CN106104367A - 光调制器 - Google Patents

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CN106104367A CN201580016106.3A CN201580016106A CN106104367A CN 106104367 A CN106104367 A CN 106104367A CN 201580016106 A CN201580016106 A CN 201580016106A CN 106104367 A CN106104367 A CN 106104367A
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宫崎德
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Abstract

本发明的目的在于提供一种光调制器,即使在构成光调制器的基板上配置受光元件,且同时接收并监测来自马赫‑曾德尔型光波导的合波部的两束放射光的情况下,也可抑制受光元件的频带的降低。本发明的光调制器具有:基板(1);光波导,包含形成于该基板的马赫‑曾德尔型光波导;及调制电极(未图示),用于调制在该光波导中传播的光波,所述光调制器的特征在于,受光元件(5)配置成横跨构成该马赫‑曾德尔型光波导的输出波导(24),并构成为接收从该马赫‑曾德尔型光波导的合波部射出的两束放射光,该受光元件中,在一个受光元件基板(55)分离形成有两个以上的受光部(51、52)。

Description

光调制器
技术领域
本发明涉及一种光调制器,尤其涉及一种在具有马赫-曾德尔型光波导的光调制器中,具有利用受光元件检测从马赫-曾德尔型光波导的合波部射出的放射光的结构的光调制器。
背景技术
在光通信领域或光测量领域中,使用具有马赫-曾德尔型光波导的强度调制器等各种光调制器。从马赫-曾德尔型光波导输出的光的强度变化对施加于调制电极的电压示出正弦函数的特性。为了根据光调制器的用途而获得最佳的输出光的强度,施加于调制电极的调制信号有必要设定在适当的动作偏置点。
因此,以往,将从光调制器输出的信号光的一部分或从马赫-曾德尔型光波导的合波部射出的放射光作为监测光,利用如光检测器等受光元件对其进行检测,并对光调制器的输出光的强度的状态进行监测。并且,根据受光元件的检测值(监测输出)调整(偏置控制)施加于调制电极的调制信号的动作偏置点。
专利文献1中公开有如图1所示的配置于基板1的外部且利用受光元件5对放射光进行监测的光调制器。具体而言,具有电光效应的基板1中形成有包含马赫-曾德尔型光波导(21~24)的光波导2。沿着构成马赫-曾德尔型光波导的两个分支波导,设置有用于调制在光波导中传播的光波的调制电极,但附图中予以省略。输出波导24与光纤4连接,并构成为将出射光导出至外部。
从马赫-曾德尔型光波导的合波部23射出的两束放射光(R1、R2)通过用于在基板1的端部连接光纤4的加强用毛细管3的内部,并导入至受光元件5。尤其,如图1所示,通过构成为利用一个受光元件接收两束放射光,从而能够在将两束放射光进行合成的状态下进行监测,并可补偿监测光与输出光S的相位差。
为了提高补偿监测光与输出光的相位差的精确度,关键的是将接收两束放射光的光量比设定在最佳。因此,在图1的毛细管3与受光元件5之间设置某种光量比调整机构。
专利文献2中公开有如图2及图3所示那样在构成光调制器的基板1上配置受光元件5的结构。具体而言,基板1中形成有包含马赫-曾德尔型光波导的光波导2及用于调制在该光波导中传播的光波的调制电极(未图示)。受光元件5配置成横跨构成马赫-曾德尔型光波导的输出波导24。
图2中,受光元件5构成为一同接收从马赫-曾德尔型光波导的合波部射出的两束放射光。放射光在基板1的内部传播,但为了精确控制放射光的传播位置,可设置对放射光进行引导的放射光用波导(25、26)。受光元件5配置成横跨两束放射光用波导(25、26)。
图3是图2的单点划线X-X’的剖视图。通过以接触或接近放射光用波导(25、26)的方式配置高折射率膜(40、41),放射光的一部分(R1、R2)被吸上至受光元件5侧,并入射到受光部50。
图2及图3的结构中,能够同时接收两束放射光,如图1的以往例中进行的说明,通过同时接收两束放射光,并调整两者的受光强度,能够补偿利用放射光的监测光与从输出波导射出的输出光之间的相位差,获得良好的监测特性。
如专利文献1所述,在基板1的外部配置受光元件5时,在同一基板上集成多个马赫-曾德尔型光波导的情况下,以及在远离基板的端面的位置形成马赫-曾德尔型光波导,且在该马赫-曾德尔型光波导与毛细管之间存在其他光波导的情况下等,仅将所关注的光波引导至受光元件是极为困难的。
相对于此,如专利文献2所述,在基板1的表面配置受光元件的结构存在如下优点,即能够精确地接收所关注的光波。然而,为了同时接收两束放射光,需要形成与图3所示的两束放射光用波导(25、26)的间隔W大致相同或比其大的尺寸的受光面积。受光部的面积的扩大与其尺寸成反比,产生受光元件的频带降低的问题。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利第4977789号公报
专利文献2:日本专利公开2013-80009号公报
专利文献3:日本专利申请2014-009554号(2014年1月22日申请)
