CN105989210A - 定制化虚拟图案填充方法 - Google Patents

定制化虚拟图案填充方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105989210A
CN105989210A CN201510090145.XA CN201510090145A CN105989210A CN 105989210 A CN105989210 A CN 105989210A CN 201510090145 A CN201510090145 A CN 201510090145A CN 105989210 A CN105989210 A CN 105989210A
Authority
CN
China
Prior art keywords
dummy pattern
domain
user
map layer
territory map
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201510090145.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN105989210B (zh
Inventor
樊强
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp
Original Assignee
Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp filed Critical Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp
Priority to CN201510090145.XA priority Critical patent/CN105989210B/zh
Priority to US15/014,853 priority patent/US9690891B2/en
Publication of CN105989210A publication Critical patent/CN105989210A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105989210B publication Critical patent/CN105989210B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
    • G06F30/30—Circuit design
    • G06F30/39—Circuit design at the physical level
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2119/00—Details relating to the type or aim of the analysis or the optimisation
    • G06F2119/18—Manufacturability analysis or optimisation for manufacturability
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Image Generation (AREA)

Abstract

本发明提供一种定制化虚拟图案填充方法，所述定制化虚拟图案填充方法包括用户版图导入步骤、版图图层映射转换步骤、虚拟图案填充步骤、版图合并步骤以及最终版图输出步骤。其中，所述版图图层映射转换步骤在所述虚拟图案填充步骤之前将用户版图图层映射转换为标准版图图层映射，并在所述虚拟图案填充步骤之后将标准版图图层映射转换为用户版图图层映射；以及所述虚拟图案填充步骤采用标准虚拟图案实用程序进行虚拟图案填充。本发明所提供的定制化虚拟图案填充方法能够基于用户需求快速并准确地创建合格的定制化虚拟图案填充方案，不仅效率高，而且质量有保证。

