CN106041721A - 一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构 - Google Patents

一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构 Download PDF

Info

Publication number
CN106041721A
CN106041721A CN201610591818.4A CN201610591818A CN106041721A CN 106041721 A CN106041721 A CN 106041721A CN 201610591818 A CN201610591818 A CN 201610591818A CN 106041721 A CN106041721 A CN 106041721A
Authority
CN
China
Prior art keywords
self
upper plate
lower plate
main bearing
balance mechanism
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610591818.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106041721B (zh
Inventor
乔卫民
翟新
李方俊
马艳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SUZHOU HRT ELECTRONIC EQUIPMENT TECHNOLOGY Co Ltd
Original Assignee
SUZHOU HRT ELECTRONIC EQUIPMENT TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SUZHOU HRT ELECTRONIC EQUIPMENT TECHNOLOGY Co Ltd filed Critical SUZHOU HRT ELECTRONIC EQUIPMENT TECHNOLOGY Co Ltd
Priority to CN201610591818.4A priority Critical patent/CN106041721B/zh
Publication of CN106041721A publication Critical patent/CN106041721A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106041721B publication Critical patent/CN106041721B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/27—Work carriers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/34—Accessories

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Abstract

本发明是一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，包括上盘系统、顶台、主支座和下箱体，所述上盘系统固接在顶台上，所述顶台和主支座之间通过多个立柱组件连接，所述主支座下端设有多个减震器，所述减震器一端固接在下箱体的顶面上。本发明的自平衡系统，合理的利用了减震器的弹性，有效的保证了设备在研磨抛光过程中，上盘和下盘之间的平行度，实现了上下盘在不同的工况下的自适应找正功能，保证了研磨，抛光加工过程稳定性，从而保证了加工效果，并且结构简单，保证了加工精度和工件成品的表面质量。

Description

一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构
技术领域
本发明涉及研磨机或抛光机技术领域，具体涉及一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构。
背景技术
单面研磨机/抛光机是目前硬脆材料，半导体平面加工的主要设备，因加工材料的特殊性，要求设备有很高的加工精度。上下盘的平行度对工件的表面质量起着至关重要的作用。
现有的研磨机或抛光机，上、下盘系统相对独立安装，很难保证上下盘之间的平行度，无法满足市场对硬脆材料，半导体等日益提高的工件表面质量要求。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的问题，提供一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，保证上下盘的平行度，从而保证加工精度和工件成品的表面质量。
为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：
一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，包括上盘系统、顶台、主支座和下箱体，所述上盘系统固接在顶台上，所述顶台和主支座之间通过多个立柱组件连接，所述主支座下端设有多个减震器，所述减震器一端固接在下箱体的顶面上。
进一步的，所述主支座的下方连接有动力系统。
进一步的，所述主支座以悬挂方式连接下方的动力系统。
进一步的，所述顶台与主支座之间设有四个立柱组件。
进一步的，所述主支座与下箱体之间设有四个减震器。
本发明的有益效果是:
本发明的自平衡系统，合理的利用了减震器的弹性，有效的保证了设备在研磨抛光过程中，上盘和下盘之间的平行度，实现了上下盘在不同的工况下的自适应找正功能，保证了研磨，抛光加工过程稳定性，从而保证了加工效果，并且结构简单，保证了加工精度和工件成品的表面质量。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图中标号说明：1、上盘系统，2、顶台，3、立柱组件，4、主支座，5、减震器，6、下箱体，7、动力系统。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本发明。
参照图1所示，一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，包括上盘系统1、顶台2、主支座4和下箱体6，所述上盘系统1固接在顶台2上，所述顶台2和主支座4之间通过多个立柱组件3连接，所述主支座4下端设有多个减震器5，所述减震器5一端固接在下箱体6的顶面上。
所述主支座4的下方连接有动力系统7。
所述主支座4以悬挂方式连接下方的动力系统7。
所述顶台2与主支座4之间设有四个立柱组件3。
所述主支座4与下箱体6之间设有四个减震器5。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，其特征在于，包括上盘系统（1）、顶台（2）、主支座（4）和下箱体（6），所述上盘系统（1）固接在顶台（2）上，所述顶台（2）和主支座（4）之间通过多个立柱组件（3）连接，所述主支座（4）下端设有多个减震器（5），所述减震器（5）一端固接在下箱体（6）的顶面上。
2.根据权利要求1所述的研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，其特征在于，所述主支座（4）的下方连接有动力系统（7）。
3.根据权利要求2所述的研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，其特征在于，所述主支座（4）以悬挂方式连接下方的动力系统（7）。
4.根据权利要求1所述的研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，其特征在于，所述顶台（2）与主支座（4）之间设有四个立柱组件（3）。
5.根据权利要求1所述的研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构，其特征在于，所述主支座（4）与下箱体（6）之间设有四个减震器（5）。
CN201610591818.4A 2016-07-26 2016-07-26 一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构 Active CN106041721B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610591818.4A CN106041721B (zh) 2016-07-26 2016-07-26 一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610591818.4A CN106041721B (zh) 2016-07-26 2016-07-26 一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106041721A true CN106041721A (zh) 2016-10-26
CN106041721B CN106041721B (zh) 2019-01-08

Family

ID=57418280

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610591818.4A Active CN106041721B (zh) 2016-07-26 2016-07-26 一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106041721B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106956374A (zh) * 2017-04-07 2017-07-18 苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司 一种多线切割机的支承结构

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5584750A (en) * 1994-09-07 1996-12-17 Toshiba Machine Co., Ltd. Polishing machine with detachable surface plate
US5954570A (en) * 1996-05-31 1999-09-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Conditioner for a polishing tool
CN101596693A (zh) * 2009-07-10 2009-12-09 兰州瑞德实业集团有限公司 数控精密研磨抛光机
CN103551957A (zh) * 2013-11-01 2014-02-05 苏州辰轩光电科技有限公司 单面抛光机
CN203680010U (zh) * 2014-02-18 2014-07-02 宁波固特轴承有限公司 一种轴承加工用抛光机
CN203792152U (zh) * 2014-03-06 2014-08-27 新进精密机械(苏州)有限公司 一种单面研磨机
CN205904863U (zh) * 2016-07-26 2017-01-25 苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司 一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5584750A (en) * 1994-09-07 1996-12-17 Toshiba Machine Co., Ltd. Polishing machine with detachable surface plate
US5954570A (en) * 1996-05-31 1999-09-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Conditioner for a polishing tool
CN101596693A (zh) * 2009-07-10 2009-12-09 兰州瑞德实业集团有限公司 数控精密研磨抛光机
CN103551957A (zh) * 2013-11-01 2014-02-05 苏州辰轩光电科技有限公司 单面抛光机
CN203680010U (zh) * 2014-02-18 2014-07-02 宁波固特轴承有限公司 一种轴承加工用抛光机
CN203792152U (zh) * 2014-03-06 2014-08-27 新进精密机械(苏州)有限公司 一种单面研磨机
CN205904863U (zh) * 2016-07-26 2017-01-25 苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司 一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106956374A (zh) * 2017-04-07 2017-07-18 苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司 一种多线切割机的支承结构

Also Published As

Publication number Publication date
CN106041721B (zh) 2019-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN202684565U (zh) 夹紧工装
CN103447902B (zh) 一种高精度轴承套圈平面磨削装置
CN106041721A (zh) 一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构
CN105215794A (zh) 小型轧机轧辊快速磨削加工方法
CN205904863U (zh) 一种研磨机或抛光机的上下盘自平衡机构
CN203371363U (zh) 活塞环槽磨床
CN206702777U (zh) 一种用于玻璃深加工生产线磨轮固定装置
CN204340589U (zh) 一种弹簧隔振垫定位结构
CN106041727A (zh) 一种研磨机或抛光机的一体化龙门结构
CN203665160U (zh) 一种盘式轴承座固定工装
CN203031282U (zh) 一种可调心工作台
CN108081228A (zh) 一种回转支撑放置工装
CN204565864U (zh) 一种上盘万向调心加载机构
CN206509788U (zh) 一面两销带推料机构工装
CN207415094U (zh) 一种具有限位功能的研磨设备
CN205967435U (zh) 一种加工球面垫的工装
CN206010694U (zh) 一种用于直角边研磨的研磨盘
CN204397563U (zh) 一种数控磨石机
CN203696627U (zh) 轧辊磨床活动支承架的支承板
CN106985033A (zh) 一种用于玻璃深加工生产线磨轮固定装置
CN202922263U (zh) 牵引座加工工装
CN205888885U (zh) 一种研磨机或抛光机的一体化龙门结构
CN210139279U (zh) 一种方便移动的研磨机
CN204673477U (zh) 一种具有减震功能的石材打磨机
CN205552311U (zh) 一种新型结构拼装式砂轮

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant