CN106293298B - 触控显示基板及其制备方法、触控显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种触控显示基板，包括形成在衬底基板上的多个触控电极和多条触控信号线，每一触控电极与触控信号线的至少一条电连接，触控信号线包括异层设置的第一部分和第二部分，第一部分与第二部分通过过孔电连接，第一部分与触控显示基板的第一层金属图形为同层同材料设置，第二部分与触控显示基板的第二层金属图形为同层同材料设置，第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与第二层金属图形在衬底基板上的正投影重合，或第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与第一层金属图形在衬底基板上的正投影重合。本发明的技术方案能够在不增加构图工艺的前提下形成触控信号线，并且能够降低对触控显示装置开口率的影响。

Description

触控显示基板及其制备方法、触控显示装置

技术领域

本发明涉及触控显示技术领域，特别是指一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置。

背景技术

触控屏(Touch Panel)是通过计算屏内的触点坐标进行的定位的设备，触控屏检测用户的触控位置，然后将检测的信息发送给控制器，并将其转换成坐标，输送给中央处理器，同时接受中央处理器返回的信号并加以执行，实现人机互动。

目前市场上使用的大多数都是电容式的触控屏，尤其是以苹果手机为代表的新一代触控设备，使电容式的触控屏得到巨大的发展，电容式的触控屏主要应用在智能手机、平板电脑、笔记本电脑等产品中。电容式触控屏主要包括互电容式和自容式两种，其中，自容式检测比互电容式检测更为灵敏。

现有的自容式触控屏中，显示用公共电极被分割为两个或更多个触控电极，每个触控电极与触控信号线的至少一条电连接，从而实现自容式触控感测。现有一些技术中，触控信号线与数据线或者栅线同层设置，通过一次构图工艺同时形成，由于触控信号线需要占用一定的空间，因此在触控信号线与数据线或者栅线同层设置时，势必会减少像素区域的面积，进而降低触控显示装置的开口率；为了不影响触控显示装置的开口率，一些技术采用单独的构图工艺来形成触控信号线，触控信号线与数据线和栅线位于不同层，这样将不会影响触控显示装置的开口率，但是由于需要额外增加一次构图工艺来单独形成触控信号线，因此会增加触控显示装置的生产成本。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置，能够在不增加构图工艺的前提下形成触控信号线，并且能够降低对触控显示装置开口率的影响。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种触控显示基板，包括形成在衬底基板上的多个触控电极，所述触控电极用于分时地加载公共电极信号和触控扫描信号，所述触控显示基板还包括多条触控信号线，每一所述触控电极与触控信号线的至少一条电连接，所述触控信号线包括异层设置的第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分通过过孔电连接，所述第一部分与所述触控显示基板的第一层金属图形为同层同材料设置，所述第二部分与触控显示基板的第二层金属图形为同层同材料设置，所述第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述第二层金属图形在衬底基板上的正投影重合，或所述第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述第一层金属图形在衬底基板上的正投影重合。

进一步地，所述第一部分为采用栅金属层制成，所述第二部分为采用源漏金属层制成。

进一步地，所述第一部分包括多个相互独立的第一导电走线，每个所述第一导电走线位于触控显示基板的相邻栅线之间，所述第一导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与触控显示基板的数据线在衬底基板上的正投影重合；

所述第二部分包括多个相互独立的第二导电走线，在所述数据线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

进一步地，所述第一部分包括多个相互独立的第一导电走线；

所述第二部分包括多个相互独立的第二导电走线，每个所述第二导电走线位于触控显示基板的相邻数据线之间，在触控显示基板的栅线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，所述第二导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述栅线在衬底基板上的正投影重合，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

进一步地，所述触控显示基板还包括：

位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔，所述第二导电走线通过所述第一过孔与相邻的两个第一导线走线连接。

进一步地，所述触控信号线还包括：

与所述第一部分和所述第二部分异层设置的第三部分，所述第三部分在衬底基板上的正投影至少覆盖所述交叉点。

进一步地，所述第三部分与触控显示基板的像素电极同层同材料设置。

进一步地，所述触控显示基板还包括：

位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔；

位于所述第二部分和所述第三部分之间的第二绝缘层，所述第二绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第二过孔，所述第二过孔与所述第一过孔组成过孔结构；

