CN106061910A - 热处理二氧化硅‑氧化钛玻璃来诱导Tzc梯度 - Google Patents

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Abstract

提供了在二氧化硅‑氧化钛玻璃制品中形成Tzc(零交叉温度)梯度的方法和设备。所述方法包含使玻璃制品(14)的第一表面接触加热设备(40)的第一加热模块(22)的表面，并使玻璃制品(14)的第二表面接触加热设备(40)的第二加热模块(26)的表面。所述方法还包括将第一加热模块的温度升高到第一温度，将第二加热模块的温度升高到第二温度，且将第一加热模块在第一温度下以及将第二加热模块在第二温度下保持预定时间段，从而形成在整个玻璃制品中的热梯度，其中第一温度高于第二温度。所述方法还包括冷却玻璃制品，以形成在玻璃制品整个厚度中的Tzc梯度。

Description

热处理二氧化硅-氧化钛玻璃来诱导Tzc梯度
本申请根据35U.S.C.§119要求2014年02月26日提交的美国临时申请系列第61/944,646号的优先权，本文以该申请的内容为基础并通过参考将其完整地结合于此。
领域
本发明涉及热处理玻璃制品。具体来说，本发明涉及用于热处理玻璃制品以在玻璃制品中形成零交叉温度(Tzc)梯度或改变零交叉温度(Tzc)梯度的方法。
背景
超远紫外光刻(EUVL)是用于制备微处理器和动态随机存储(MPU/DRAM)集成芯片的13nm模式和更大模式的领先的新兴技术。目前，制备这些集成芯片(IC)的EUVL扫描仪正小规模生产，以演示这种新技术。包含反射光学元件的光学系统是这些扫描仪的重要零件。随着EUVL的继续发展，对光学系统零件的规格持续变得更严格。
在EUVL扫描仪中，将光学元件暴露于强烈的远紫外(EUV)辐射。在EUVL系统中所用EUV辐射的一些部分被系统的光学元件上的反射涂层吸收，这导致通过照射辐射对光学元件的顶部表面进行加热。这导致光学元件的表面比光学元件本体更热，并形成在整个光学元件中的温度梯度。此外，为了在半导体晶片上对图案进行成像，没有均匀地加热光学元件表面，且在光学元件整个厚度中以及沿着接收辐射的光学元件表面形成复杂的温度梯度。这些温度梯度导致光学元件的畸变，这进而导致在晶片上形成的图象发生弥散。EUVL扫描仪投影系统中光学元件里面所用材料的低热导率、它们的较大的尺寸以及在真空中操作的要求，抑制了有效的传热和除热。因为预期满足未来EUVL发展要求的增加的光学元件尺寸和增加的功率水平，预期的热耗散难度将恶化。
概述
根据本发明的一些实施方式，提供一种用于在二氧化硅-氧化钛玻璃制品中形成零交叉温度(Tzc)梯度的方法。所述方法包括使玻璃制品的第一表面接触加热设备的第一加热模块的表面，并使玻璃制品的第二表面接触加热设备的第二加热模块的表面。所述方法还包括将第一加热模块的温度升高到第一温度以加热玻璃制品的第一表面，将第二加热模块的温度升高到第二温度以加热玻璃制品的第二表面，其中第一温度高于第二温度，且将第一加热模块在第一温度下以及将第二加热模块在第二温度下保持预定时间段，从而形成在整个玻璃制品中的热梯度。所述方法还包括以预定冷却速率来冷却玻璃制品，以形成在玻璃制品整个厚度中的Tzc梯度。
根据本发明的另一实施方式，提供一种用于在二氧化硅-氧化钛玻璃制品中形成零交叉温度(Tzc)梯度的设备。所述设备包括第一加热模块和第二加热模块，且所述第一加热模块包含在该第一加热模块之内的多个加热元件，所述第二加热模块包含在该第二加热模块之内的多个加热元件。所述设备构造成将第一加热模块的温度升高到第一温度以加热玻璃制品的第一表面，以及将第二加热模块的温度升高到第二温度以加热玻璃制品的第二表面，其中第一温度高于第二温度。