Description

定制化虚拟图案填充方法
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，具体而言涉及一种定制化虚拟图案填充方法。
背景技术
随着半导体技术趋向于40纳米模式以下，可制造性设计(Designfor Manufacture,DFM)自动填充虚拟图案起到越来越重要的作用。它可以帮助改善图案密度分布、统一器件性能、增强光刻/刻蚀工艺窗口等。有时，不仅需要提供内部标准虚拟图案实用程序(dummyutility)，还需要为用户提供基于用户需求的定制化专用虚拟图案实用程序。对于这样的需求，现有的方法是重新创建虚拟图案脚本，并且因为不同层设置还需针对用户专用虚拟图案实用程序做质量评估(Quality Assessment,QA)，这将耗费大量的时间。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供一种定制化虚拟图案填充方法，所述定制化虚拟图案填充方法包括用户版图导入步骤、版图图层映射转换步骤、虚拟图案填充步骤、版图合并步骤以及最终版图输出步骤。其中，所述版图图层映射转换步骤在所述虚拟图案填充步骤之前将用户版图图层映射转换为标准版图图层映射，并在所述虚拟图案填充步骤之后将标准版图图层映射转换为用户版图图层映射；以及所述虚拟图案填充步骤采用标准虚拟图案实用程序进行虚拟图案填充。
在本发明的一个实施例中，所述版图图层映射转换步骤进一步包括输入用户版图图层映射转换步骤和输出虚拟图案版图图层映射转换步骤。其中，所述输入用户版图图层映射转换步骤将所述用户版图导入步骤所导入的用户版图从用户版图图层映射转换为标准版图图层映射；以及所述输出虚拟图案版图图层映射转换步骤将所述虚拟图案填充步骤后所输出的虚拟图案版图从标准版图图层映射转换为用户版图图层映射。
在本发明的一个实施例中，所述版图图层映射转换步骤在转换时改变版图图层的数字编号。
在本发明的一个实施例中，所述用户版图导入步骤所导入的用户版图未采用标准版图图层映射，而采用用户版图图层映射。
在本发明的一个实施例中，所述用户版图图层映射指的是用户专用图层映射。
在本发明的一个实施例中，所述虚拟图案填充步骤直接引用合格的标准虚拟图案实用程序代码并且不对所述代码进行任何修改。
在本发明的一个实施例中，所述标准虚拟图案实用程序具有按照设计规则设计的标准图层映射表。
在本发明的一个实施例中，所述虚拟图案填充步骤进行虚拟图案填充后得到的虚拟图案版图仅包括采用标准版图图层映射的虚拟图案。
在本发明的一个实施例中，所述版图合并步骤将所述用户版图与经所述输出虚拟图案版图图层映射转换步骤后得到的虚拟图案版图进行合并。
在本发明的一个实施例中，所述最终版图输出步骤输出的最终版图为合并采用所述用户专用图层映射的填充虚拟图案和原始用户版图的版图。
本发明所提供的定制化虚拟图案填充方法能够基于用户需求快速并准确地创建合格的定制化虚拟图案填充方案，不仅效率高，而且质量有保证。
附图说明
本发明的下列附图在此作为本发明的一部分用于理解本发明。附图中示出了本发明的实施例及其描述，用来解释本发明的原理。
附图中：
图1示出了基于模型的虚拟图案实用程序质量评估的流程图；以及
图2示出了根据本发明实施例的定制化虚拟图案填充方法的流程图。
具体实施方式
在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本发明更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本发明可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本发明发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。
应当理解的是，本发明能够以不同形式实施，而不应当解释为局限于这里提出的实施例。相反地，提供这些实施例将使公开彻底和完全，并且将本发明的范围完全地传递给本领域技术人员。
在此使用的术语的目的仅在于描述具体实施例并且不作为本发明的限制。在此使用时，单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也意图包括复数形式，除非上下文清楚指出另外的方式。还应明白术语“组成”和/或“包括”，当在该说明书中使用时，确定所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或更多其它的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或组的存在或添加。在此使用时，术语“和/或”包括相关所列项目的任何及所有组合。
为了彻底理解本发明，将在下列的描述中提出详细的步骤以及详细的结构，以便阐释本发明提出的技术方案。本发明的较佳实施例详细描述如下，然而除了这些详细描述外，本发明还可以具有其他实施方式。
虚拟图案填充方法通常需要将版图文件导入到软件中，借助软件来调用虚拟图案填充脚本以生成合适的虚拟图案。其中，图形数据库系统(Graphic Database System,GDS)是最为常用的版图文件格式，可以用于备份、导入、导出、流片等。在GDS文件中，版图中的层以数字编号来表示。而在软件例如电子设计自动化(Electronic DesignAutomation,EDA)中，层一般会有名称，便于用户使用。因此，例如在GDS文件导入EDA软件，或EDA软件导出GDS文件时，GDS文件中的层的数字编号与EDA软件中的层名称之间需要进行映射。层映射关系可以定义在EDA软件能够识别的工艺文件或映射文件中。通常可以提供按照设计规则设计的标准图层映射表，即标准版图图层映射。
在现有的虚拟图案填充方法中，层映射、虚拟图案填充、输出设置以及密度图(density map)等功能都混合在一个脚本中。当面对用户需求为用户提供定制化虚拟图案填充方案时，需要从内部对脚本代码进行大量修改，以基于标准虚拟图案实用程序创建用户专用虚拟图案实用程序。例如，对于虚拟图案内部代码中的映射部分和输出设置部分等进行大量修改，这将产生超高负荷。与此同时，修改后形成的虚拟图案核心代码需要重新进行完整的质量评估，以确保其不存在违反设计规则等问题。图1示出了基于模型的虚拟图案实用程序质量评估的流程图，如图1所示，完整的质量评估过程相当复杂，其将耗费大量的时间。
基于上述问题，本发明的实施例提供了一种定制化虚拟图案填充方法，该方法包括用户版图导入步骤、版图图层映射转换步骤、虚拟图案填充步骤、版图合并步骤以及最终版图输出步骤。其中，版图图层映射转换步骤在虚拟图案填充步骤之前将用户版图图层映射转换为标准版图图层映射，并在虚拟图案填充步骤之后将标准版图图层映射转换为用户版图图层映射；虚拟图案填充步骤采用标准虚拟图案实用程序进行虚拟图案填充。
具体地，版图图层映射转换步骤可以进一步包括输入用户版图图层映射转换步骤和输出虚拟图案版图图层映射转换步骤。
图2示出了根据本发明实施例的定制化虚拟图案填充方法200的流程图。如图2所示，定制化虚拟图案填充方法200包括用户版图导入步骤201、输入用户版图图层映射转换步骤202、虚拟图案填充步骤203、输出虚拟图案版图图层映射转换步骤204、版图合并步骤205以及最终版图输出步骤206。
其中，在用户版图导入步骤201中所导入的用户版图未采用标准版图图层映射，而采用了用户版图图层映射。用户版图图层映射可以包括用户专用图层映射。换言之，对应于同一层，该用户版图图层映射所采用的层的数字编号与标准版图图层映射中采用的层的数字编号不同。因此，需要适合于该用户版图图层映射的虚拟图案实用程序。
根据本发明的实施例，在输入用户版图图层映射转换步骤202中，将在用户版图导入步骤201中所导入的用户版图从用户版图图层映射转换为标准版图图层映射。具体地，该转换可以包括改变用户版图图层映射所采用的层的数字编号，以使其从用户版图图层映射转变为标准版图图层映射。这样，后续的虚拟图案填充步骤203可以直接引用合格的标准虚拟图案实用程序代码，并得到仅包括采用标准版图图层映射的虚拟图案的虚拟图案版图，该虚拟图案版图可以称为第一虚拟图案版图。由于虚拟图案填充步骤203引用的是合格的标准虚拟图案实用程序代码而不需要进行任何修改，因而提高了工作效率。
根据本发明的实施例，输出虚拟图案版图图层映射转换步骤204将虚拟图案填充步骤203后所输出的虚拟图案版图从标准版图图层映射转换为用户版图图层映射。由于虚拟图案填充步骤203采用合格的标准虚拟图案代码，因此生成的第一虚拟图案版图为标准版图图层映射。与输入用户版图图层映射转换步骤202相对地，输出虚拟图案版图图层映射转换步骤204可以改变第一虚拟图案版图的标准版图图层映射所采用的层的数字编号，将其转换回用户版图图层映射，从而形成采用用户版图图层映射的第二虚拟图案版图。
根据本发明的实施例，版图合并步骤205可以将用户版图与经输出虚拟图案版图图层映射转换步骤后得到的虚拟图案版图进行合并，即将原始用户版图与上述第二虚拟图案版图进行合并。这样，最终版图输出步骤206所输出的最终版图可以为合并采用用户专用图层映射的填充虚拟图案和原始用户版图的版图。
基于本发明实施例的上述定制化虚拟图案填充方法通过层映射关系的转换而直接引用合格的标准虚拟图案实用程序代码，不仅可以快速容易地创建合适的定制化虚拟图案实用程序，还避免了繁琐的质量评估过程，从而进一步提供了工作效率。实验证明，与现有技术相比，基于本发明实施例的上述定制化虚拟图案填充方法可以使创建定制化虚拟图案实用程序的时间减少60％，并且可以使使定制化虚拟图案实用程序检验合格的时间减少80％。
在本实施例中，综合上述各个步骤模块形成的流程图可以通过一个脚本(例如：cshell script)来组织实现，关于该脚本的具体内容在此并不进行限定。
本发明已经通过上述实施例进行了说明，但应当理解的是，上述实施例只是用于举例和说明的目的，而非意在将本发明限制于所描述的实施例范围内。此外本领域技术人员可以理解的是，本发明并不局限于上述实施例，根据本发明的教导还可以做出更多种的变型和修改，这些变型和修改均落在本发明所要求保护的范围以内。本发明的保护范围由附属的权利要求书及其等效范围所界定。