所述第三部分通过所述过孔结构与所述第一部分和所述第二部分分别连接。

本发明实施例还提供了一种触控显示装置，包括如上所述的触控显示基板。

本发明实施例还提供了一种触控显示基板的制备方法，包括在衬底基板上形成多个触控电极，所述触控电极用于分时地加载公共电极信号和触控扫描信号，所述制备方法还包括形成多条触控信号线，所述触控电极与触控信号线的至少一条电连接，所述触控信号线包括异层设置的第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分通过过孔电连接，所述制备方法包括：

通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的第一层金属图形和所述第一部分；

通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的第二层金属图形和所述第二部分；

所述第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述第二层金属图形在衬底基板上的正投影重合，或所述第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述第一层金属图形在衬底基板上的正投影重合。

进一步地，所述通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的第一层金属图形和所述第一部分包括：

通过一次构图工艺形成栅金属层的图形和所述第一部分；

所述通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的第二层金属图形和所述第二部分包括：

通过一次构图工艺形成源漏金属层的图形和所述第二部分。

进一步地，形成所述第一部分包括：

形成多个相互独立的第一导电走线，每个所述第一导电走线位于触控显示基板的相邻栅线之间，所述第一导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与触控显示基板的数据线在衬底基板上的正投影重合；

形成所述第二部分包括：

形成多个相互独立的第二导电走线，在所述数据线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

进一步地，形成所述第一部分包括：

形成多个相互独立的第一导电走线；

形成所述第二部分包括：

形成多个相互独立的第二导电走线，每个所述第二导电走线位于触控显示基板的相邻数据线之间，在触控显示基板的栅线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，所述第二导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述栅线在衬底基板上的正投影重合，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

进一步地，所述制备方法还包括：

形成位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔，所述第二导电走线通过所述第一过孔与相邻的两个第一导线走线连接。

进一步地，形成所述触控信号线还包括：

形成与所述第一部分和所述第二部分异层设置的第三部分，所述第三部分在衬底基板上的正投影至少覆盖所述交叉点。

进一步地，形成所述第三部分包括：

通过一次构图工艺形成所述第三部分和触控显示基板的像素电极。

进一步地，所述制备方法还包括：

形成位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔；

形成位于所述第二部分和所述第三部分之间的第二绝缘层，所述第二绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第二过孔，所述第二过孔与所述第一过孔组成过孔结构；

所述第三部分通过所述过孔结构与所述第一部分和所述第二部分分别连接。

本发明的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，触控信号线由异层设置的第一部分和第二部分组成，第一部分与第二部分通过过孔电连接，第一部分与触控显示基板的第一层金属图形为同层同材料设置，第一部分与触控显示基板的第一层金属图形可以通过同一次构图工艺形成，第二部分与触控显示基板的第二层金属图形为同层同材料设置，第二部分与触控显示基板的第二层金属图形可以通过同一次构图工艺形成，这样能够在不增加构图工艺的前提下形成触控信号线的第一部分和第二部分，进而形成触控信号线；另外，第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与第二层金属图形在衬底基板上的正投影重合，或第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与第一层金属图形在衬底基板上的正投影重合，这样能够减少第一部分或第二部分对像素区域面积的影响，尽可能保证触控显示装置的开口率。

附图说明

图1-图3为现有触控显示装置中触控信号线与栅线同层设置的示意图；

图4-图6为现有触控显示装置中触控信号线与数据线同层设置的示意图；

图7-图8为现有触控显示装置中采用单独的构图工艺形成触控信号线的示意图；

图9为本发明实施例形成触控信号线的第一部分的示意图；

图10为本发明实施例形成触控信号线的第二部分的示意图；

图11为本发明实施例触控信号线的第一部分和第二部分叠加的示意图；

图12为本发明实施例形成触控信号线的第三部分的示意图；

图13为本发明实施例触控信号线的第一部分、第二部分和第三部分叠加的示意图。

附图标记

1触控信号线的第一部分 2触控信号线的第二部分

3触控信号线的第三部分

具体实施方式

为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

本发明的实施例提供一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置，能够在不增加构图工艺的前提下形成触控信号线，并且能够降低对触控显示装置开口率的影响。

