CN106006920A - 一种印染废水紫外光氧化脱色装置和方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种印染废水紫外氧化脱色装置和方法，属于环保和资源化技术领域，解决了现有技术在印染废水处理色度难去除，处理工艺复杂的技术问题，装置包括原水槽、进水泵、紫外氧化反应器、回用水槽、药剂储槽、加药泵、射流器，本发明利用在一定波长的紫外灯的照射下可以氧化有机酸、卤代脂肪烃等特点，通过氧化印染废水中的有机色团以达到脱色目的。工艺流程简单，运行成本较低，操作管理方便，可广泛应用于各类印染厂排放废水的色度去除。
Description
技术领域
本发明涉及一种印染废水紫外光氧化脱水氧化装置和方法，尤其适合数码印花废水的色度去除，属于环保技术领域。
背景技术
印染废水具有水量大、有机污染物含量高、碱性大、水质变化大等特点，属难处理的工业废水之一，其中废水中含有染料、浆料、助剂等物质造成废水色度较高。
印染废水常见的脱色方法有混凝法、吸附法、臭氧氧化法、膜处理法等。活性炭吸附法优点工艺比较简单，脱色效果好，缺点是不能去除水中的胶体和疏水性染料，同时活性炭再生成本高，吸附饱和后的废弃物形成二次污染。混凝法工艺流程简单、操作管理方便、对疏水性染料脱色效果好；缺点是污染物去除不彻底、需耗费大量混凝剂、对亲水和可溶性染料处理效果差、混凝后产生的污泥会造成二次污染。臭氧氧化法对多数染料能获得较好的脱色效果，但对硫化、还原、涂料等不溶于水的染料脱色效果较差，且耗电大，处理费用高。膜处理法的优点是分离效率高、能耗低、无污染；缺点是设备投资高、易结垢、膜孔易堵塞且清洗困难。
综上所述，色度作为印染废水达标及回用的重要指标之一，目前已有多种脱色的治理技术，但利弊明显。因此，针对印染废水的新型脱色技术需求迫切。
发明内容
本发明针对现有技术的不足，目的在于提供一种印染废水的紫外光氧化脱色装置和方法，解决了现有技术存在的能耗高、效率低、投资大等技术经济问题。
为达到上述目的，本发明提供了一种印染废水紫外光氧化脱色装置，包括原水槽、进水泵、紫外光氧化反应器、回用水槽、药剂储槽、加药泵、射流器，所述原水槽通过进水泵与射流器的进水口相连，药剂储槽通过加药泵与射流器的加药口相连，射流器的出水口与紫外光氧化反应器的进水口相连接，紫外光氧化反应器的出水口与回用水槽相连。
在上述的一种印染废水紫外光氧化脱色装置，所述的紫外光氧化反应器采用波长为185nm或254nm UV灯管组件，根据水质色度的不同，反应器的有效停留时间在10-20min，不同波长灯管的配置比例在20%-60%。
在上述的一种印染废水紫外光氧化脱色装置，根据水质成分的不同，投加药剂可选用SH-1A或SH-2A型液态氧化剂，投加的浓度为30-150mg/L（氧化剂/废水）。
在上述的一种印染废水紫外光氧化脱色装置，所述的装置之间的连接管及管件所采用材质均应具有强抗氧化性能，包括钢、不锈钢、聚四氟乙烯（PTFE）等材质。
本发明还提供了一种印染废水紫外光氧化脱色方法，包括以下步骤：
（1）将原水槽中的印染废水通过进水泵经由射流器打入紫外光氧化反应器中；
（2）药剂储槽中的氧化剂通过加药泵经由射流器与原水进行混合后进入紫外光氧化反应器中；
（3）废水中的有机色团分子与氧化剂充分混合后在紫外灯管的照射下充分反应达到脱色效果；
（4）脱色处理完后的废水进入回用水槽。
在上述的一种印染废水紫外光氧化脱色方法，原料液应进行前处理，所述前处理包括：混凝、沉淀、过滤等。
在上述的一种印染废水紫外光氧化脱色方法，回用水可再连接后处理工艺后达到更优水质后回用，所述后处理包括过滤、吸附、膜过滤等，可选用砂滤、碳滤、膜组件等装置。
与现有技术相比，本发明具有如下优点：
（1）脱色效率高，脱色速度快，适合多种染料废水。
（2）设备简单、操作方便，无二次污染，反应条件温和。
（3）紫外灯耗电较低，因此本发明运行成本低。。
（4）尤其适合印染废水的深度脱色，净化后的水可以回用。
综上所述，本发明在印染废水处理应用中对色度去除效率高，运行费用低，既节约了能源，又保护了环境，可满足印染废水的脱色处理需求。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
图中：1-原水槽、2-进水泵、3-紫外光氧化反应器、4-回用水槽、5-药剂储槽、6-加药泵、7-射流器。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明。
如图1所示，本发明的印染废水紫外光氧化脱色装置，包括原水槽1、进水泵2、紫外光氧化反应器3、回用水槽4、药剂储槽5、加药泵6、射流器7，其中，原水槽1通过进水泵2与射流器7进水口相连，药剂储槽5通过加药泵6与射流器7的加药口相连，射流器7出水口与紫外光氧化反应器3的进水口相连接，紫外光氧化反应器3的出水口与回用水槽4相连。
所述的紫外光氧化反应器3采用波长为185nm或254nm UV灯管组件，根据水质色度的不同，反应器的有效停留时间在10-20min，不同波长灯管的配置比例在20%-60%。
根据水质成分的不同，投加药剂可选用SH-1A或SH-2A型液态氧化剂，投加的浓度为30-150mg/L（氧化剂/废水）。
所述的装置之间的连接管及管件所采用材质均应具有强抗氧化性能，包括但不限于钢、不锈钢、聚四氟乙烯（PTFE）等材质。
本发明的印染废水紫外光氧化脱色的方法，包括以下步骤：
（1）将原水槽中的印染废水通过进水泵经由射流器打入紫外光氧化反应器中；
（2）储药槽中的氧化剂通过加药泵经由射流器与原水进行混合后进入紫外光氧化反应器中；
（3）废水中的有机色团分子与氧化剂充分混合后在紫外灯管的照射下充分反应达到脱色效果；
（4）脱色处理完后的废水进入回用水槽。
原料液应进行前处理，所述前处理包括但不限于混凝、沉淀、过滤等方法。
回用水可再连接后处理工艺后达到更优水质后回用，所述后处理包括但不限于过滤、吸附、膜过滤等方法，可选用砂滤、碳滤、膜组件等装置。
实施例1
测试条件：取印染废水300mL于烧杯中，初始色度为500，加入0.1mL氧化剂，将混合废水以60mL/min的流量打进紫外光氧化反应器里，同时用254nm波长的紫外灯照射，观察其色度的变化，每隔5min测一次色度，累计照射15min，色度从500倍降到50倍，满足回用标准。
实施例2
测试条件：取某印染厂的废水32L，初始色度为300，投加的氧化剂浓度为80ppm，将废水以1.05L/min的流量打进紫外光氧化反应器(体积14L)里，氧化器内置二组185nm UV灯照射，观察其色度的变化，共连续运行30min，出水的色度从300倍降到40倍。
实施例3
测试条件：取某印花厂的废水100L，初始色度为200，投加的氧化剂浓度为50ppm，将废水以1.05L/min的流量打进紫外光氧化反应器(体积14L)里，氧化器内置一组185nm UV灯管和一组245nm UV灯管照射，观察其色度的变化，共连续运行90min，出水的色度从200倍降到30倍。
Claims (7)
1.一种印染废水紫外光氧化脱色装置，包括原水槽（1）、进水泵（2）、紫外光氧化反应器（3）、回用水槽（4）、药剂储槽（5）、加药泵（6）、射流器（7），其特征在于：所述原水槽（1）通过进水泵（2）与射流器（7）的进水口相连，药剂储槽（5）通过加药泵（6）与射流器（7）的加药口相连，射流器（7）的出水口与紫外光氧化反应器（3）的进水口相连接，紫外光氧化反应器（3）的出水口与回用水槽（4）相连。
2.根据权利要求1所述的一种印染废水紫外光氧化脱色装置，其特征在于：所述的紫外光氧化反应器（3）采用波长为185nm或254nm UV灯管组件，根据水质色度的不同，反应器的有效停留时间在10-20min，不同波长灯管的配置比例在20%-60%。
3.根据权利要求1所述的一种印染废水紫外光氧化脱色装置，其特征在于：根据水质成分的不同，投加药剂可选用SH-1A或SH-2A型液态氧化剂，投加的浓度为30-150mg/L。
4.据权利要求1所述的一种印染废水紫外光氧化脱色装置，其特征在于：连接管及管件所采用材质均应具有强抗氧化性能，包括钢、不锈钢、聚四氟乙烯（PTFE）等材质。
5.一种印染废水紫外光氧化脱色方法，包括以下步骤：
（1）将原水槽中的印染废水通过进水泵经由射流器打入紫外光氧化反应器中；
（2）药剂储槽中的氧化剂通过加药泵经由射流器与原水进行混合后进入紫外光氧化反应器中；
（3）废水中的有机色团分子与氧化剂充分混合后在紫外灯管的照射下充分反应达到脱色效果；
（4）脱色处理完后的废水进入回用水槽。
6.根据权利要求5所述的一种印染废水紫外光氧化脱色方法，其特征在于：原料液应进行前处理，所述前处理包括：混凝、沉淀、过滤等。
7.根据权利要求5所述的一种印染废水紫外光氧化脱色方法，其特征在于：回用水可再连接后处理工艺后达到更优水质后回用，所述后处理包括过滤、吸附、膜过滤等，可选用砂滤、碳滤、膜组件等装置。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20161012 |