Claims (10)

1.一种定制化虚拟图案填充方法，其特征在于，所述定制化虚拟图案填充方法包括用户版图导入步骤、版图图层映射转换步骤、虚拟图案填充步骤、版图合并步骤以及最终版图输出步骤，其中，
所述版图图层映射转换步骤在所述虚拟图案填充步骤之前将用户版图图层映射转换为标准版图图层映射，并在所述虚拟图案填充步骤之后将标准版图图层映射转换为用户版图图层映射；以及
所述虚拟图案填充步骤采用标准虚拟图案实用程序进行虚拟图案填充。
2.如权利要求1所述的定制化虚拟图案填充方法，其特征在于，所述版图图层映射转换步骤进一步包括输入用户版图图层映射转换步骤和输出虚拟图案版图图层映射转换步骤，其中，
所述输入用户版图图层映射转换步骤将所述用户版图导入步骤所导入的用户版图从用户版图图层映射转换为标准版图图层映射；以及
所述输出虚拟图案版图图层映射转换步骤将所述虚拟图案填充步骤后所输出的虚拟图案版图从标准版图图层映射转换为用户版图图层映射。
3.如权利要求2所述的定制化虚拟图案填充方法，其特征在于，所述版图图层映射转换步骤在转换时改变版图图层的数字编号。
4.如权利要求2所述的定制化虚拟图案填充方法，其特征在于，所述用户版图导入步骤所导入的用户版图未采用标准版图图层映射，而采用用户版图图层映射。
5.如权利要求4所述的定制化虚拟图案填充方法，其特征在于，所述用户版图图层映射指的是用户专用图层映射。
6.如权利要求1所述的定制化虚拟图案填充方法，其特征在于，所述虚拟图案填充步骤直接引用合格的标准虚拟图案实用程序代码并且不对所述代码进行任何修改。
7.如权利要求6所述的定制化虚拟图案填充方法，其特征在于，所述标准虚拟图案实用程序具有按照设计规则设计的标准图层映射表。
8.如权利要求6所述的定制化虚拟图案填充方法，其特征在于，所述虚拟图案填充步骤进行虚拟图案填充后得到的虚拟图案版图仅包括采用标准版图图层映射的虚拟图案。
9.如权利要求1所述的定制化虚拟图案填充方法，其特征在于，所述版图合并步骤将所述用户版图与经所述输出虚拟图案版图图层映射转换步骤后得到的虚拟图案版图进行合并。
10.如权利要求1所述的定制化虚拟图案填充方法，其特征在于，所述最终版图输出步骤输出的最终版图为合并采用所述用户专用图层映射的填充虚拟图案和原始用户版图的版图。
CN201510090145.XA 2015-02-27 2015-02-27 定制化虚拟图案填充方法 Active CN105989210B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510090145.XA CN105989210B (zh) 2015-02-27 2015-02-27 定制化虚拟图案填充方法
US15/014,853 US9690891B2 (en) 2015-02-27 2016-02-03 Method and apparatus for facilitating manufacturing of semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510090145.XA CN105989210B (zh) 2015-02-27 2015-02-27 定制化虚拟图案填充方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105989210A true CN105989210A (zh) 2016-10-05
CN105989210B CN105989210B (zh) 2019-04-09