实施例一

本实施例提供一种触控显示基板，包括形成在衬底基板上的多个触控电极，所述触控电极用于分时地加载公共电极信号和触控扫描信号，所述触控显示基板还包括多条触控信号线，每一所述触控电极与触控信号线的至少一条电连接，所述触控信号线包括异层设置的第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分通过过孔电连接，所述第一部分与所述触控显示基板的第一层金属图形为同层同材料设置，所述第二部分与触控显示基板的第二层金属图形为同层同材料设置，所述第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述第二层金属图形在衬底基板上的正投影重合，或所述第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述第一层金属图形在衬底基板上的正投影重合。

本实施例中，触控信号线由异层设置的第一部分和第二部分组成，第一部分与第二部分通过过孔电连接，第一部分与触控显示基板的第一层金属图形为同层同材料设置，第一部分与触控显示基板的第一层金属图形可以通过同一次构图工艺形成，第二部分与触控显示基板的第二层金属图形为同层同材料设置，第二部分与触控显示基板的第二层金属图形可以通过同一次构图工艺形成，这样能够在不增加构图工艺的前提下形成触控信号线的第一部分和第二部分，进而形成触控信号线；另外，第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与第二层金属图形在衬底基板上的正投影重合，或第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与第一层金属图形在衬底基板上的正投影重合，这样能够减少第一部分或第二部分对像素区域面积的影响，尽可能保证触控显示装置的开口率。

进一步地，所述第一部分为采用栅金属层制成，所述第二部分为采用源漏金属层制成。

具体实施例中，触控信号线的延伸方向与数据线的延伸方向大体相同。所述第一部分包括多个相互独立的第一导电走线，每个所述第一导电走线位于触控显示基板的相邻栅线之间，所述第一导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与触控显示基板的数据线在衬底基板上的正投影重合；

所述第二部分包括多个相互独立的第二导电走线，在所述数据线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

另一具体实施例中，触控信号线的延伸方向与栅线的延伸方向大体相同。所述第一部分包括多个相互独立的第一导电走线；

所述第二部分包括多个相互独立的第二导电走线，每个所述第二导电走线位于触控显示基板的相邻数据线之间，在触控显示基板的栅线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，所述第二导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述栅线在衬底基板上的正投影重合，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

进一步地，所述触控显示基板还包括：

位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔，所述第二导电走线通过所述第一过孔与相邻的两个第一导线走线连接。

进一步地，所述触控信号线还包括：

与所述第一部分和所述第二部分异层设置的第三部分，所述第三部分在衬底基板上的正投影至少覆盖所述交叉点，第一部分和第二部分通过第三部分连接起来，组成触控信号线。

进一步地，所述第三部分与触控显示基板的像素电极同层同材料设置，这样可以在不增加构图工艺的前提下，通过一次构图工艺同时形成触控显示基板的像素电极和第三部分。

进一步地，所述触控显示基板还包括：

位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔；

位于所述第二部分和所述第三部分之间的第二绝缘层，所述第二绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第二过孔，所述第二过孔与所述第一过孔组成过孔结构；

所述第三部分通过所述过孔结构与所述第一部分和所述第二部分分别连接。

实施例二

本实施例提供了一种触控显示装置，包括如上所述的触控显示基板。触控显示装置可以应用在人机交互设备中，如触摸屏移动终端、广告机、自动售票机等。

实施例三

本实施例提供了一种触控显示基板的制备方法，包括在衬底基板上形成多个触控电极，所述触控电极用于分时地加载公共电极信号和触控扫描信号，所述制备方法还包括形成多条触控信号线，所述触控电极与触控信号线的至少一条电连接，所述触控信号线包括异层设置的第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分通过过孔电连接，所述制备方法包括：

通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的第一层金属图形和所述第一部分；

通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的第二层金属图形和所述第二部分；

所述第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述第二层金属图形在衬底基板上的正投影重合，或所述第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述第一层金属图形在衬底基板上的正投影重合。