发明的概要
发明要解决的技术课题
本发明需要解决的课题为提供一种光调制器,所述光调制器解决如上所述的问题,且即使在构成光调制器的基板上配置受光元件,并同时接收并监测来自马赫-曾德尔型光波导的合波部的两束放射光的情况下,也可抑制受光元件的频带的降低。
用于解决技术课题的手段
为了解决上述课题,本发明的光调制器具有如下的技术特征。
(1)一种光调制器,其具有:基板;光波导,包含形成于该基板的马赫-曾德尔型光波导;及调制电极,用于调制在该光波导中传播的光波,所述光调制器的特征在于,受光元件配置成横跨构成该马赫-曾德尔型光波导的输出波导,并构成为接收从该马赫-曾德尔型光波导的合波部射出的两束放射光,该受光元件中,在一个受光元件基板分离形成有两个以上的受光部。
(2)根据上述(1)所述的光调制器,其特征在于,在该输出波导与该受光元件之间形成有低折射率结构,在该基板的该放射光所传播的部分与该受光元件之间形成有高折射率结构。
(3)根据上述(2)所述的光调制器,其特征在于,夹着该低折射率结构的两个该高折射率结构的间隔为在该输出波导中传播的光波的模场直径的2倍以上。
(4)根据上述(1)所述的光调制器,其特征在于,在该基板的该放射光所传播的位置配置槽或反射部件,将该放射光引导至该受光元件。
(5)根据上述(4)所述的光调制器,其特征在于,夹着该输出波导的两个该槽或两个该反射部件的间隔为在该输出波导中传播的光波的模场直径的2倍以上。
(6)根据上述(1)至(5)中任一个所述的光调制器,其特征在于,在该基板形成有对该放射光进行引导的放射光用波导。
(7)根据上述(1)至(6)中任一个所述的光调制器,其特征在于,该基板的厚度为20μm以下。
发明效果
本发明的光调制器具有:基板;光波导,包含形成于该基板的马赫-曾德尔型光波导;及调制电极,用于调制在该光波导中传播的光波,所述光调制器中,受光元件配置成横跨构成该马赫-曾德尔型光波导的输出波导,并构成为接收从该马赫-曾德尔型光波导的合波部射出的两束放射光,该受光元件中,在一个受光元件基板内分离形成有两个以上的受光部,因此能够将一个受光部的面积设定为比以往较小,并能够提供一种可抑制受光元件的频带的降低的光调制器。
附图说明
图1是专利文献1中所记载的以往例,表示在构成光调制器的基板的外部配置有受光元件的状态的图。
图2是专利文献2中所记载的以往例,表示在构成光调制器的基板上配置有受光元件的状态的图。
图3是表示图2所示的单点划线X-X’的剖视图的图。
图4是表示本发明的光调制器中所使用的受光元件的概略的图。
图5是图4的受光元件中,沿着放射光用波导的方向的剖视图,表示光波的传播的状态的图。
具体实施方式
以下,对本发明的光调制器进行详细说明。
如图4所示,本发明的光调制器具有:基板1;光波导,包含形成于该基板的马赫-曾德尔型光波导;及调制电极(未图示),用于调制在该光波导中传播的光波,所述光调制器的特征在于,受光元件5配置成横跨构成该马赫-曾德尔型光波导的输出波导24,并构成为接收从该马赫-曾德尔型光波导的合波部射出的两束放射光,该受光元件中,在一个受光元件基板55分离形成有两个以上的受光部(51、52)。另外,图4与图3相同地主要图示出以横跨输出波导的方式配置的受光元件的剖视图的概略。
作为基板1,只要是能够形成光波导的石英、半导体等基板即可,尤其是可适宜地使用具有电光效应的基板,即LiNbO3、LiTaO3或PLZT(锆钛酸铅镧)中的任一个单晶。
尤其适合于本发明的基板为基板厚度在20μm以下的基板。这样的薄板中,光波较易封闭在基板内,难以分离在光波导中传播的光波和在基板内传播的光波。因此,如本发明的光调制器,通过在基板上配置受光元件,能够有效地接收所关注的光波。而且,在基板内传播的不必要的光也变多,因此,如专利文献1或2所示,通过同时接收两束放射光,能够获得更精确的监测信号。为了使用20μm以下的厚度的基板,需要如图4所示的对基板1进行机械性加强的结构,经由树脂等粘合层10将加强基板11接合于基板1。
形成于基板的光波导例如通过使钛(Ti)等高折射率物质在LiNbO3基板(LN基板)上热扩散而形成。并且,也可利用在成为光波导的部分的两侧形成槽的肋型光波导或将光波导部分设为凸状的脊型波导。并且,本发明还可适用于在PLC等不同的基板上形成光波导,并将这些基板贴合集成而成的光电路。
调制电极由信号电极及接地电极构成,可在基板表面形成Ti/Au电极图案,并通过镀金方法等来形成。而且,根据需要也可在光波导形成之后的基板表面设置电介质SiO2等缓冲层。另外,将在基板(光波导)内传播的放射光导出至受光元件侧的区域中,若形成缓冲层,则难以高效地导出放射光,因此优选该区域中不形成缓冲层。
如图4所示,本发明的光调制器的特征在于,光调制器中所使用的受光元件中,在一个受光元件基板55分离形成有两个以上的受光部(51、52)。由此,能够减小一个受光部的面积,并能够抑制受光元件的频带的降低。
各受光部独立地接收放射光,但通过并联连接各受光部的配线,将来自受光部的监测信号进行电叠加,实质上能够获得与由单个受光部同时接收两束放射光时同等的效果。其结果,不用降低频带,而能够同时监测两束放射光,且可更准确地补偿监测光与在输出波导24中传播的输出光之间的相位差。
作为受光元件5,能够适宜使用光电二极管(PD)。图4中,在InP或GaAs的基板(受光元件基板)55的上侧设置基于InGaAs(所接收的光波的波长为1550nm的情况)或GaAs(850nm)的受光层53,以与该受光层53相接的方式独立配置有两个受光部(51、52)。各受光部(51、52)中作为监测光分别入射两束放射光(R1、R2)。
