 第i接近检测器
16 检查空间 di 第i位置参数
18 中心轴 wi 第i横向尺寸(宽度)
20 感兴趣对象 db 膛直径
22 磁梯度线圈系统 ds 探测器距离
24 人接口设备 d左 左侧距离
26 控制单元 d右 右侧距离
28 存储器单元 Δ 横向位移
30 处理器单元 zi 位置
32 进入区域
34 射频屏蔽
36 射频发射天线
38 射频切换单元
40 射频发射器
42 信号处理单元
44 中心膛壁
46 接近检测单元
48 患者台面
50 软件模块
具体实施方式
图1示出了磁共振成像系统10的实施例的部分的示意性图示，所述磁共振成像系统被配置用于采集感兴趣对象20(通常为患者)的至少部分的磁共振图像。磁共振成像系统10包括具有主磁体14的扫描单元12。主磁体14具有中心膛，所述中心膛提供针对要被定位在其内的感兴趣对象20的围绕中心轴18的检查空间16。检查空间16由中心膛的壁44横向地限制。检查空间16具有进入区域32，感兴趣对象20必须通过所述进入区域以进入检查空间16。主磁体14被提供用于生成至少在检测空间16中的静态磁场。静态磁场B0定义与中心轴18平行对齐的检查空间16的轴向方向。应认识到，本发明还可应用于在静态磁场内提供检查区域的任何其他类型的磁共振成像系统。
此外，磁共振成像系统10包括磁梯度线圈系统22，磁梯度线圈系统22被配置用于生成被叠加到静态磁场B0的梯度磁场。磁梯度线圈系统22被同心地布置在主磁体14的膛内，在检查空间16之外。
磁共振成像系统10包括控制单元26，控制单元26被配置为控制磁共振成像系统10的功能。控制单元26包括人机接口设备24，人机接口设备24包括具有触摸敏感屏的监测器单元。
此外，磁共振成像系统10包括被设计为全身线圈的射频天线设备36，所述全身线圈被提供用于向感兴趣对象20的原子核或感兴趣对象20之内的原子核应用射频激励场B1，用于在射频发射时间段期间的磁共振激励，以出于磁共振成像的目的而对感兴趣对象20的原子核或感兴趣对象20之内的原子核进行激励。为此，射频功率由控制单元26控制从射频发射器40馈送到全身线圈。射频功率被形成为一系列射频脉冲序列，其具有占空比和射频功率幅度。因为本领域技术人员熟悉多种专用射频脉冲序列，因此不需要详细描述射频脉冲序列的特定性质。
全身线圈具有中心轴，并且在操作状态中，被同心地布置于主磁体14的膛内，在检查空间16之外，使得全身线圈的中心轴和扫描单元12的中心轴18一致。如本领域中公知地，圆柱形金属射频屏蔽34被同心地布置于磁梯度线圈系统22和全身线圈之间。
全身线圈也被提供用于在射频接收阶段期间接收来自感兴趣对象20的部分的或所述部分内的原子核的磁共振信号，所述原子核己通过施加射频激励场B1而被激励。在磁共振成像系统10的操作状态中，射频发射阶段和射频接收阶段以相继的方式发生。
射频发射器40被配置为，由控制单元26起始和控制，在射频发射阶段期间经由射频切换单元38向全身线圈和磁梯度线圈系统22馈送磁共振射频的射频功率并且采用射频脉冲序列的形式。每个脉冲序列被配置为经由射频发射天线36生成射频激励场B1并且经由磁梯度线圈系统22生成磁梯度场。
在射频接收阶段期间，由控制单元26控制的射频切换单元40将磁共振信号从全身线圈引导到驻留于控制单元26内的信号处理单元42。信号处理单元36被配置用于处理所采集的磁共振信号以根据所采集的磁共振信号来确定表示感兴趣对象20的至少部分的磁共振图像的磁共振图像数据。
对于感兴趣对象20内部的射频激励场B1，发现在感兴趣对象20的外周处的局部比吸收率是感兴趣对象20的横向尺寸w的近似函数。因此，对于具有较大的横向尺寸w的感兴趣对象20，相比于具有较小横向尺寸w’的感兴趣对象20’，射频激励场B1的相等幅度B1 rms(rms：均方根)导致外周处的较高的局部比吸收率。这是射频激励场B1在圆柱射频全身线圈(诸如鸟笼线圈)中生成的方式的多个物理性质的结果，所述圆柱射频全身线圈通常被用作全身磁共振成像系统中的射频发射天线。一个特定性质是电场从中心轴18朝向射频发射天线36近似线性地增加。因此，对于相等幅度B1 rms，相比于较小直径的中心膛，较大直径的全身线圈将在主磁体14的中心膛壁处生成更高的峰电场。此外，被横向偏心地定位的具有较小横向尺寸w’的感兴趣对象20’也将由于更加邻近射频发射天线36经历更高的外周局部比吸收率。如之前讨论的，具有大的横向尺寸w的感兴趣对象20因此在其外周处并且由于外周接近中心膛壁被暴露于该较高电场。在极限中，实现针对具有横向尺寸w’的感兴趣对象20’的安全外周局部比吸收率的幅度B1 rms对于具有另一横向尺寸w的感兴趣对象20可能不是有用的，因为所生成的外周局部比吸收率将高于最大可容忍比吸收率。同样，被假设为对主磁体14的膛中居中地定位的感兴趣对象20安全的最大可容忍比吸收率在该相同感兴趣对象20被横向偏心放置时可能不安全。