本实施例中，触控信号线由异层设置的第一部分和第二部分组成，第一部分与第二部分通过过孔电连接，第一部分与触控显示基板的第一层金属图形为同层同材料设置，第一部分与触控显示基板的第一层金属图形可以通过同一次构图工艺形成，第二部分与触控显示基板的第二层金属图形为同层同材料设置，第二部分与触控显示基板的第二层金属图形可以通过同一次构图工艺形成，这样能够在不增加构图工艺的前提下形成触控信号线的第一部分和第二部分，进而形成触控信号线；另外，第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与第二层金属图形在衬底基板上的正投影重合，或第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与第一层金属图形在衬底基板上的正投影重合，这样能够减少第一部分或第二部分对像素区域面积的影响，尽可能保证触控显示装置的开口率。

进一步地，所述通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的第一层金属图形和所述第一部分包括：

通过一次构图工艺形成栅金属层的图形和所述第一部分；

所述通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的第二层金属图形和所述第二部分包括：

通过一次构图工艺形成源漏金属层的图形和所述第二部分。

进一步地，形成所述第一部分包括：

形成多个相互独立的第一导电走线，每个所述第一导电走线位于触控显示基板的相邻栅线之间，所述第一导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与触控显示基板的数据线在衬底基板上的正投影重合；

形成所述第二部分包括：

形成多个相互独立的第二导电走线，在所述数据线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

进一步地，形成所述第一部分包括：

形成多个相互独立的第一导电走线；

形成所述第二部分包括：

形成多个相互独立的第二导电走线，每个所述第二导电走线位于触控显示基板的相邻数据线之间，在触控显示基板的栅线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，所述第二导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述栅线在衬底基板上的正投影重合，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

进一步地，所述制备方法还包括：

形成位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔，所述第二导电走线通过所述第一过孔与相邻的两个第一导线走线连接。

进一步地，形成所述触控信号线还包括：

形成与所述第一部分和所述第二部分异层设置的第三部分，所述第三部分在衬底基板上的正投影至少覆盖所述交叉点。

进一步地，形成所述第三部分包括：

通过一次构图工艺形成所述第三部分和触控显示基板的像素电极。

进一步地，所述制备方法还包括：

形成位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔；

形成位于所述第二部分和所述第三部分之间的第二绝缘层，所述第二绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第二过孔，所述第二过孔与所述第一过孔组成过孔结构；

所述第三部分通过所述过孔结构与所述第一部分和所述第二部分分别连接。

实施例四

如图1-图8所示，现有的自容式触控屏中，显示用公共电极被分割为两个或更多个触控电极(C11、C12、C13、C21、C22、C23、C31、C32、C33)，每个触控电极与触控信号线的至少一条电连接，从而实现自容式触控感测。如图1-图3所示，现有一些自容式触控显示装置的触控信号线(TX11、TX12、TX13、TX21、TX22、TX23、TX31、TX32、TX33)与栅线同层设置，通过一次构图工艺同时形成，其中图3为图2中TFT区域和显示区域的截面示意图；如图4-图6所示，另外一些自容式触控显示装置的触控信号线(TY11、TY12、TY13、TY21、TY22、TY23、TY31、TY32、TY33)与数据线同层设置，通过一次构图工艺同时形成，其中图6为图5中TFT区域和显示区域的截面示意图。触控信号线与栅线或数据线同层制作，可以节省构图工艺的次数，但由于触控信号线需要占用一定的空间，因此在触控信号线与数据线或者栅线同层设置时，势必会减少像素区域的面积，进而降低触控显示装置的开口率。

为了不影响触控显示装置的开口率，现有一些自容式触控显示装置采用单独的构图工艺来形成触控信号线，如图7和图8所示，其中图8为图7中TFT区域和显示区域的截面示意图，触控信号线TY11和TY12位于数据线上方，通过单独的构图工艺制作形成，这样将不会影响触控显示装置的开口率，但是由于需要额外增加一次构图工艺来单独形成触控信号线，因此会增加触控显示装置的生产成本。

为了能够在不增加构图工艺的前提下形成触控信号线，并且降低对触控显示装置开口率的影响，本发明提出了一种触控显示基板。如图9-图13所示，将触控信号线分为第一部分1、第二部分2和第三部分3。其中，第一部分1与栅线同层制作，第二部分2与数据线同层制作，第三部分3与像素电极同层制作，通过第三部分3实现第一部分1和第二部分2的电连接，从而组成触控信号线。由于第一部分1、第二部分2、第三部分3均与触控显示基板的其他膜层同层制作，因此，能够在不增加构图工艺的前提下形成触控信号线的第一部分1、第二部分2和第三部分3，进而形成触控信号线。另外，第一部分1的至少一部分在衬底基板上的正投影与数据线在衬底基板上的正投影重合，或第二部分2的至少一部分在衬底基板上的正投影与栅线在衬底基板上的正投影重合，这样能够减少第一部分1或第二部分2对像素区域面积的影响，尽可能保证触控显示装置的开口率。