在以下的详细描述中提出了本发明的其他特征和优点，其中的部分特征和优点对本领域的技术人员而言，根据所作描述就容易看出，或者通过实施包括以下详细描述、权利要求书以及附图在内的本文所述的各种实施方式而被认识。
应理解，前面的一般性描述和以下的详细描述都仅仅是示例性的，用来提供理解权利要求的性质和特性的总体评述或框架。所附附图提供了对本发明的进一步理解，附图被结合在本说明书中并构成说明书的一部分。附图说明了本发明的一个或多个实施方式，并与说明书一起用来解释各种实施方式的原理和操作。
附图简要说明
从仅作为非限制性例子给出的下面的描述和附图将更清楚地理解本发明，其中：
图1A显示根据本发明的一种实施方式的二氧化硅-氧化钛玻璃；
图1B显示根据本发明的一种实施方式的二氧化硅-氧化钛玻璃；
图2显示根据本发明的一种实施方式的二氧化硅-氧化钛玻璃制品；
图3显示根据本发明的一种实施方式的加热设备；
图4显示根据本发明的一种实施方式的图2所示的二氧化硅-氧化钛玻璃制品在图3所示的加热设备中的设置；
图5显示根据本发明的一种实施方式的二氧化硅-氧化钛玻璃制品在加热设备中的设置；
图6A是根据本发明的一种实施方式的加热设备的俯视图；
图6B是根据本发明的一种实施方式的加热设备的俯视图；和
图7显示根据本发明的一种实施方式的用于制备二氧化硅-氧化钛玻璃制品的设备。
具体描述
下面详细参考本发明的各种实施方式，这些实施方式的例子在附图中示出。只要有可能，在所有附图中使用相同的附图标记来表示相同或类似的部分。
单数形式的“一个”，“一种”和“该”包括复数的被提到的事物，除非文本中有另外的明确表示。描述相同特征的所有范围的端点都是可独立组合的且包含所描述的端点。所有参考文献通过引用纳入本文。
本发明的实施方式涉及用于EUVL的二氧化硅-氧化钛玻璃制品，以及涉及制备这种二氧化硅-氧化钛玻璃制品的方法。如结合二氧化硅-氧化钛玻璃、制备二氧化硅-氧化钛玻璃的方法以及它们在EUVL用途中的应用所使用，术语“制品”指且包含任何尺寸的玻璃、由这种玻璃制成的玻璃基材或零件(不管是精磨的还是没有精磨的)，以及用于EUVL系统中的精磨的(finished)光学元件。还如本文所使用，术语“接近最终形状”和“接近最终形状化的”指一种制品已经形成为用于规定应用的基本上最终形状，但还没有对其进行最终的加工步骤。这种最终加工步骤可包括例如最终精磨和/或在玻璃制品上沉积涂层。
还如本文所使用，术语“零交叉温度(Tzc)”指一定体积的具有基本上均匀组成的材料的热膨胀系数等于零时的温度。当表示非均匀体积时，Tzc指该体积中的平均Tzc。如图1A和1B所示，垂直轴标记为z轴，水平轴标记为x轴和y轴。应相应地理解本文中所描述的垂直轴和水平轴。
EUVL系统是反射系统，其中EUV光从一个反射元件反射到另一个反射元件。示例性EUVL系统可包含一对聚光反射镜(condenser mirror)、物体(例如掩模)以及多个投影镜。所有上述光学元件通常具有沉积在制品上以反射入射光的多层涂层，例如Mo/Si涂层。至少有些光学元件可由具有低热膨胀系数(CTE)的玻璃形成，所述玻璃例如是可从纽约康宁的康宁有限公司(Corning Incorporated)购买的超低膨胀玻璃。
