CN106220885B - 一种聚酰亚胺薄膜表面处理方法及处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及聚酰亚胺薄膜的表面改型领域，特别是一种聚酰亚胺薄膜表面处理方法及处理装置。所述处理方法包括以下步骤：1、使聚酰亚胺薄膜匀速通过高频电压形成的等离子电场，使其表面湿润张力大于X达因；对通过等离子电场后表面湿润张力大于X达因的聚酰亚胺薄膜进行热定型。所述处理装置处理装置，包括等离子电晕机、热定型烘道及辅助设备，所述等离子电晕机和所述热定型烘道相连。本发明的有益效果是：很好的解决了本领域中电场强度和聚酰亚胺薄膜平整形的矛盾关系，克服了聚酰亚胺薄膜不粘胶和剥离强度低问题，杜绝聚酰亚胺薄膜因变形而引出的报废问题，不仅提高生产效率，巩固安全强度，还有效的提升了产品利用率，大幅降低生产成本。

Description

一种聚酰亚胺薄膜表面处理方法及处理装置
技术领域
本发明涉及聚酰亚胺薄膜的表面改型领域，特别是一种聚酰亚胺薄膜表面处理方法及处理装置。
背景技术
现阶段聚酰亚胺薄膜主要用于绝缘领域中，其自身性能十分优秀，但是在应用于柔性线路或电池行业时必须经过涂胶、熟化作业。其剥离指标是柔性线路和电池行业产品控制的关键指标之一，当前聚酰亚胺薄膜粘胶能力差、剥离强度低是行业中普遍存在的难题之一，该问题严重影响产品的使用寿命，在产品安全方面存在较大隐患，提高聚酰亚胺薄膜表面处理的可靠性，是控制不粘胶和剥离强度低的关键环节，为了提高表面剥离指标，很多厂家采取提高电晕功率的办法，导致薄膜产品表面不平，引起聚酰亚胺薄膜变形报废；而为了维持聚酰亚胺薄膜表面平整性又不得不将电晕强度降低，又存在剥离强度低不粘胶等安全隐患。
发明内容
本发明为了解决上述技术问题所采取的技术方案是：
一种聚酰亚胺薄膜表面处理方法，其包括以下步骤：
（1）使聚酰亚胺薄膜匀速通过高频电压形成的等离子电场，使其表面湿润张力大于X达因；
（2）对通过等离子电场后表面湿润张力大于X达因的聚酰亚胺薄膜进行热定型。
在上述处理方法中，为了使聚酰亚胺薄膜表面出现电弧状变形，甚至出现液体外扩，作为一种优选技术方案，所述X等于70，即使聚酰亚胺薄膜表面湿润张力大于70达因。
在实际操作中，为了使聚酰亚胺薄膜达到上述要求并提高工作效率，所述等离子电场的功率优选调整为5KVA-12KVA。
作为一种优选技术方案，所述聚酰亚胺薄膜通过等离子电场的速度控制为3.8-12米/分钟。
为了保证所述聚酰亚胺薄膜在通过等离子电场时电晕效果达到最佳，且不会破损，调整其与电极的距离为1.5-4.5mm，优选为2mm。
使经过电晕工序后的聚酰亚胺薄膜平稳的经过热定型烘道，所述热定型温度为150-300℃，使其达到瞬间复原温度。
为了达到本发明的技术效果，最后在所述热定型中控制聚酰亚胺薄膜的热变形在0-1.2‰，热膨胀系数为15-35PPM。
作为利用上述处理方法实现本发明的一种聚酰亚胺薄膜表面处理装置，包括等离子电晕机、热定型烘道及辅助设备，所述等离子电晕机和所述热定型烘道相连。
所述辅助设备包括主动辊、从动辊、磁粉离合器，所述磁粉离合器设在等离子电晕机的进入端上方，所述等离子电晕机中设有电晕辊，所述主动辊设在热定型烘道的出口端，聚酰亚胺薄膜在所述主动辊的驱动及所述从动辊的支撑下匀速运动。
综上，本发明的有益效果是：
本发明很好的解决了本领域中电场强度和聚酰亚胺薄膜平整形的矛盾关系，有效的解决了聚酰亚胺薄膜不粘胶和剥离强度低问题，杜绝聚酰亚胺薄膜因变形而引出的报废问题，不仅提高生产效率，巩固安全强度，还有效的提升了产品利用率，大幅降低生产成本。
附图说明
图1为本发明处理装置的结构示意图；
其中：1-等离子电晕机、2-热定型烘道、3-主动辊、4-从动辊、5-磁粉离合器、6-电晕辊、7-聚酰亚胺薄膜。
具体实施方式
实施例1
将厚度为12.5微米的聚酰亚胺薄膜置于本处理装置上，使其平整匀速通过等离子电晕机，控制等离子电场功率为5KVA，调整电极与薄膜的距离为2毫米，开启等离子电晕机观察电极火花位均匀的蓝色火花，并伴有均匀放电声音。控制薄膜运行速度为3.8米/分钟。聚酰亚胺薄膜表面略显电弧状变形，测试湿润张力72达因以上，略有液体外扩，这时满足进入下一工序的条件。然后聚酰亚胺薄膜平整的穿过热定型烘道，调整热定型控制烘道温度为150℃，确保聚酰亚胺薄膜受热温度为150-160℃，控制聚酰亚胺薄膜热整形运行速度为3.8米/分钟。保持薄膜受力均匀且在0.1-5牛/平方米范围内，聚酰亚胺薄膜经过热定型烘道后表面平整，测试湿润张力大于72达因，测得热膨胀系数（CTE）为29PPM，热变形为0.04%。
图1中示出了本发明中聚酰亚胺薄膜表面处理方法中所使用的处理装置，其包括等离子电晕机1、热定型烘道2及辅助设备，所述等离子电晕机1和所述热定型烘道2相连。所述辅助设备包括主动辊3、从动辊4、磁粉离合器5，所述磁粉离合器5设在等离子电晕机1的进入端上方，用于对聚酰亚胺薄膜7均匀涂抹磁粉，以增加摩擦力，所述等离子电晕机1中设有电晕辊6，所述主动辊3设在热定型烘道2的出口端，聚酰亚胺薄膜7在所述主动辊3的驱动及所述从动辊4的支撑下匀速运动。
通过该组数据控制聚酰亚胺薄膜表面处理，得到平整湿润张力在70达因以上的聚酰亚胺薄膜，且处理后的薄膜表面平整，覆铜后测得剥离强度为2.1-2.7牛/厘米，且膜面均匀附着胶层，完全满足处理效果 。
实施例2
将处理方法中的等离子电场功率修改为8 KVA、并控制聚酰亚胺薄膜通过等离子电场的速度为8米/分钟，其他与实施例1保持一致。
实施例3
将处理方法中的等离子电场功率修改为12 KVA、并控制聚酰亚胺薄膜通过等离子电场的速度为12米/分钟，其他与实施例保持一致。
上述具体实施方式仅是本发明的具体个案，本发明的专利保护范围包括但不限于上述具体实施方式的产品形态和式样，任何符合本发明权利要求书且任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应落入本发明的专利保护范围。