下面以C11、C21、C12、C22四个触控电极为例，结合附图对本实施例的触控显示基板的制备方法进行详细介绍，本实施例的触控显示基板的制备方法具体包括以下步骤：

步骤1、提供一衬底基板，在衬底基板上通过一次构图工艺形成第一部分1、栅线和薄膜晶体管的栅电极；

如图9所示，第一部分1包括多个相互独立的第一导电走线，每个第一导电走线位于触控显示基板的相邻栅线(G1-G9)之间，并且第一导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与触控显示基板的数据线(D1-D10)在衬底基板上的正投影重合；

步骤2、在经过步骤1的衬底基板上形成栅绝缘层；

步骤3、在经过步骤2的衬底基板上通过一次构图工艺形成有源层的图形；

步骤4、在经过步骤3的衬底基板上通过一次构图工艺形成第二部分2、数据线和薄膜晶体管的源电极、漏电极；

如图10和图11所示，第二部分2包括多个相互独立的第二导电走线，在数据线的延伸方向上，第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，且每个第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

步骤5、在经过步骤4的衬底基板上形成钝化层；

对栅绝缘层和钝化层进行刻蚀，形成贯穿栅绝缘层的对应上述交叉点设置的第一过孔和贯穿钝化层的对应上述交叉点设置的第二过孔，第二过孔与第一过孔组成过孔结构。

步骤6、在经过步骤5的衬底基板上通过一次构图工艺形成第三部分3和像素电极；

如图12和图13所示，第三部分在衬底基板上的正投影至少覆盖交叉点，这样部分第三部分落入过孔结构中，将第一部分和第二部分连接起来。

本实施例中，触控信号线由异层设置的第一部分和第二部分组成，第一部分与第二部分通过过孔电连接，第一部分与触控显示基板的第一层金属图形为同层同材料设置，第一部分与触控显示基板的第一层金属图形可以通过同一次构图工艺形成，第二部分与触控显示基板的第二层金属图形为同层同材料设置，第二部分与触控显示基板的第二层金属图形可以通过同一次构图工艺形成，这样能够在不增加构图工艺的前提下形成触控信号线的第一部分和第二部分，进而形成触控信号线；另外，第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与第二层金属图形在衬底基板上的正投影重合，或第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与第一层金属图形在衬底基板上的正投影重合，这样能够减少第一部分或第二部分对像素区域面积的影响，尽可能保证触控显示装置的开口率。

在本发明各方法实施例中，所述各步骤的序号并不能用于限定各步骤的先后顺序，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，对各步骤的先后变化也在本发明的保护范围之内。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (17)

1.一种触控显示基板，包括形成在衬底基板上的多个触控电极，所述触控电极用于分时地加载公共电极信号和触控扫描信号，所述触控显示基板还包括多条触控信号线，每一所述触控电极与触控信号线的至少一条电连接，其特征在于，所述触控信号线包括异层设置的第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分通过过孔电连接，所述第一部分与所述触控显示基板的栅金属层图形为同层同材料设置，所述第二部分与触控显示基板的源漏金属层图形为同层同材料设置，所述第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述源漏金属层图形在衬底基板上的正投影重合，或所述第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述栅金属层图形在衬底基板上的正投影重合。

2.根据权利要求1所述的触控显示基板，其特征在于，所述第一部分为采用栅金属层制成，所述第二部分为采用源漏金属层制成。

3.根据权利要求2所述的触控显示基板，其特征在于，所述第一部分包括多个相互独立的第一导电走线，每个所述第一导电走线位于触控显示基板的相邻栅线之间，所述第一导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与触控显示基板的数据线在衬底基板上的正投影重合；

所述第二部分包括多个相互独立的第二导电走线，在所述数据线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

