CN105797997A - 一种二极管除胶清洗装置 - Google Patents

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    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/30Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
    • B08B1/32Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

本发明公开了一种二极管除胶清洗装置,包括主体,所述主体由上板、清洁腔和下板构成,该上板的中部设置有喷头,所述喷头的一端与水泵连接,水泵的一端通过水管与水箱连接,所述清洁腔的中部设置有旋转杆,该旋转杆的中部设置有旋转毛刷,且旋转杆的一端穿过下板与电机连接,所述下板的顶部一侧设置有集水槽。该二极管除胶清洗装置,采用设置清洁腔、喷头、旋转杆、旋转毛刷、转轮、移动板和固定块,相互配合使用,有效的方便了对二极管上的胶块进行清理和清洁,防止了对晶粒的二次污染,减少了工作量,同时增加了工作效率;整个装置,操作简单,使用方便,实用性强,加强了二极管的清理和清洁,提高了工作校率。

Description

一种二极管除胶清洗装置
技术领域
本发明涉及二极管制造技术领域,具体为一种二极管除胶清洗装置。
背景技术
在生产二极管时,需要对二极管进行上胶,上胶过程中,常常会出现二极管的某一侧多一点胶,导致返工现象的出现,一般这种去胶方法是:人工用布料对二极管上的胶进行擦除,而布料擦除容易掉毛绒、不干净,从而在擦胶过程中,特别容易造成晶粒的二次污染,对二极管生产产生很大隐患;同时采用人工去胶,工作效率低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种二极管除胶清洗装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种二极管除胶清洗装置,包括主体,所述主体由上板、清洁腔和下板构成,该上板的中部设置有喷头,所述喷头的一端与水泵连接,水泵的一端通过水管与水箱连接,所述清洁腔的中部设置有旋转杆,该旋转杆的中部设置有旋转毛刷,且旋转杆的一端穿过下板与电机连接,所述下板的顶部一侧设置有集水槽,该集水槽的顶端通过漏水管与移动板连接,所述漏水管的一侧设置有转轮,所述转轮的一侧设置有连接杆,该连接杆的一端与电机连接,所述转轮的顶端设置有移动板,该移动板的中部设置有固定块。
优选的,所述喷头的一端贯穿上板并延伸至上板的顶端与水泵连接,该水泵和水箱均设立于上板的顶部,且水泵位于水箱的一侧。
优选的,所述旋转杆与上板的连接处设置有旋转座,且旋转杆为两组,两组旋转杆对称设立于清洁腔的内部,两组旋转杆表面套接的旋转毛刷之间留有间隙,每组旋转杆不少于三个,且等距离设立于清洁腔的内部。
优选的,所述移动板为U形,且移动板为中空结构,该固定块两侧的移动板上表面设置有漏水孔,漏水管位于移动板的底部一侧,且漏水管与移动板的内腔连通。
优选的,所述下板为中空结构,电机位于下板的内腔,且电机之间设置有水箱,水箱的一侧顶端通过水管与集水槽连通。
优选的,所述转轮为两组,两组转轮对称设立于移动板的底端,每组转轮不少三个,且等距离设立于下板的顶部。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:该二极管除胶清洗装置,采用设置清洁腔、喷头、旋转杆、旋转毛刷、转轮、移动板和固定块,相互配合使用,有效的方便了对二极管上的胶块进行清理和清洁,防止了对晶粒的二次污染,减少了工作量,同时增加了工作效率;采用设置集水槽和漏水管,相互配合使用,有效的对废胶块和废水的收集,进一步的对工作环境进行了保护;整个装置,操作简单,使用方便,实用性强,加强了二极管的清理和清洁,提高了工作效率。
附图说明
图1为本发明结构示意图。