Claims (3)

1.一种聚酰亚胺薄膜表面处理方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）使聚酰亚胺薄膜匀速通过高频电压形成的等离子电场，使其表面湿润张力大于X达因；
（2）对通过等离子电场后表面湿润张力大于X达因的聚酰亚胺薄膜进行热定型；
所述X等于70；所述等离子电场的功率为5KVA-12KVA；所述聚酰亚胺薄膜在通过等离子电场时与电极的距离为1.5-4.5mm；所述聚酰亚胺薄膜通过等离子电场的速度为3.8-12米/分钟；所述热定型温度为150-300℃。
2.根据权利要求1所述的一种聚酰亚胺薄膜表面处理方法，其特征在于，所述热定型中控制聚酰亚胺薄膜的热变形在0-1.2‰，热膨胀系数为15-35PPM。
3.一种聚酰亚胺薄膜表面处理装置，其特征在于，包括等离子电晕机、热定型烘道及辅助设备，所述等离子电晕机和所述热定型烘道相连，所述辅助设备包括主动辊、从动辊、磁粉离合器，所述磁粉离合器设在等离子电晕机的进入端上方，所述等离子电晕机中设有电晕辊，所述主动辊设在热定型烘道的出口端，聚酰亚胺薄膜在所述主动辊的驱动及所述从动辊的支撑下匀速运动。
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