图4中,使具有比放射光用波导的折射率更高的折射率的受光元件基板55与引导两束放射光的放射光用波导(25、26)接触,将在放射光用波导中传播的放射光吸上至受光部(51、52)侧。输出波导24与基板55之间形成有空气层等空腔61。
如图4所示,从波导截面方向观察时,受光部的配置位置可配置在放射光用波导(监测用波导)的正上方。这是由于从放射光用波导放射至受光元件基板内的光(渐逝波)在波导截面内向波导基板的法线方向放射,并且放射角度以法线为中心呈对称。
并且,关于波导光的行进方向,受光部的最佳位置取决于监测光的放射角度。例如受光元件基板的折射率为3.16,波导的有效折射率为2.15,则放射角度为从波导基板的法线约43度的方向。但是,考虑受光元件基板内的监测光的多重反射时,并不限定于此。图5是沿着监测用波导即放射光用波导(25、26)的方向的针对受光元件的剖视图,表示在监测用波导中传播的光波(箭头)的一部分入射到受光元件基板内的状态的图。
受光部的面积可任意设定,关于波导的截面方向,设定为在受光部的监测光的波束宽度左右即可。例如,若将波导光的波长设为1.55μm、将波导的模场直径设为10μm、将受光元件基板的高度设为150μm,则在前述的折射率条件下,受光部中的波束宽度成为20μm左右。但是,若考虑受光元件的安装位置公差,则受光部的宽度也可设为40~80μm左右。
另一方面,如图5所示,关于波导的行进方向,监测光成为强度大致相同的平行光束,因此对于受光部的宽度并无特别的限制,但从PD制作的简便性方面考虑,也可设为正方形或圆形的受光部。
若通过引线接合等并联电连接两个受光部,则两个监测信号叠加,可消除与输出光(主光)的相位差。该并联连接,除了通过引线接合之外,还可通过在受光元件基板上形成基于图案化的配线而实现。
另外,受光部并不限定为两个,也可以以接收一束放射光的受光部分割成两个以上的受光部的方式构成。通常,若受光部的面积变大,则频带降低,因此可以考虑对应频带而分割成多个。但是,分割成多个受光部会使引线接合或配线图案变得复杂,从而成为制造成本变高的原因。因此,对于一束放射光,受光部可以抑制在1~5的范围。
若受光面积变小,相反地灵敏度降低。因此,将本申请人事先进行的、专利申请(参考专利文献3)中公开的利用受光元件内的多重反射的技术也组合到本发明的一方式中,极为有效。但是,通过微调相对于放射光用波导的受光元件的配置位置,可调整两束放射光的受光量的平衡。为了充分利用该调整,需要控制反射,以免因多重反射的光波,例如使得一束放射光过多地入射到另一束放射光应入射的受光部。
为了在构成受光元件5的基板内使放射光进行多重反射,可以在光波所反射的地方配置电介质多层膜或金属反射膜等反射膜,或者在基板内进行全反射。例如,可在构成嵌入式电极的金属膜的下表面进行反射,或者在基板的外周面的至少一部分配置电介质多层膜或金属膜来提高反射效率。而且,通过利用电介质多层膜或金属膜,能够不受受光元件基板的表面状态(污垢等)的影响而进行稳定的反射。
为了将需要监测的光波导入至受光元件内,除了如专利文献2中公开的在光波导等对光波进行引导处直接接触受光元件基板55的方法以外,还有如图3所示,在光波导25(26)等与受光元件基板55之间介入高折射率膜(40、41)的方法。此时,需要将高折射率膜的折射率设定为高于光波导25(26)(或对光波进行引导的基板1)的折射率,且低于受光元件基板55的折射率。如此,在需要监测的光波所传播的部分与受光元件之间设置高折射率结构(具有比光波所传播的部分高的折射率的结构),另一方面,在无需监测的光波(需要抑制入射至受光元件的光波)所传播的部分与受光元件之间设置低折射率结构(具有比光波所传播的部分低的折射率的结构)。作为低折射率结构,除了配置低折射率膜之外,也可以为夹有空气层的结构。
并且,如专利文献2中也有公开,也可在基板1(或者光波导25等)配置槽或反射部件,将监测光的一部分引导至受光元件侧。
如图3或图4所示,在配置夹着低折射率结构60(61)的两个高折射率结构(40、41)时,该高折射率结构的间隔W可设为在输出波导24中传播的光波的模场直径的2倍以上。这是为了抑制在输出波导中传播的光波也被吸上至受光元件的情况。并且,在基板1配置槽或反射部件,使需要监测的光波向受光元件侧偏转时,夹着输出波导24的两个槽或两个反射部件的间隔W也同样可设为在输出波导中传播的光波的模场直径的2倍以上。
而且,本发明的一方式的光调制器中,也可以以与专利文献2相同的方式通过调整相对于受光元件5的基板1(或光波导25、26)的配置位置来调整两束放射光的受光量的比。并且,如图2所示,通过设置对放射光进行引导的放射光用波导(25、26),可将放射光更高效地引导至受光元件5。
产业上的可利用性
如上所述,根据本发明所涉及的光调制器,可提供一种即使在构成光调制器的基板上配置受光元件,并同时接收并监测来自马赫-曾德尔型光波导的合波部的两束放射光的情况下,也可抑制受光元件的频带的降低的光调制器。
符号说明
1-基板,2-光波导,21-输入波导,22-分支波导,23-合波部,24-输出波导,25、26-放射光用波导,3-毛细管,5-受光元件,50、51、52-受光部,55-受光元件基板,40、41-高折射率结构,60、61-低折射率结构。

Claims (7)

1.一种光调制器,其具有:
基板;光波导,包含形成于该基板的马赫-曾德尔型光波导;及调制电极,用于调制在该光波导中传播的光波,所述光调制器的特征在于,
受光元件配置成横跨构成该马赫-曾德尔型光波导的输出波导,并构成为接收从该马赫-曾德尔型光波导的合波部射出的两束放射光,
该受光元件中,在一个受光元件基板分离形成有两个以上的受光部。
2.根据权利要求1所述的光调制器,其特征在于,
在该输出波导与该受光元件之间形成有低折射率结构,在该基板的该放射光所传播的部分与该受光元件之间形成有高折射率结构。
3.根据权利要求2所述的光调制器,其特征在于,
夹着该低折射率结构的两个该高折射率结构的间隔为在该输出波导中传播的光波的模场直径的2倍以上。
4.根据权利要求1所述的光调制器,其特征在于,
在该基板的该放射光所传播的位置配置槽或反射部件,将该放射光引导至该受光元件。
5.根据权利要求4所述的光调制器,其特征在于,
夹着该输出波导的两个该槽或两个该反射部件的间隔为在该输出波导中传播的光波的模场直径的2倍以上。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光调制器,其特征在于,
在该基板形成有对该放射光进行引导的放射光用波导。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的光调制器,其特征在于,
该基板的厚度为20μm以下。
CN201580016106.3A 2014-03-31 2015-03-27 光调制器 Pending CN106104367A (zh)

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