图1A显示二氧化硅-氧化钛玻璃10，其具有均匀的氧化钛浓度，并因此具有在整个玻璃10中的均匀的Tzc。可根据常规方法来形成具有均匀Tzc的玻璃10。图1B显示二氧化硅-氧化钛玻璃12，其具有从Tzc1到Tzc5的多个层，且每一层具有不同的氧化钛浓度和不同的Tzc。尽管所示的示例性玻璃12显示为具有含不同Tzc的5个层，但根据本发明实施方式的玻璃可具有含不同Tzc的至少两个层。可使用本文所述的方法为玻璃12形成多个层Tzc1到Tzc5，或可使用其中控制和改变二氧化硅和氧化钛浓度来形成具有不同氧化钛浓度和因此具有不同Tzc的玻璃12的层的方法来形成。出于本发明之目的，如图1A所示的一系列层称作在玻璃12整个厚度中的垂直Tzc梯度。根据本发明的一种实施方式，Tzc可从层Tzc1到Tzc5下降，从而Tzc1具有最高的氧化钛浓度和Tzc，且Tzc5具有最低的氧化钛浓度和Tzc。或者，Tzc可从层Tzc1到Tzc5增加，从而层Tzc1具有最低的氧化钛浓度和Tzc，且Tzc5具有最高的氧化钛浓度和Tzc。
图2显示加工成具有弯曲表面15的示例性接近最终形状的二氧化硅-氧化钛玻璃制品14。该玻璃制品14可由图1A所示的玻璃10或图1B所示的玻璃12形成。当由图1A所示的玻璃10形成时，玻璃制品14具有在整个玻璃制品14中的均匀的组成和Tzc。当由图1B所示的玻璃12形成时，玻璃制品14具有玻璃12的组成和Tzc梯度。将表面15成形为提供用于在EUVL系统中的EUV辐射照射的表面。这样，在玻璃制品14的最终加工中，可在表面15上沉积反射性材料，以形成反射涂层。
图3显示加热设备20，其可用于赋予玻璃制品以Tzc梯度，或改变玻璃制品的Tzc梯度。所述加热设备20包括顶部模块22和底部模块26，所述顶部模块22具有在该顶部模块22之内的加热元件24，所述底部模块26具有在该底部模块26之内的加热元件28。当使用加热设备20时，将顶部模块22加热到第一预定温度T1并将底部模块26加热到第二预定温度T2，其中T1高于T2(T1＞T2)。或者，将底部模块26加热到第一预定温度T1并将顶部模块26加热到第二预定温度T2，其中T1高于T2(T1＞T2)。
图4显示其中接近最终形状的玻璃制品14设置在加热设备20的顶部模块22和底部模块26之间。如图所示，可将加热设备20设置在加热炉40中，且将底部模块26设置在支架(stand)42上。将顶部模块22和底部模块26成形为与玻璃制品14的形状相对应。例如，顶部模块22的表面具有与玻璃制品14的表面15基本上相似的弯曲的形状。这些形状促进使顶部模块22和底部模块26接触玻璃制品14来改变玻璃制品14的Tzc梯度或使得玻璃制品14具有Tzc梯度。当使用炉子时，使用炉子40来同时将加热设备20和接近最终形状的玻璃制品14加热到选定温度，所述温度低于所述接近最终形状玻璃制品14的退火温度。根据本发明的实施方式，将炉子40中的温度增加到比玻璃制品14的退火温度低约50℃-约150℃。还使用加热元件24和28来在其中模块22和26接触玻璃制品14的表面处加热玻璃制品14。与炉子40的温度相似，可将加热元件24和28的温度加热到比玻璃制品14的退火温度低约50℃-约150℃的温度。
图5显示另一示例性接近最终形状的玻璃制品50，其设置在与加热设备20相似的设备的顶部模块52和底部模块54之间。如图所示，玻璃制品50具有顶部表面51和底部表面55。顶部模块52具有表面52a，底部模块54具有表面54a。将顶部模块52和底部模块54成形为与玻璃制品50的形状相对应。例如，顶部模块52的表面52a具有与玻璃制品50的顶部表面51基本上相似的弯曲形状，且底部模块54的表面54a进行弯曲以容纳玻璃制品50的弯曲的底部表面55。这些形状促进使顶部模块52和底部模块54接触玻璃制品50来改变玻璃制品50的Tzc梯度或使得玻璃制品50具有Tzc梯度。加热玻璃制品50与如上结合图4所述的加热玻璃制品14相同。
