CN106325004A - Ldi曝光机能量均匀性检测方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种LDI曝光机能量均匀性检测方法，包括以下步骤：准备测试板和干膜，并在所述测试板上设置定位孔；制作曝光图形文件，所述曝光图形文件内设定有与曝光机内所需检测的能量区一一对应的图形区，每个所述图形区均设定有宽度信息值；将所述干膜贴设于所述测试板上；将贴设干膜的所述测试板材放入曝光机中，曝光机抓取定位孔，根据所述曝光图形文件对所述测试板进行曝光处理；将经过曝光处理的测试板进行显影处理；测定测试板上干膜各显影区宽度；比较每个所述显影区和与之对应的所述图形区的宽度大小。本发明通过测定测试板上各显影区的宽度，并与图形区宽度进行比对，从而来判断曝光机的能量均匀性，本发明操作简便，检测精度高。

Description

LDI曝光机能量均匀性检测方法
技术领域
本发明涉及LDI曝光机性能检测技术领域，尤其是涉及一种LDI曝光机能量均匀性检测方法。
背景技术
LDI(laser direct imaging，激光直接成像技术)曝光机主要用于PCB(PrintedCircuit Board，印制电路板)生产中的曝光工序，其是通过激光扫描的方法直接将图像在PCB上成像，图像更精细。然而，目前的LDI曝光头及曝光头连接处均存在能量差异，若差异过大，则曝光形成的线路大小差异较大，将影响线路的精密性，从而无法通过蚀刻得到精密线路。传统的曝光能量检测方法主要是通过曝光尺来监测曝光能量均匀性，这种监控方法的测量误差较大，不能用于监控制作精细线路的LDI曝光机。
发明内容
基于此，本发明在于克服现有技术的缺陷，提供一种LDI曝光机能量均匀性检测方法，其操作简便，检测精度高。
其技术方案如下：
一种LDI曝光机能量均匀性检测方法，包括以下步骤：
准备测试板和干膜，并在所述测试板上设置定位孔；
制作曝光图形文件，所述曝光图形文件内设定有与曝光机内所需检测的能量区一一对应的图形区，每个所述图形区均设定有宽度信息值；
将所述干膜贴设于所述测试板上；
将贴设干膜的所述测试板材放入曝光机中，曝光机抓取定位孔，根据所述曝光图形文件对所述测试板进行曝光处理；
将经过曝光处理的测试板进行显影处理；
测定测试板上干膜各显影区宽度；
比较每个所述显影区和与之对应的所述图形区的宽度大小。
在其中一个实施例中，在所述曝光图形文件中，所述图形区包括与每个曝光头内多个能量分区一一对应的第一图形区和与相邻两个曝光头之间的能量重叠区一一对应的第二图形区。
在其中一个实施例中，在所述曝光图形文件中，所述图形区为多个，多个所述图形区的宽度相等。
在其中一个实施例中，多个所述图形区均匀并排布置。
在其中一个实施例中，所述图形区的宽度和相邻两个所述图形区之间的间距均为10～200μm。
在其中一个实施例中，所述图形区呈直条状。
在其中一个实施例中，每个所述图形区的所述宽度信息值和所对应的所述能量区的覆盖宽度相等。
在其中一个实施例中，在比较每个所述显影区和与之对应的所述图形区的宽度大小的步骤之后还包括步骤：
判断显影区和与之对应的图形区的宽度差值是否超过预设值，若超过所述预设值，则调整曝光机对应能量区的能量值，并重复以下步骤：
将干膜贴设于所述测试板上；
将贴设干膜的所述测试板材放入曝光机中，曝光机抓取定位孔，根据所述曝光图形文件对所述测试板进行曝光处理；
将经过曝光处理的测试板进行显影处理；
测定测试板上干膜各显影区宽度；
比较每个所述显影区和与之对应的所述图形区的宽度大小，并判断两者宽度差值是否超过所述预设值，直至两者宽度差值小于或等于所述预设值；
若不超过预设值，则测试板去膜，以待下次检测用。
在其中一个实施例中，所述预设值为±2μm。
在其中一个实施例中，在将干膜贴设于所述测试板上的步骤之前还包括步骤：对所述测试板进行前处理，所述前处理包括化学微蚀、物理磨板和喷砂处理。
下面对前述技术方案的优点或原理进行说明：
本发明提供了一种LDI曝光机能量均匀性检测方法，通过设计特定的曝光图形文件，使得曝光图形文件内各图形区与曝光机内所需检测的能量区一一对应，之后再进行测试板曝光和显影处理，使得测试板上显影出与曝光图形文件内图形区一一对应的干膜显影区。通过测试各显影区的宽度，并与图形区宽度进行比对，从而确定曝光机相应能量区的能量是否符合标准，进而来判断曝光机的能量均匀性，依此切实发现曝光机内能量差异，用以及时调整曝光机相应位置的能量值，避免发生生产板报废现象。本发明设计合理，操作简便，避免了采用传统的曝光尺，其检测精度高，可在LDI曝光技术推广使用。
所述图形区不仅与各曝光头内各能量分区一一对应的第一图形区，还包括与相邻两个曝光头之间的能量重叠区一一对应的第二图形区，从而使得本发明不仅可对各曝光头内进行能量均匀性检测，还可对曝光头的能量重叠区进行检测，从而实现对整个曝光机内的能量均匀性检测。
各图形区的宽度相等，用以实现测试板上不同干膜显影区之间的宽度比对，从而间接对曝光机的多个能量区进行比较，进而判断曝光机整个曝光覆盖区内的能量均匀性。
所述图形区呈直条状，使得干膜显影区也呈直条状，便于干膜显影区的宽度测量，提高测量精度。
附图说明
图1为本发明实施例经过曝光显影处理后的测试板的结构示意图；
图2为本发明实施例所述的LDI曝光机的工作示意图；
图3为本发明实施例所述的LDI曝光机能量均匀性检测方法的流程图。
附图标记说明：
100、测试板，110、显影区，120、定位孔，200、曝光头。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施方式，对本发明进行进一步的详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用以解释本发明，并不限定本发明的保护范围。
如图1至图3所示，本发明所述的LDI曝光机能量均匀性检测方法，包括以下步骤：
S1、准备测试板100和干膜，并在测试板100上钻设定位孔120，所述定位孔120为至少两个，所述定位孔120设于所述测试板100的顶角；
S2、制作曝光图形文件，所述曝光图形文件设定有与曝光机内所需检测的能量区一一对应的图形区，每个图形区均设定有其宽度信息值，所述宽度信息值与所对应的能量区的覆盖宽度相等，例如，假设已知曝光机内单个能量区的覆盖宽度为20mm，则设计相应的图形区的宽度信息值为20mm；
S3、将干膜贴设于所述测试板100上；
S4、将贴设干膜的所述测试板100材放入到曝光机中，曝光机抓取定位孔120实现测试板100的定位，根据所述曝光图形文件对所述测试板100进行曝光处理；
S5、将经过所述曝光处理的测试板100进行显影处理；
S6、通过3Dprofile测定经过显影处理后的测试板100上干膜各显影区110宽度；
S7、比较各显影区110和与之对应的图形区的宽度大小，用以确定曝光机的能量均匀性；
S8、判断显影区110和与之对应的图形区的宽度差值是否超过预设值，若超过预设值，则执行步骤S9；若不超过预设值，则执行步骤S10；
S9、调整曝光机对应能量区的能量值，并重复步骤S3至S8，直至两者宽度差值小于或等于预设值；
S10、测试板100去膜，以待下次检测用，用以实现测试板100的重复利用，避免浪费，减少测试侧板。
本领域技术人员应当注意，上述的步骤S1、S2和S3之间的执行顺序并不唯一，可根据实际情况先后执行。
本发明通过设计特定的曝光图形文件，使得曝光图形文件内各图形区与曝光机内所需检测的能量区一一对应，之后再进行测试板100曝光和显影处理，使得测试板100上显影出与曝光图形文件内图形区一一对应的干膜显影区110。通过测试各显影区110宽度，并将显影区110宽度与图形区宽度进行比对，从而间接确定曝光机该位置能量区的能量是否符合标准，进而来判断曝光机的能量均匀性，依此切实发现曝光机内能量差异，用以及时调整曝光机相应位置的能量值，避免发生生产板报废现象。本发明设计合理，操作简便，避免了采用传统的曝光尺，其检测精度高，可在LDI曝光技术推广使用。
所述曝光机内设有多个曝光头200，每个曝光头200还设有多个能量分区，相邻两个所述曝光头200之间还设有能量重叠区。上述所需检测的能量区则包括每个曝光头200内的能量分区以及相邻两个曝光头200之间的能量重叠区。在所述曝光图形文件中，所述图形区则包括与每个曝光头200内多个能量分区一一对应的第一图形区和与相邻两个曝光头200之间的能量重叠区一一对应的第二图形区，从而使得本发明不仅可对各曝光头200内进行能量均匀性检测，还可对曝光头200的能量重叠区进行检测，从而实现对整个曝光机内的能量均匀性检测。
在所述曝光图形文件中，所述图形区(包括第一图形区和第二图形区)均为多个，多个所述图形区的宽度相等，用以实现测试板100上干膜不同显影区110之间的宽度比对，从而间接对曝光机的多个能量区进行比较，进而判断曝光机整个曝光覆盖区内的能量均匀性。同时，多个所述图形区均匀并排布置，便于显影之后的多个显影区110之间比对。
在本实施例中，所述图形区呈直条状，使得曝光显影后的显影区110也呈直条状，便于显影区110的宽度测量，提高测量精度。所述图形区的宽度(Line)和相邻两个所述图形区之间的间距(space)即L/S均可在10～200μm区间内取值。所述的预设值，即可接受的差异值为±2μm，例如，设定曝光文件中每个图形区的宽度为20μm，当所测测试板100上对应的显影区110宽度为18μm、19μm、20μm、21μm、22μm时，则判定曝光机该能量区处于标准区间内，即显影区110在曝光后的线路差异应控制在4μm以内；当所测测试板100上的显影区110宽度大于22μm或小于18μm时，则需要调整该线路所对应的曝光机的能量分区的能量值。本发明上述设定用以保证LDI曝光机具有较高的能量均匀性。
此外，在本实施例中，在所述步骤S3之前还包括步骤：对测试板100进行前处理，所述前处理包括化学微蚀、物理磨板和喷砂处理等，用以去除铜表面的氧化物和油污等,同时粗化铜面用以增大干膜在铜面上的附着力。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种LD I曝光机能量均匀性检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
准备测试板和干膜，并在所述测试板上设置定位孔；
制作曝光图形文件，所述曝光图形文件内设定有与曝光机内所需检测的能量区一一对应的图形区，每个所述图形区均设定有宽度信息值；
将所述干膜贴设于所述测试板上；
将贴设干膜的所述测试板材放入曝光机中，曝光机抓取定位孔，根据所述曝光图形文件对所述测试板进行曝光处理；
将经过曝光处理的测试板进行显影处理；
测定测试板上干膜各显影区宽度；
比较每个所述显影区和与之对应的所述图形区的宽度大小。
2.根据权利要求1所述的LD I曝光机能量均匀性检测方法，其特征在于，在所述曝光图形文件中，所述图形区包括与每个曝光头内多个能量分区一一对应的第一图形区和与相邻两个曝光头之间的能量重叠区一一对应的第二图形区。
3.根据权利要求1或2所述的LD I曝光机能量均匀性检测方法，其特征在于，在所述曝光图形文件中，所述图形区为多个，多个所述图形区的宽度相等。
4.根据权利要求3所述的LD I曝光机能量均匀性检测方法，其特征在于，多个所述图形区均匀并排布置。
5.根据权利要求4所述的LD I曝光机能量均匀性检测方法，其特征在于，所述图形区的宽度和相邻两个所述图形区之间的间距均为10～200μm。
6.根据权利要求1或2所述的LD I曝光机能量均匀性检测方法，其特征在于，所述图形区呈直条状。
7.根据权利要求1或2所述的LD I曝光机能量均匀性检测方法，其特征在于，每个所述图形区的所述宽度信息值和所对应的所述能量区的覆盖宽度相等。
8.根据权利要求1或2所述的LD I曝光机能量均匀性检测方法，其特征在于，在比较每个所述显影区和与之对应的所述图形区的宽度大小的步骤之后还包括步骤：
判断显影区和与之对应的图形区的宽度差值是否超过预设值，若超过所述预设值，则调整曝光机对应能量区的能量值，并重复以下步骤：
将干膜贴设于所述测试板上；
将贴设干膜的所述测试板材放入曝光机中，曝光机抓取定位孔，根据所述曝光图形文件对所述测试板进行曝光处理；
将经过曝光处理的测试板进行显影处理；
测定测试板上干膜各显影区宽度；
比较每个所述显影区和与之对应的所述图形区的宽度大小，并判断两者宽度差值是否超过所述预设值，直至两者宽度差值小于或等于所述预设值；
若不超过预设值，则测试板去膜，以待下次检测用。
9.根据权利要求8所述的LD I曝光机能量均匀性检测方法，其特征在于，所述预设值为±2μm。
10.根据权利要求1或2所述的LD I曝光机能量均匀性检测方法，其特征在于，在将干膜贴设于所述测试板上的步骤之前还包括步骤：对所述测试板进行前处理，所述前处理包括化学微蚀、物理磨板和喷砂处理。
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