为了确保在成像期间被应用到感兴趣对象20的比吸收率总是落在最大可容忍比吸收率下方，磁共振成像系统10关于以下来操作：依照根据本发明的方法来调节被应用到要被成像的感兴趣对象20的射频激励场B1将在以下对其进行描述。
所述方法包括以下步骤：确定感兴趣对象20的横向尺寸w，并且确定指示感兴趣对象20的至少部分相对于磁共振成像系统10的射频天线36的位置的位置参数di(图2)。
所述方法还包括以下步骤：取决于出自所确定的位置参数di和所确定的感兴趣对象的横向尺寸wi中的至少一个来调节要被馈送到至少一个射频发射天线36的射频功率的至少一个射频功率相关的参数。
对此，磁共振成像系统10被装备有接近检测单元46，接近检测单元46包括如被设计为超声接近传感器的两个接近检测器D1、D9。接近检测单元46被配置用于确定指示感兴趣对象20的至少部分相对于射频发射天线36的位置的位置参数di，并且用于确定感兴趣对象20的横向尺寸wi，如之后将描述的。
如图2示出的，两个接近检测器D1、D9被布置在扫描单元12的进入区域32中。两个接近检测器D1、D9中的每个瞄准垂直于并朝向中心轴18的方向上。两个接近检测器D1、D9瞄准方向被选择为恰在被保留用于患者台48的空间之上，患者台48被提供为在成像期间支撑感兴趣对象20，以通过进入区域32。在该布置中，两个接近检测器D1、D9将在由感兴趣对象20通过进入区域32以定位在检查空间16内期间确定感兴趣对象20的接近性。以这种方式，两个接近检测器D1、D9被布置为朝向感兴趣对象20的相对的各一半瞄准。例如，如果感兴趣对象20是仰卧位，则两个接近检测器D1、D9将在由感兴趣对象20通过进入区域32期间分别瞄准感兴趣对象20的左侧和右侧。如果感兴趣对象20正侧身躺着，则两个接近检测器D1、D9将分别瞄准感兴趣对象20的前侧和背侧。
两个接近检测器D1、D9中的每一个经由合适地接口将输出信号提供给控制单元26(未示出)的输入部分。控制单元26被配置用于处理并且用于评价输出信号。用于处理输出信号的手段，例如通过滤波、放大和数字化，对本领域技术人员而言是公知的并且因此将不在本文中详细描述。
现在参考图2，作为进入主磁体14的膛中的位移z的函数，感兴趣对象20的左侧到主磁体中心膛壁44的距离d左通过以下来给出：
其中，ds指代两个接近检测器D1、D9之间的距离，db指代主磁体14的膛的直径，并且d9指代从被布置到感兴趣对象20的左侧的接近检测器D9到感兴趣对象20的测量的距离。
类似地，对于感兴趣对象20的右侧，作为进入主磁体14的膛中的位移z的函数，感兴趣对象20的右侧到主磁体中心膛壁44的距离d右通过以下来给出：
其中，d1指代从被布置到感兴趣对象20的右侧的接近检测器D1到感兴趣对象20的测量的距离。
由宽度w给出的感兴趣对象20的横向尺寸能够通过以下根据对应于接近检测器D1、D9的信号的距离d1、d9来获得：
w(z)＝db-d左(z)-d右(z)＝ds-d1(z)-d9(z)
感兴趣对象20从中心轴18的横向位移Δ(图3)通过以下来给出：
其中，平均可以在多个位置zi上进行，在所述位置处位置参数d1、d9已经被确定。
因为接近检测器D1、D9关于射频发射天线36的相对位置是确切已知的，因此所确定的位置参数d1、d9指示感兴趣20的至少部分相对于射频发射天线36的位置。
在由患者台48支撑的感兴趣对象20正在z方向上通过进入区域32以例如在次序部件的帮助下被定位在检查空间16内的同时，两个接近检测器D1、D9将输出提供到控制单元26，控制单元被配置为以指定采样率记录输出信号，并且根据所记录的输出信号来确定位置参数d1、d9。