图6A是加热设备20的俯视图，其显示在顶部模块22中的加热元件24以及在底部模块26中的加热元件28的构造的示例性实施方式。为了便于显示，顶部模块22和底部模块26只用黑实线表示。如图6A所示，加热元件24和28可为线性的。换句话说，单个加热元件24和28可从靠近模块中的一个模块的边缘或壁的位置延伸到同一模块的另一边缘或壁。单个加热元件24和28以预定距离与至少一个其它加热元件24和28相分离。虽然在图6A中显示线性加热元件24和28以相等距离分离，但线性加热元件24和28可以任何构造或图案在模块22和26中构造。图6A所示的线性加热元件24和28的构造用于赋予玻璃制品以垂直Tzc梯度，或用于改变玻璃制品的Tzc梯度。使用图5的玻璃制品作为示例，垂直Tzc梯度可从玻璃制品50的顶部表面51延伸到玻璃制品50的底部表面55。
图6B是加热设备20的俯视图，其显示在顶部模块22中的加热元件24以及在底部模块26中的加热元件28的构造的示例性实施方式。为了便于显示，顶部模块22和底部模块26只用黑实线表示。如图6B所示，加热元件24和28可为圆形的。换句话说，加热元件可构造成绕着模块22和26的中心点的连续的环。单个加热元件24和28以预定距离与至少一个其它加热元件24和28相分离。虽然在图6B中显示圆形加热元件24和28以相等距离分离，但圆形加热元件24和28可以任何构造或图案在模块22和26中构造。图6B所示的圆形加热元件24和28的构造用于赋予玻璃制品以水平Tzc梯度，或用于改变玻璃制品的Tzc梯度。水平Tzc梯度从玻璃制品的中心延伸到玻璃制品的边缘。具有水平Tzc梯度的玻璃制品具有含不同Tzc的圆形分段，其中所述圆形分段从玻璃制品的中心延伸到玻璃制品的边缘。为了向玻璃制品赋予水平Tzc梯度，或改变玻璃制品的Tzc梯度，加热元件24和28中的每一个都是独立可控制的，从而顶部模块22中的加热元件24中的每一个可设定在不同温度下，且底部模块26中的加热元件28中的每一个可设定在不同温度下。
根据本发明的实施方式，本文所述的加热设备在接近最终形状玻璃制品中形成温度分布。通过使用加热设备热处理玻璃制品，可在玻璃制品中形成Tzc梯度。如本文所述，模块22和26中的加热元件24和28的构造可构造成形成各种温度分布，其对应于形成预定的Tzc梯度。此外，可控制热处理玻璃制品的时间以及供应到模块22和26的功率，从而在玻璃制品上施加预定的Tzc梯度。
根据本发明的实施方式，提供一种从具有已知Tzc或Tzc梯度的玻璃形成接近最终形状玻璃制品的方法。一旦形成，可将接近最终形状玻璃制品设置成接触图3和图4中所示设备的模块的适当表面。可将第一加热模块的温度升高到第一温度以加热玻璃制品的第一表面，且可将第二加热模块的温度升高到第二温度，以加热玻璃制品的第二表面。如上所述，第一温度高于第二温度。
所述方法还可包含将第一加热模块在第一温度下以及将第二加热模块在第二温度下保持预定时间段，从而形成在整个玻璃制品中的热梯度。时间段可为约5.0小时—300小时。此外，所述方法还可包括以预定冷却速率来冷却玻璃制品，以形成在玻璃制品整个厚度上的Tzc梯度。例如，冷却速率可为约1.0℃-约50℃/小时。
用于制备接近最终形状玻璃制品的玻璃可直接形成，或可由玻璃预制件提取。如上所述，二氧化硅-氧化钛玻璃可具有均匀的Tzc(例如图1A所述的玻璃10)，或可具有Tzc梯度(例如图1B所示的玻璃12)。但是，因为具有均匀Tzc的玻璃10可使用常规方法来形成，制备这种玻璃10复杂程度更低且成本更低。此外，因为复杂程度更低的方法，可使用具有大到足以形成玻璃制品14或玻璃制品50的尺寸的玻璃10的预制件。此外，可形成较大的玻璃10的预制件，可从所述该预制件提取多个不同玻璃制品。本文所述的方法促进从具有不同Tzc梯度的单一玻璃预制件形成产品。