4.根据权利要求2所述的触控显示基板，其特征在于，所述第一部分包括多个相互独立的第一导电走线；

所述第二部分包括多个相互独立的第二导电走线，每个所述第二导电走线位于触控显示基板的相邻数据线之间，在触控显示基板的栅线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，所述第二导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述栅线在衬底基板上的正投影重合，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

5.根据权利要求3或4所述的触控显示基板，其特征在于，所述触控显示基板还包括：

位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔，所述第二导电走线通过所述第一过孔与相邻的两个第一导线走线连接。

6.根据权利要求3或4所述的触控显示基板，其特征在于，所述触控信号线还包括：

与所述第一部分和所述第二部分异层设置的第三部分，所述第三部分在衬底基板上的正投影至少覆盖所述交叉点。

7.根据权利要求6所述的触控显示基板，其特征在于，所述第三部分与触控显示基板的像素电极同层同材料设置。

8.根据权利要求6所述的触控显示基板，其特征在于，所述触控显示基板还包括：

位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔；

位于所述第二部分和所述第三部分之间的第二绝缘层，所述第二绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第二过孔，所述第二过孔与所述第一过孔组成过孔结构；

所述第三部分通过所述过孔结构与所述第一部分和所述第二部分分别连接。

9.一种触控显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-8中任一项所述的触控显示基板。

10.一种触控显示基板的制备方法，包括在衬底基板上形成多个触控电极，所述触控电极用于分时地加载公共电极信号和触控扫描信号，所述制备方法还包括形成多条触控信号线，所述触控电极与触控信号线的至少一条电连接，其特征在于，所述触控信号线包括异层设置的第一部分和第二部分，所述第一部分与所述第二部分通过过孔电连接，所述制备方法包括：

通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的栅金属层图形和所述第一部分；

通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的源漏金属层图形和所述第二部分；

所述第一部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述源漏金属层图形在衬底基板上的正投影重合，或所述第二部分的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述栅金属层图形在衬底基板上的正投影重合。

11.根据权利要求10所述的触控显示基板的制备方法，其特征在于，所述通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的栅金属层图形和所述第一部分包括：

通过一次构图工艺形成栅金属层的图形和所述第一部分；

所述通过一次构图工艺形成所述触控显示基板的源漏金属层图形和所述第二部分包括：

通过一次构图工艺形成源漏金属层的图形和所述第二部分。

12.根据权利要求11所述的触控显示基板的制备方法，其特征在于，形成所述第一部分包括：

形成多个相互独立的第一导电走线，每个所述第一导电走线位于触控显示基板的相邻栅线之间，所述第一导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与触控显示基板的数据线在衬底基板上的正投影重合；

形成所述第二部分包括：

形成多个相互独立的第二导电走线，在所述数据线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

13.根据权利要求11所述的触控显示基板的制备方法，其特征在于，形成所述第一部分包括：

形成多个相互独立的第一导电走线；

形成所述第二部分包括：

形成多个相互独立的第二导电走线，每个所述第二导电走线位于触控显示基板的相邻数据线之间，在触控显示基板的栅线的延伸方向上，所述第二导电走线对应相邻的两个第一导电走线之间的间隙设置，所述第二导电走线的至少一部分在衬底基板上的正投影与所述栅线在衬底基板上的正投影重合，且每个所述第二导电走线在衬底基板上的正投影与对应第一导电走线在衬底基板上的正投影存在交叉点。

14.根据权利要求12或13所述的触控显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：

形成位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔，所述第二导电走线通过所述第一过孔与相邻的两个第一导线走线连接。

15.根据权利要求12或13所述的触控显示基板的制备方法，其特征在于，形成所述触控信号线还包括：

形成与所述第一部分和所述第二部分异层设置的第三部分，所述第三部分在衬底基板上的正投影至少覆盖所述交叉点。

16.根据权利要求15所述的触控显示基板的制备方法，其特征在于，形成所述第三部分包括：

通过一次构图工艺形成所述第三部分和触控显示基板的像素电极。

17.根据权利要求15所述的触控显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：

形成位于所述第一部分和所述第二部分之间的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第一过孔；

形成位于所述第二部分和所述第三部分之间的第二绝缘层，所述第二绝缘层包括有对应所述交叉点设置的第二过孔，所述第二过孔与所述第一过孔组成过孔结构；

所述第三部分通过所述过孔结构与所述第一部分和所述第二部分分别连接。