为了能够执行作为磁共振系统10的特定操作的方法，控制单元26包括软件模块50(图1)。要被实行的方法步骤被转换为软件模块50的程序代码，其中，所述程序代码可实施在控制单元26的存储器单元28中，并且能够由控制单元26的处理器单元30来执行。
所确定的位置参数d1、d9和在多个i位置zi处确定的横向尺寸wi由控制单元26使用以获得用于生成感兴趣对象20相对于磁共振成像系统10的射频发射天线36的几何轮廓的数据。该几何轮廓然后被显示在监测单元上以由操作者来核对(图3)。
在方法的较不复杂的实施例中，将根据所确定的位置参数d1、d9计算的感兴趣对象20到主磁体中心膛壁44的距离d右与被存储在控制单元26的存储器单元28中的针对到主磁体中心膛壁44的最小距离(例如5mm)的预定值进行比较。针对到主磁体中心膛壁44的最小距离的预定值被选择为使得针对感兴趣对象20的比吸收率被保持良好地低于最大可容忍值。针对最小距离的预定值能够利用感兴趣对象20的几何轮廓在监测单元上被可视化为针对操作者的信息。磁共振成像系统10被装备有用于患者台48的绝对位置确定系统(未示出)，使得几何轮廓不被由次序部件定位检查空间16内的感兴趣对象20的速度的变化所扭曲。图3图示了在针对具有零横向位移Δ'的标称位置(左侧)中和在具有非零横向位移Δ(右侧)的位置中的感兴趣对象的几何轮廓。
如果感兴趣对象20到主磁体中心膛壁44的计算的距离落在针对最小距离的预定值之下，则控制单元26被配置为调节要被馈送到射频发送天线36的射频功率的至少一个射频功率相关的参数。调节的步骤包括调节出自射频脉冲序列的占空比和射频功率幅度中的至少一个。在该实施例中，通过将到计划的射频功率幅度的预定百分比，例如5％，来由控制单元26调节射频功率幅度。通过该方法，变得能够消除对将衬垫放置在感兴趣对象20与扫描单元12的主磁体中心膛壁44之间的需要。
此外，控制单元26被配置为调用警告信号，其被显示在监测单元上，以向操作者通知对重新定位感兴趣对象20的需要(图3)。
在方法的另一实施例中，控制单元26被提供有针对由具有指定横向尺寸wi的感兴趣对象20在以指定相对位置参数di暴露于发射的射频功率时吸收的比吸收率的预定关系。已经从使用已知来自于测量结果或者理论考虑的射频发射天线36的发射特性的模拟获得了所述预定关系。
针对比吸收率的预定关系例如能够由二维查找表来表示，其中，两个维度由感兴趣对象20的横向尺寸w和横向位移Δ来给定，并且其中，相对标量值被分配给两个变量的每个可能组合。利用假设参考横向维度、权重和感兴趣对象20的定位的模拟，针对具有个体横向尺寸w并且被定位有指定横向位移的Δ感兴趣对象20的预期比吸收率能够容易地通过将参考比吸收率的值与分配的相对标量值相乘来获得。
尽管在该实施例中描述了查找表，但是备选地，针对比吸收率的预定关系能够由公式来表示，所述公式对经验关系进行近似。
然后，通过利用感兴趣对象20的确定的位置参数di和横向尺寸wi并且基于预定关系，控制单元26被配置为确定要由至少一个射频发射天线36发射的射频功率的预期比吸收率。
在下文中，然后，将确定的预期的比吸收率与例如由IEC限制给定的最大可忍受比吸收率进行比较。控制单元26被配置为取决于确定的预期的比吸收率来调节要被馈送到射频发射天线36的射频功率的至少一个射频功率相关的参数。如果所确定的预期的比吸收率落在最大可忍受比吸收率之下，则控制单元26被配置为允许规划的扫描进行。如果所确定的预期的比吸收率等于或者超过最大可容忍比吸收率，则控制单元26被配置为降低射频功率幅度，以遵从安全规定。
对预期的比吸收率的确定能够通过采用依据图4和5的接近检测单元的实施例来改善。在以下中，公开了根据本发明的接近检测单元的实施例。个体实施例参考特定附图来描述，并且由特定实施例的前缀数来识别。功能在实施例中相同或者基本相同的特征通过由与其有关的实施例的前缀数跟随有特征的号数制成的参考数字来识别。如果实施例的特征在对应附图描绘中未描述，或者附图描绘中的提及的参考数未被示出在附图本身中，则应当参考对前述实施例的描述。