可使用二氧化硅-氧化钛烟炱来形成玻璃，其中所述二氧化硅-氧化钛烟炱是：(a)在一个步骤中收集和固结(直接方法)；(b)在第一步骤中收集且在第二步骤中固结(间接方法或烟炱到玻璃方法)。直接方法如美国专利号8,541,325、RE41220和7,589,040所述，且间接方法如美国专利号6,487,879所述，以上各文说明书的全部内容通过引用纳入本文。在直接方法中，二氧化硅-氧化钛烟炱沉积和二氧化硅-氧化钛烟炱固结之间的时间可为约小于3秒。在间接方法中，首先在容器中沉积二氧化硅-氧化钛烟炱，且在烟炱沉积完成之后固结成二氧化硅-氧化钛玻璃。可使用如美国专利号RE40,586和美国专利申请号2011-0207593所述的设备，以上各文说明书的全部内容通过引用纳入本文。
图7中所示的设备可用来形成直径为约0.2米-约2.0米或更大且厚度为约10厘米-约30厘米的二氧化硅-氧化钛玻璃。设备和形成的玻璃的尺寸将影响所用燃烧器的数目。使用图7和直接方法作为示例，提供二氧化硅前体48的源46以及氧化钛前体60的源58。二氧化硅前体48和氧化钛前体60可为硅氧烷、醇盐和四氯化物。例如，二氧化硅前体可为八甲基环四硅氧烷(OMCTS)，氧化钛前体可为异丙醇钛(Ti(OPri)4)。源46，58可为蒸气器、蒸发槽、或适用于将前体48，60转化成蒸气形式的其它设备。在源46底部处或靠近源46底部处引入载气50，例如氮气。载气50携带二氧化硅前体48的蒸气，通过分配系统54到达混合歧管56。在52处引入载气的旁流，以防止蒸气态二氧化硅前体流饱和。可使惰性气体62(例如氮气)的流接触蒸气态氧化钛前体以防止蒸气饱和。惰性载气64(例如氮气)携带氧化钛前体60蒸气，并通过分配系统66将蒸气携带到混合歧管56，在该混合歧管56中它们与二氧化硅前体48蒸气混合。或者，可将氧化钛前体60和二氧化硅前体48以液体形式递送到混合歧管56。混合歧管56中的混合物穿过加热的蒸发(fume)管线68到达安装在炉子顶部72上的燃烧器70。在该示意图中，显示了两个燃烧器70。但是，可使用多于两个燃烧器以实现在整个沉积腔室74内的更好的热控制和材料分布。炉子76可具有旋转和振荡能力，且可包含支撑炉顶72的固定壁78。在固定壁78之内设置保护壳(containment vessel)80。该保护壳80容纳基底82，其受到支撑用于旋转，且通过其与振荡台84的连接进行振荡。保护壳80被安装在振荡台84上的空气流动壁86环绕。在固定壁78和保护壳80之间形成适应移动的密封件88。通过在固定壁78顶部处形成的多个尾气端口94对沉积腔室74进行排空。尾气端口94可通过导管连接到合适的排放系统(未显示)，其相对于环境压力在沉积腔室74中形成负压。在预混合腔室97中预混合燃料93和氧气95，然后通过蒸发管线99转移到燃烧器70。燃烧器70点燃燃料/氧气混合物来形成火焰，其加热沉积腔室74。注入燃烧器70的蒸气反应物排出燃烧器70，其中它们反应并形成氧化钛掺杂的二氧化硅颗粒。向下引导烟炱并沉积在平坦的表面100上，如在102处所示。该平坦的表面100可通过下述来提供：使用干净的碎玻璃106填充保护壳80的内衬104，但也可使用其它提供平坦表面的方法，例如玻璃板。在沉积烟炱时，通过基底82来旋转和振荡保护壳80并因此旋转和振荡平坦的表面100，从而改善掺杂的二氧化硅玻璃的均匀性。在烟炱沉积过程中，以环境空气对炉子76通风(draft)。通过调节保护壳80的垂直位置，来调控沉积腔室74的温度并保持在所需的加工温度下。在直接方法中，将温度保持在固结温度，从而基本上同时进行形成二氧化硅-氧化钛颗粒和固结成玻璃的步骤。这种时间可小于约3.0秒，且通常小于约2.0秒。在固结玻璃之后，可根据本文所述的退火循环在相同炉子中对玻璃进行退火，或者可从炉子中取出玻璃，并稍后进行退火。