图中:1主体、2上板、3清洁腔、4下板、5喷头、6旋转杆、7旋转毛刷、8集水槽、9漏水管、10转轮、11移动板、12固定块。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1,本发明提供一种技术方案:一种二极管除胶清洗装置,包括主体1,主体1由上板2、清洁腔3和下板4构成,该上板2的中部设置有喷头5,喷头5的一端与水泵连接,水泵的一端通过水管与水箱连接,喷头5的一端贯穿上板2并延伸至上板2的顶端与水泵连接,该水泵和水箱均设立于上板2的顶部,且水泵位于水箱的一侧,清洁腔3的中部设置有旋转杆6,该旋转杆6的中部设置有旋转毛刷7,旋转杆6与上板2的连接处设置有旋转座,且旋转杆6为两组,两组旋转杆6对称设立于清洁腔3的内部,两组旋转杆6表面套接的旋转毛刷7之间留有间隙,该间隙用来放置二极管,每组旋转杆6不少于三个,且等距离设立于清洁腔3的内部,且旋转杆6的一端穿过下板4与电机连接,下板4为中空结构,电机位于下板4的内腔,且电机之间设置有水箱,水箱的一侧顶端通过水管与集水槽8连通,下板4的顶部一侧设置有集水槽8,该集水槽8的顶端通过漏水管9与移动板11连接,移动板11为U形,且移动板11为中空结构,该固定块12两侧的移动板11上表面设置有漏水孔,漏水管9位于移动板11的底部一侧,且漏水管9与移动板11的内腔连通,采用设置集水槽8和漏水管9,相互配合使用,有效的对废胶块和废水的收集,进一步的对工作环境进行了保护,漏水管9的一侧设置有转轮10,转轮10为两组,两组转轮10对称设立于移动板11的底端,每组转轮10不少三个,且等距离设立于下板4的顶部,转轮10的一侧设置有连接杆,该连接杆的一端与电机连接,转轮10的顶端设置有移动板11,该移动板11的中部设置有固定块12,固定块12的顶部设置有安装二极管的槽体,采用设置清洁腔3、喷头5、旋转杆6、旋转毛刷7、转轮10、移动板11和固定块12,相互配合使用,有效的方便了对二极管上的胶块进行清理和清洁,防止了对晶粒的二次污染,减少了工作量,同时增加了工作效率。
工作原理:使用时,将二极管放置于固定块12顶端,开启电机和水泵,水泵将水箱的水通过喷头5喷进清洁腔3中,电机带动转轮10转动,将移动板11进行移动,电机带动旋转杆6和旋转毛刷7转动,旋转毛刷7对二极管进行清理和清洁,一些废块和废水进入移动板11的内腔,通过漏水管9和集水槽8进入下板4内腔的水箱中。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种二极管除胶清洗装置,包括主体(1),其特征在于:所述主体(1)由上板(2)、清洁腔(3)和下板(4)构成,该上板(2)的中部设置有喷头(5),所述喷头(5)的一端与水泵连接,水泵的一端通过水管与水箱连接,所述清洁腔(3)的中部设置有旋转杆(6),该旋转杆(6)的中部设置有旋转毛刷(7),且旋转杆(6)的一端穿过下板(4)与电机连接,所述下板(4)的顶部一侧设置有集水槽(8),该集水槽(8)的顶端通过漏水管(9)与移动板(11)连接,所述漏水管(9)的一侧设置有转轮(10),所述转轮(10)的一侧设置有连接杆,该连接杆的一端与电机连接,所述转轮(10)的顶端设置有移动板(11),该移动板(11)的中部设置有固定块(12)。
2.根据权利要求1所述的一种二极管除胶清洗装置,其特征在于:所述喷头(5)的一端贯穿上板(2)并延伸至上板(2)的顶端与水泵连接,该水泵和水箱均设立于上板(2)的顶部,且水泵位于水箱的一侧。
3.根据权利要求1所述的一种二极管除胶清洗装置,其特征在于:所述旋转杆(6)与上板(2)的连接处设置有旋转座,且旋转杆(6)为两组,两组旋转杆(6)对称设立于清洁腔(3)的内部,两组旋转杆(6)表面套接的旋转毛刷(7)之间留有间隙,每组旋转杆(6)不少于三个,且等距离设立于清洁腔(3)的内部。
4.根据权利要求1所述的一种二极管除胶清洗装置,其特征在于:所述移动板(11)为U形,且移动板(11)为中空结构,该固定块(12)两侧的移动板(11)上表面设置有漏水孔,漏水管(9)位于移动板(11)的底部一侧,且漏水管(9)与移动板(11)的内腔连通。
5.根据权利要求1所述的一种二极管除胶清洗装置,其特征在于:所述下板(4)为中空结构,电机位于下板(4)的内腔,且电机之间设置有水箱,水箱的一侧顶端通过水管与集水槽(8)连通。
6.根据权利要求1所述的一种二极管除胶清洗装置,其特征在于:所述转轮(10)为两组,两组转轮(10)对称设立于移动板(11)的底端,每组转轮(10)不少三个,且等距离设立于下板(4)的顶部。
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