CN106011767A - 一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶 - Google Patents

一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶,包括旋转镍铬靶管体，固定卡扣，旋转轴，电机，电机控制单元，支撑架；所述旋转镍铬靶管体两端分别连有两个所述旋转轴，所述旋转轴通过所述固定卡扣配合与所述旋转镍铬靶管体相对固定，所述旋转镍铬靶管体一端的所述旋转轴与所述支撑架相连，所述旋转镍铬靶管体另一端的所述旋转轴与所述电机相连。本发明的靶材利用率高，溅射速率高，有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。

Description

一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶
技术领域
本发明涉及磁控溅射领域，尤其涉及一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶。
背景技术
溅射镀膜工艺广泛应用于集成电路、磁记录、平面显示器等领域。随着表面镀膜技术的不断发展，溅射靶材这一具有高附加值的功能材料的需求量也逐年增多。现有镍铬靶材一般为平面矩形靶材，缺点在于 该平面溅射靶材的利用效率较低，靶材的消耗大，生产成本高。
发明内容
本发明要解决的技术问题是设计一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，解决现有的平面靶材利用效率较低，靶材的消耗大，生产成本高的技术问题。
本发明解决其技术问题的技术方案为：
一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，包括旋转镍铬靶管体，固定卡扣，旋转轴，电机，电机控制单元，支撑架；所述旋转镍铬靶管体两端分别连有两个所述旋转轴，所述旋转轴通过所述固定卡扣配合与所述旋转镍铬靶管体相对固定，所述旋转镍铬靶管体一端的所述旋转轴与所述支撑架相连，所述旋转镍铬靶管体另一端的所述旋转轴与所述电机相连。
所述旋转镍铬靶管体与所述支撑架相连处设有固定卡扣，所述旋转镍铬靶管体与所述电机相连处设有固定卡扣。
所述电机控制单元可控制所述旋转轴的转速。
所述固定卡扣可安装拆卸。
本发明的有益效果在于，靶材利用率高，溅射速率高，有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。
附图说明
下面结合附图对本发明的具体实施方式做进一步阐明。
图1为：一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶的结构主视图。
具体实施方式
结合图1本发明的一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶的结构主视图，对本发明作出进一步的详细说明。
一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，包括旋转镍铬靶管体1，固定卡扣，旋转轴，电机4，电机控制单元，支撑架5；旋转镍铬靶管体1两端分别连有两个旋转轴，旋转轴通过固定卡扣配合与旋转镍铬靶管体1相对固定，旋转镍铬靶管体1一端的旋转轴31与支撑架5相连，旋转镍铬靶管体1另一端的旋转轴32与电机4相连。
旋转镍铬靶管体1与支撑架5相连处设有固定卡扣21，旋转镍铬靶管体1与电机4相连处设有固定卡扣22。
旋转镍铬靶管体1的两端开口，固定卡扣设在旋转镍铬靶管体1的两端，旋转轴通过固定卡扣配合使旋转镍铬靶管体1、固定卡扣和旋转轴三者相对固定。旋转镍铬靶管体1一端的固定卡扣21及旋转轴31与支撑架5相连，支撑架5上设有轴承可让旋转轴31自由旋转。旋转镍铬靶管体1另一端的旋转轴32与电机4相连，电机4可带动旋转轴32旋转进而使旋转镍铬靶管体1旋转。旋转靶解决了平面靶掉渣和靶材利用率的问题，并且提高了溅射速率，靶材利用率高，同时意味着更长的运行时间，节能环保。同时溅射速率高，有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。无需“烧靶”，可以节省靶材消耗和烧靶时间。
电机控制单元可控制旋转轴的转速。
固定卡扣可安装拆卸。
通过电机控制单元可以控制旋转轴的转速，从而针对不同的工艺流程调节旋转镍铬靶管体1的转速。固定卡扣可安装拆卸，能够进行快速便捷的换靶操作，从而减低成本，增加产能。
在以上的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是以上描述仅是本发明的较佳实施例而已，本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，因此本发明不受上面公开的具体实施的限制。同时任何熟悉本领域技术人员在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims (4)

1.一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，其特征在于，包括旋转镍铬靶管体（1），固定卡扣，旋转轴，电机（4），电机控制单元，支撑架（5）；所述旋转镍铬靶管体（1）两端分别连有两个所述旋转轴，所述旋转轴通过所述固定卡扣配合与所述旋转镍铬靶管体（1）相对固定，所述旋转镍铬靶管体（1）一端的所述旋转轴（31）与所述支撑架（5）相连，所述旋转镍铬靶管体（1）另一端的所述旋转轴（32）与所述电机（4）相连。
2. 一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，其特征在于，所述旋转镍铬靶管体（1）与所述支撑架（5）相连处设有固定卡扣（21），所述旋转镍铬靶管体（1）与所述电机（4）相连处设有固定卡扣（22）。
3. 一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，其特征在于，所述电机控制单元可控制所述旋转轴的转速。
4. 一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶，其特征在于，所述固定卡扣可安装拆卸。
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