基于在预期应用中在玻璃制品上产生的热负载，将在玻璃制品本体中形成的温度梯度可通过下述因素来决定：使用二氧化硅-氧化钛玻璃的热导率、除热装置的设置和性能以及对周围环境的了解。例如，康宁代码7972玻璃已公开了在室温下为1.31W/(m·℃)的热导率，且随着温度增加而适度地增加。使用计算的温度梯度，可获得一Tzc梯度，所述Tzc梯度将由温度梯度造成的玻璃的变形最小化。
表I显示在整个玻璃厚度上的Tzc梯度，其中εi表示氧化钛浓度变化，其要么是形成玻璃的工艺的自然结果，要么是对用于形成玻璃的工艺的故意改良的结果。表II显示当用作EUVL系统中的光学元件时的玻璃的温度分布的示例。如表所示，玻璃具有简单的线性分布，其中接收EUV辐射的表面具有约37℃的表面温度，离接收辐射的表面最远的表面具有约35℃的温度。表III显示在整个玻璃厚度上的Tzc梯度，其将减少因由辐射照射导致形成的温度分布造成的玻璃变形，并与如表I所示的具有均匀Tzc的玻璃制品进行比较。用于表I、II和III的分布只是示例性的，且应理解用于每一具体应用的将使得变形最小化的Tzc分布的详细形状需要根据用于玻璃制品的具体操作条件来决定。
通过确定玻璃制品的预期应用的温度分布(例如如表II所示的温度分布)，可确定用于玻璃制品的适当的Tzc梯度(例如如表III所示的Tzc梯度)，并可确定根据本文所述方法的适当的热处理。如上所述，本文所述的实施方式实现在由具有均匀Tzc的玻璃形成的玻璃制品中形成Tzc梯度，以及实现在由具有第一Tzc梯度的玻璃形成的玻璃制品中改变到第二Tzc梯度以将在预期应用中的玻璃变形最小化。
本文所述的实施方式提供用于在玻璃制品中形成Tzc梯度的方法和设备。本文所述的实施方式提供在形成接近最终形状玻璃制品之后结合Tzc梯度。此外，形成接近最终形状玻璃制品的玻璃可具有均匀的组成和均匀的Tzc。换句话说，形成接近最终形状玻璃制品的玻璃无需包括组成变化和/或Tzc梯度。这样，可形成较大尺寸的玻璃预制件，可从该预制件提取较小的玻璃制品，且可形成具有不同Tzc梯度的多个玻璃制品。
尽管本发明描述了有限数量的实施方式，但受益于本发明的本领域技术人员应理解，可在不背离本文所述的保护的范围的前提下设计其它的实施方式。因此，本发明的范围应仅由所附权利要求书限定。

Claims (20)

1.一种用于在二氧化硅-氧化钛玻璃制品中形成零交叉温度(Tzc)梯度的方法，所述方法包括：
使所述玻璃制品的第一表面接触加热设备的第一加热模块的表面；
使所述玻璃制品的第二表面接触所述加热设备的第二加热模块的表面；
将第一加热模块的温度升高到第一温度以加热所述玻璃制品的第一表面；
将第二加热模块的温度升高到第二温度以加热所述玻璃制品的第二表面，其中所述第一温度高于第二温度；
将第一加热模块在第一温度下以及将第二加热模块在第二温度下保持预定时间段，从而形成在整个所述玻璃制品中的热梯度；和
以预定冷却速率来冷却所述玻璃制品，以形成在玻璃制品整个厚度中的Tzc梯度。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在使所述玻璃制品的第一表面和第二表面进行接触之前，所述玻璃制品具有第一Tzc梯度，且其中以预定冷却速率来冷却所述玻璃制品形成在所述玻璃制品整个厚度中的第二Tzc梯度。
3.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一温度和第二温度低于所述玻璃制品的退火温度。
4.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一温度和第二温度比所述玻璃制品的退火温度低约50℃-约150℃。
5.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，将第一加热模块在第一温度下以及将第二加热模块在第二温度下保持预定时间段包括保持约5.0小时-约300小时的时间段。
6.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，以预定冷却速率来冷却所述玻璃制品包括以约1.0℃-约50℃/小时的冷却速率来进行冷却。
7.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述玻璃制品包含约5.0重量％-约15重量％的氧化钛。
8.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述玻璃制品包含约5.0重量％-约10重量％的氧化钛。
9.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述玻璃制品还包含选自下组的至少一种掺杂剂：氟，OH，铝、硼、钠、钾、镁、钙、锂和铌的氧化物，及其组合。
10.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，具有Tzc梯度的所述玻璃制品包含具有不同氧化钛浓度的多个层。
11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述多个层包含约5.0重量％-约15重量％的氧化钛。
12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述多个层包含约5.0重量％-约10重量％的氧化钛。
13.如权利要求10-12中任一项所述的方法，其特征在于，所述多个层包含从具有最高氧化钛浓度的层到具有最低氧化钛浓度的层的一系列层。
14.如权利要求13所述的方法，其特征在于，所述玻璃制品的第一表面包括具有最高氧化钛浓度的层，且所述玻璃制品的第二表面包括具有最低氧化钛浓度的层。
15.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，还包含在升高所述第一加热模块和第二加热模块的温度之前，将所述玻璃制品和所述加热设备设置在炉子中，并升高所述炉子的温度。
16.如权利要求15所述的方法，其特征在于，包括将所述炉子的温度升高到低于所述玻璃制品的退火温度的温度。
17.如权利要求15-16中任一项所述的方法，其特征在于，包括将所述炉子的温度升高到比所述玻璃制品退火温度低约50℃-约150℃。
18.一种用于在二氧化硅-氧化钛玻璃制品中形成零交叉温度(Tzc)梯度的设备，所述设备包括：
第一加热模块，所述第一加热模块包含在该第一加热模块之内的多个加热元件；和
第二加热模块，所述第二加热模块包含在该第二加热模块之内的多个加热元件，
其中所述设备构造成将第一加热模块的温度升高到第一温度以加热玻璃制品的第一表面，以及将第二加热模块的温度升高到第二温度以加热玻璃制品的第二表面，其中所述第一温度高于第二温度。
19.如权利要求18所述的设备，其特征在于，所述第一加热模块中的所述加热元件构造成在所述第一加热模块中形成均匀的温度，且其中所述第二加热模块中的所述加热元件构造成在所述第二加热模块中形成均匀的温度。
20.如权利要求18-19中任一项所述的设备，其特征在于，所述第一加热模块和第二加热模块包括成线性构造的多个加热元件，其中每一加热元件与所述多个加热元件中的至少一个其它加热元件分离一段距离。
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