图4示出了依据图1的磁共振成像系统210的扫描单元212的部分前视图。相对于由图2图示的实施例，接近检测单元246包括被设计为超声接近传感器的多个的四个接近检测器D1、D2、D8、D9。再次，接近检测器D1、D2、D8、D9被布置在扫描单元212的进入区域232中。四个接近检测器D1、D2、D8、D9中的每个接近检测器瞄准径向方向，即垂直于并且朝向中心轴218。类似于依据图2的实施例，四个接近检测器D1、D2、D8、D9将在由感兴趣对象220通过进入区域232以定位在检查区域216内期间确定感兴趣对象220的接近性，但是由于较大数量的接近检测器D1、D2、D8、D9，因此用于确定感兴趣对象220的位置参数di和横向维度wi的统计误差wi被降低。
图5示出了依据图1的磁共振成像系统310的扫描单元312的部分前面视图。相对于由图2图示的实施例，接近检测单元346包括被设计为超声接近传感器的多个九个接近检测器D1、……、D9。再次，接近检测器D1、……、D9被布置在扫描单元312的进入区域332中。九个接近检测器D1、……、D9中的每个瞄准径向方向，即垂直于并且朝向中心轴318。类似于依据图2的实施例，九个接近检测器D1、……、D9将在由感兴趣对象320通过进入区域332以定位在检查区域316内期间确定感兴趣对象320的接近性。
在该操作状态下，接近检测器的多个对明显被布置为从形成至少45°的角的两个相交方向朝向感兴趣对象320瞄准，例如接近检测器D1和D4以及D6和D9。
除了拥有确定用于确定感兴趣对象320的位置参数di和横向维度wi的降低的统计误差，多个九个接近检测器D1、……、D9的径向布置使得能够确定独立于较早描述的横向维度w的第二方向中的横向维度w’，并且通过这样，提供对感兴趣对象320的截面的估计，其继而允许通过感兴趣对象320的射频功率的预期的比吸收率的改进的确定。
在未被图示的又一实施例中，接近检测单元包括被设计为相机的至少一个接近检测器，其用于单幅图像或者图像的序列。至少一个相机被定位并且配置为当跨检查空间的进入区域时确定感兴趣对象的顶部视图，和/或确定被定位在检查空间内的感兴趣对象的前面视图。
然后，分别将感兴趣对象的顶部视图和/或前面视图与没有感兴趣对象的患者台的顶部视图，和/或没有感兴趣对象被定位在检查空间内的主磁体膛的前面视图进行比较。能够通过采用图像识别软件来确定感兴趣对象的位置参数和横向尺寸，所述图像识别软件驻留在控制单元内并且可由控制单元的处理器单元执行。
尽管已经在附图和前面的描述中详细图示和描述了本发明，但是这样的图示和描述应当被认为是说明性或示范性的，而非限制性的；本发明不限于所公开的实施例。本领域技术人员通过研究附图、公开内容以及权利要求书，在实践请求保护的本发明时能够理解并且实现对所公开的实施例的其他变型。在权利要求书中，词语“包括”不排除其他元件或步骤，并且词语“一”或“一个”不排除多个。尽管在互不相同的从属权利要求中记载了特定措施，但是这并不指示不能有利地使用这些措施的组合。权利要求中的任何附图标记都不应被解释为对范围的限制。

Claims (10)

1.一种关于调节要被施加到要被成像的感兴趣对象(20)射频激励场B1来操作磁共振成像系统(10)的方法，所述磁共振成像系统(10)被配置用于采集所述感兴趣对象(20)的至少部分的磁共振图像，所述方法包括以下步骤：
-确定至少一个位置参数(d)，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象(20)的至少所述部分相对于所述磁共振成像系统(10)的至少一个射频发射天线(36)的位置；并且
-取决于出自所述感兴趣对象(20)的所确定的至少一个位置参数(d)和确定的几何尺寸(w)中的至少一个，调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的射频功率的至少一个射频功率相关的参数。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，确定所述至少一个位置参数(d)的步骤是通过采用具有至少一个接近检测器(D)的接近检测单元(46)来执行的。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述接近检测单元(46)包括至少两个接近检测器(D1、D9)，所述至少两个接近检测器被布置为朝向所述感兴趣对象(20)的相对的各一半瞄准，所述方法还包括以下步骤：
-确定所述感兴趣对象(20)的至少一个横向尺寸(w)；并且其中，以下步骤：
-调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的所述射频功率的所述至少一个射频功率相关的参数，还取决于所述感兴趣对象(20)的所确定的至少一个位置参数(d)和所述至少一个横向尺寸(w)两者来执行。
4.根据权利要求3所述的方法，包括以下步骤：
-针对所述感兴趣对象(20)的至少所述部分的多个位置(zi)，执行以下步骤：
-确定至少一个位置参数(di)，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象(20)的至少所述部分相对于所述磁共振成像系统(10)的所述至少一个射频发射天线(36)的位置；并且
-经由所述两个接近检测器(D1、D9)来确定所述感兴趣对象(20)的至少一个横向尺寸(wi)；
-获得用于根据在所述多个位置(zi)处确定的所述位置参数(di)和所述横向尺寸(wi)来生成所述感兴趣对象(20)相对于所述磁共振成像系统(10)的所述至少一个射频发射天线(36)的几何轮廓的数据。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，还包括以下步骤：
-通过利用所述感兴趣对象(20)的确定的位置参数(di)和横向尺寸(wi)来确定要由所述至少一个射频发射天线(36)发射的射频功率的预期的比吸收率，其中，所述确定是基于针对由具有指定横向尺寸的所述感兴趣对象(20)在以指定相对位置参数被暴露于所发射的射频功率时吸收的所述比吸收率的预定关系的；并且其中，
调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的射频功率的所述至少一个射频功率相关的参数的步骤是取决于所确定的预期的比吸收率来执行的。
6.根据权利要求1所述的方法，其中，调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的射频功率的所述至少一个射频功率相关的参数的步骤包括调节出自射频脉冲序列的占空比和射频功率幅度中的至少一项。
7.一种被配置为采集感兴趣对象(20)的至少部分的磁共振图像的磁共振成像系统(10)，包括：
-扫描单元(12)，其提供检查空间(16)以将所述感兴趣对象(20)的至少所述部分定位在其内，所述检查空间(16)具有供所述感兴趣对象(20)进入所述检查空间(16)的进入区域(32)，所述扫描单元(12)还具有被配置用于生成所述检查空间(16)中的静态磁场B0的主磁体(14)；
-磁梯度线圈系统(22)，其被配置用于生成被叠加到所述静态磁场B0的梯度磁场；
-至少一个射频发射天线(36)，其被配置用于将射频激励场B1施加到所述感兴趣对象(20)的所述部分的原子核或所述感兴趣对象(20)的所述部分内的原子核，以用于磁共振激励；
-至少一个射频接收天线(36)，其被配置用于从已经通过施加所述射频激励场B1激励的所述感兴趣对象(20)的所述部分的所述原子核或所述感兴趣对象(20)的所述部分内的所述原子核接收磁共振信号；
-控制单元(26)，其被配置用于控制所述磁共振成像系统(10)的功能；以及
-接近检测单元(46)，包括至少一个接近检测器(D)，所述至少一个接近检测器被配置为确定至少一个位置参数(d)，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象(20)的至少所述部分相对于所述至少一个射频发射天线(36)的位置；
其中，所述控制单元(26)被配置为执行根据权利要求1至6中的任一项所述的方法中的任一项的步骤。
8.根据权利要求7所述的磁共振成像系统(10)，其中，所述接近检测单元(46)包括至少一对接近检测器(Di)，所述至少一对接近检测器在至少一个操作状态中被布置为从形成至少45°的角的两个相交方向朝向所述感兴趣对象(20)瞄准。
9.根据权利要求7或8所述的磁共振成像系统(10)，其中，所述至少一个接近检测器(D)或者所述一对接近检测器(Di)被布置在所述扫描单元(12)的所述进入区域(32)中。
10.根据权利要求7所述的磁共振成像系统(10)，其中，所述至少一个接近检测器(D)被设计为相机。
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