Family

ID=56798986

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510090145.XA Active CN105989210B (zh) 2015-02-27 2015-02-27 定制化虚拟图案填充方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9690891B2 (zh)
CN (1) CN105989210B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10815008B2 (en) 2017-07-27 2020-10-27 Bell Helicopter Textron Inc. Lift propulsion module for a tiltrotor aircraft
DE102017213060A1 (de) * 2017-07-28 2019-01-31 Siemens Aktiengesellschaft Computerimplementiertes Verfahren und Vorrichtung zum automatischen Generieren von gekennzeichneten Bilddaten und Analysevorrichtung zum Überprüfen eines Bauteils

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101487973A (zh) * 2008-01-14 2009-07-22 台湾积体电路制造股份有限公司 注入虚置图案的方法及掩模
US7801717B2 (en) * 2007-01-22 2010-09-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Method for smart dummy insertion to reduce run time and dummy count
CN103886150A (zh) * 2014-03-20 2014-06-25 上海华力微电子有限公司 一种冗余图形的填充方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007057921A2 (en) * 2005-11-21 2007-05-24 Softjin Technologies Private Limited A method and system for developing post-layout electronic data automation (eda) applications
US8732640B1 (en) * 2011-10-26 2014-05-20 Cadence Design Systems, Inc. Methods, systems, and articles for multi-scenario physically-aware design methodology for layout-dependent effects
US8978000B2 (en) * 2012-12-27 2015-03-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. Performance-driven and gradient-aware dummy insertion for gradient-sensitive array

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7801717B2 (en) * 2007-01-22 2010-09-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Method for smart dummy insertion to reduce run time and dummy count
CN101487973A (zh) * 2008-01-14 2009-07-22 台湾积体电路制造股份有限公司 注入虚置图案的方法及掩模
CN103886150A (zh) * 2014-03-20 2014-06-25 上海华力微电子有限公司 一种冗余图形的填充方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
居水荣: "《集成电路版图设计》", 31 January 2015, 机械工业出版社 *

Also Published As

Publication number Publication date
US20160253447A1 (en) 2016-09-01
US9690891B2 (en) 2017-06-27
CN105989210B (zh) 2019-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102831268B (zh) 支持用户定制的可编程逻辑器件版图快速生成方法
CN107391578A (zh) 一种基于格网法的网络地图服务动态坐标转换方法
EP3676722A1 (en) System and method for enabling multiple parents with weights in a multidimensional database environment
CN104346502B (zh) 一种基于odb++文件转化为可编辑pcb版图的方法
CN106648587A (zh) 一种基于注解的Web应用代码生成方法
CN106844380A (zh) 一种数据库操作方法、信息处理方法和相应装置
CN100561476C (zh) 一种基于asn类型对象的代码生成方法
CN1945691A (zh) 一种在语音合成系统中提升模板句合成效果的方法
CN105373668A (zh) 芯片版图设计方法
CN105446952B (zh) 用于处理语义片段的方法和系统
White et al. Tincr—A custom CAD tool framework for Vivado
CN106126564A (zh) 一种基于动态模板语言渲染的方法
CN106293770A (zh) 一种表数据的通用导表系统和方法
CN105989210A (zh) 定制化虚拟图案填充方法
CN105912723B (zh) 一种自定义字段的存储方法
CN103311103A (zh) 半导体芯片的版图图层设计方法及其掩膜板
CN109977510A (zh) 一种基于gis技术的水文模型网络发布方法
CN101739888B (zh) 专题地图的分级设色方法和装置
JP2006190149A (ja) 半導体集積回路の低消費電力設計方法
CN107391044A (zh) 一种云硬盘的创建方法及创建装置
CN110287349A (zh) 图形生成方法、装置、介质及终端
Yang et al. [Retracted] AHP‐Based Analysis Factors Influencing the Construction of a Smart City with Three‐Dimensional Regional Color
CN102779036B (zh) 用于自动化技术的软件工具
Basu From design to tape-out in scl 180 nm cmos integrated circuit fabrication technology
CN103164252A (zh) 一种由序列图生成Java代码框架的方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant