CN105793736B - 用于制造对比度增强支撑体的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于制造对比度增强支撑体(SAC')的方法,所述对比度增强支撑体包括吸收性基底(SA),所述吸收性基底承载至少一个吸收性层(CA'),所述方法包括用于所述支撑体的设计步骤并且包括下列步骤:i)选择光照波长λ;ii)选择构成所述基底的材料,该材料在所述光照波长λ下显示出复折射率N0=n0‑jk0,其中k0≥0.01;iii)选择环境介质,该环境介质在与所述基底相对的侧与所述层接触,并且在所述光照波长λ下显示出复折射率N3=n3‑jk3,其中k3≥0;iv)确定所述层的名义复折射率N1=n1‑jk1和名义厚度e1,其使得所述层在受到波长为所述光照波长λ的垂直入射的光照时充当防反射层;以及v)选择构成所述层的材料,该材料在所述光照波长λ下显示出复折射率,该复折射率的实部和虚部与所述名义复折射率的实部和虚部一致。
Description
技术领域
本发明涉及用于制造对比度(contraste)增强支撑体的方法。
本发明能够应用于各种技术领域,例如生物学(检测生物分子或微生物、观察细胞培养)、纳米技术(检视纳米物体,例如纳米管)、微电子学、材料科学等。
背景技术
使用防反射层(或“λ/4”层)来增加通过反射光学显微镜观察到的物体的光学对比度是一种已为人所知多年的非常强大的技术;特别地,其使得Langmuir和Blodgett在1937年首次观察到了分子行走(marches moléculaires),而最近,其还使得Novoselov等检视到了石墨烯层。
令I为由设置在支撑体上的待观察的物体所反射的发光强度(l’intensitélumineuse),并且令Is为由支撑体自身反射的发光强度;则,对该样本的观察的对比度等于C=(I-Is)/(I+Is)。可以理解,在Is=0时(也即,当支撑体反射率为零时),或者当受支撑的物体反射率为零时,该对比度的绝度值取其最大值(等于1)。在最简单的情况下,通过使用透明基底充当支撑体,在透明基底上沉积同样透明的薄层,恰当地选择薄层的厚度和折射率(l'indice de réfraction),而使得条件Is=0得到满足。对于单个的防反射层,受到具有透明且半无限(semi-infinis)的入射介质(光照源自于该入射介质)以及透明且半无限的出射介质(基底)的垂直入射的光照的情况而言,得到了下列条件:
n1e1=λ/4 (1b)
其中,n1是该层的折射率(实),n0和n3是入射和出射介质的折射率(也为实),e1是该层的厚度,而λ是光照波长。
对于给定的入射和出射介质,等式(1a)以一一对应的方式确定防反射层的折射率。然而,该折射率可能会并不对应于常用的材料,或者并不对应于满足与所考虑的特定应用相关的各类约束条件的材料。例如,对于空气-玻璃界面(对这种情况的实际兴趣是显然的),我们得到n1≈1.27,从而需要使用复合材料,例如气凝胶。
本发明旨在克服现有技术的该缺陷。
为实现该目的,本发明提出,使用展现出复折射率的吸收性防反射层。与折射率虚部的存在相关联的额外的自由度能够减少折射率的实部的值所受到的约束。另外,虽然修改材料的折射率的实部是困难的,但是,修改其虚部是相对简单的(例如,通过引入吸收性或漫射(diffusantes)杂质,漫射“效仿”了吸收)。
应当注意——对于常规的“λ/4”层——对比度的增加是源自于涉及在入射介质/层界面以及层/出射介质界面的多重反射的干涉效应。现在,在该层内部的光的吸收趋于消除在这些多重反射之间的干涉。从而,这种“吸收性防反射层”的概念初看起来与直观相悖。
S.G.Moiseev和S.V.Vinogradov的论文“Design of Antireflection CompositeCoating Based on Metal Nanoparticle”,Physics of Wave Phenomena,2011,Vol.10,No.1,第47–51页研究了沉积在透明基底上的弱吸收性薄膜为了在垂直入射下(光照穿过空气执行)抵消在空气-基底界面处的反射而必须满足的条件。该文献还描述了由包含金属纳米粒子的复合材料制备的近似满足这些条件的吸收性薄层。该层减少了在空气-基底界面处的反射,但是不会将其完全抵消。此外,通过对限于具有非常弱的吸收性的材料进行的分析研究,该层的工作方式已经得到了展示,但是该结果难以一般化。另外,这样的涂层并不旨在实现对比度增强支撑体。
下列论文:
-M.A.Kats等人“Nanometre optical coatings based on strong interferenceeffects in highly absorbing media”,Nature Materials,Vol.12,January 2013,第20–24页;以及
-R.M.A.Azzam等人“Antireflection of an absorbing substrate by anabsorbing thin film at normal incidence”,Applied Optics,Vol.26,No.4,第719–722页(1987)
公开了沉积在吸收性基底上的同样为吸收性的防反射层。同样地,描述仅是对特定的情况进行,这些情况难以一般化。此外,在M.A.Kats等人的论文的情形中,仅部分地消除了反射。
文献US 5,216,542公开了一种用于玻璃基底的防反射涂层,该防反射图层包括在基底的(旨在接受光照的)正面的、包括透明层和TiNx的吸收性层的多层结构,以及在所述基底的背面的、单个的TiNx的吸收性层,然而,该单个的TiNx的吸收性层的厚度并不具有能确保零反射率的性质,而只是确保低反射率。这样的涂层并不旨在实现对比度增强支撑体。
根据本发明,对比度增强支撑体包括同为吸收性的基底。这样的配置对于微电子领域中的应用尤其合适。与上述的M.A.Kats等人和R.M.A.Azzam等人的论文相比,对于任何(吸收性或透明的)入射介质,本发明能够制造适用于任何吸收性基底的吸收性防反射层。
另外,如下文所述的吸收性防反射层还适合于除了对比度增强之外的应用——实际上,其适合于任何在存在源自于透明或吸收性环境介质的光照时,希望消除或减弱光在吸收性基底与所述环境介质之间的反射的情况。
发明内容
本发明的目标因此为,一种用于制造对比度增强支撑体的方法,所述对比度增强支撑体包括吸收性基底,所述吸收性基底承载至少一个吸收性层,所述方法包括用于所述支撑体的设计步骤以及根据所述设计步骤的支撑体硬件制造步骤,其特征在于,所述设计步骤包括下列步骤:
i)选择光照波长λ;
ii)选择构成所述基底的材料,该材料在所述光照波长λ下显示出复折射率N0=n0-jk0,其中k0≥0.01并且优选k0≥0.1;
iii)选择环境介质,该环境介质在与所述基底相对的侧与所述层接触,并且在所述光照波长λ下显示出复折射率N3=n3-jk3,其中k3≥0;
iv)确定所述层的名义(nominal)复折射率N1=n1-jk1和名义厚度e1,使得所述层在受到波长为所述光照波长λ的垂直入射的光照时充当防反射层;以及
v)选择构成所述层的材料,该材料在所述光照波长λ下显示出复折射率,该复折射率的实部和虚部至多在小于或等于5%的容差下与所述名义复折射率的实部和虚部一致,优选至多在小于或等于0.3%的容差下与所述名义复折射率的实部和虚部一致;
其中,在所述步骤iv)中,所述名义复折射率和所述名义厚度选择为满足下列条件:
a)
b)
c)κ1≤ν1,以及
d)k1≥0.15
其中:
-
-
-α03=n0/n3;以及
-对于i=0,1,3,
所述吸收性层可以由例如金属的导电材料制备,而所述基底可以由半导电材料制备。或者相反地,所述吸收性层可以由半导电材料制备,而所述基底可以由例如金属的导电材料制备。
常规上认为,当材料在波长λ下的折射率的虚部小于0.01、或甚至小于0.001、或甚至小于0.0001时,该材料对于该波长是透明的。
附图说明
通过阅读参考所附附图给出的说明书,本发明的其他特征、细节和益处将显现出来,附图以示例的方式给出,并且分别表示:
-图1,由两个半无限介质之间的薄层构成的结构;
-图2A至图2D,示出吸收性防反射层的折射率的实部与虚部之间的关系的图;
-图3A至图3C,示出吸收性防反射层的厚度与折射率的虚部之间的关系的图;
-图4A至图4F,示出吸收性防反射层的厚度与反射比(4A-4D)或吸光度(4E、4F)之间的关系的图;
-图5A和图5B,示出对样本的观察的对比度的图,所述对比度是借助于包括吸收性防反射层的支撑体而获得的;
-图5C和图5D,示出对厚度不同样本的观察的对比度的图,所述对比度是借助于包括吸收性防反射层的支撑体而得到的;
-图6,包括吸收性防反射层的对比度增强支撑体的一个应用;
-图7A至图7E,用于检测或分析至少一种化学或生物物质的方法;以及
-图8,应用了吸收性基底的根据本发明的一个实施方案的对比度增强支撑体。
具体实施方式
图1示出了波长为λ的单色平行光束FL(可以局部地将其认为是平面波),其垂直入射在这样的结构上,所述结构包括:所谓的入射半无限介质MI,光束源自于该入射半无限介质,该入射半无限介质是透明的且其特征为实折射率n0;吸收性层CA,其厚度为e1,特征为复折射率N1=n1-jk1(“j”是虚数单位);以及所谓的出射半无限介质ME,其位于该层的与光源起的一侧相对的一侧,该出射半无限介质是透明的且其特征为实折射率n3<n0。入射介质可以特别地是基底,例如由玻璃制备的基底,而层CA沉积于其上。在层CA上,在出射介质侧,可以沉积具有实折射率n2(或复折射率N2=n2-jk2)的样本(未示出)。如上文所解释的那样,为了最大化观察样本的对比度,需要抵消入射介质MI/层CA/出射介质ME组件在不存在样本时的反射比(réflectance)。
图1所示的类型的结构(厚度为e1的层位于两个半无限介质之间)的复反射系数由艾里(Airy)公式给出:
其中,rij是界面i-j处的菲涅尔系数(j=0、1或3,“0”对应于入射介质,“1”对应于层CA,而“3”对应于出射介质),β1=2πn1e1cosθ1/λ是与所述层相关联的相位因数,θ1是层中的折射角。首先,考虑具有实折射率n1的透明层,将在之后处理对于吸收性层的情形的一般化。另外首先,还考虑入射可以是不垂直的。
“p”(TM)和“s”(TE)偏振的菲涅尔系数为:
以及
防反射条件对应于r013=0,其在透明介质(实折射率)的情况下给出两组解:
-所谓的“λ/2”层,其中m为整数,该“λ/2”层仅当n0=n3时存在;以及
-所谓的“λ/4”层,其中(p为整数)。
在介质1(层CA)是吸收性的情况下,其折射率N1=n1-jk1是复数;折射角(此时表示为Θ1)以及相位系数(B1)也是复数。在该情况下,r013=0要求:r01,sr13,p=r01,pr13,s;该等式仅在下列三个条件中的一个满足时为真:Θ1=0(垂直入射),N1 2=n0 2(没有层)或n0 2=n3 2(入射介质和出射介质完全相同)。因此,对于任意的极端介质,仅在垂直入射时可以满足防反射条件。已知r011,p=-r01,s和r13,p=-r13,s,则公式(2)变为:
等式(3)是超越方程,不容许有解析解。然而,可以找到对应于极端情况的解:强吸收性层和弱吸收性层。
对于强吸收性的情况,可以假设e1<<λ,因为光不会传播穿过吸收性非常强且很厚的层;因此,|B1|<<1,然后则可以写至B1的第二阶:其中δ1=(2πn0/λ)e1。将等式的实部和虚部分开是有用的,使用“约化(réduites)”变量和也是有用的。等式(3)则可以写成下列方程组的形式:
考虑到δ1必须是实数且是正的,则有条件n0>n3(“倒置结构(géométrie inversée)”)。通过令n0=1.52且n3=1.34(从而对应于在生物光子学中常用的玻璃/水的情况)得到了纳米量级的厚度e1=(λ/2π)(n0-n3)/2n1k1,从而符合最初的假设。有趣(且意料不到)的是,由于κ1(并因此k1)趋于零,等式(4a)趋于常规的折射率条件。与数值结果的比较可以验证等式(4a)对于任何k1值都是近似有效的,尽管该等式是在强吸收性层的假设下推导的。另一方面,基于等式(4b)得到的e1的值并不趋于λ/4n1;因此,等式(4b)并不具有一般的有效性。
对于弱吸收性的情况,我们令Β1=π/2-ε1(其中,ε1是复变量),从而意味着:则可以写出κ1至第二阶:
在实践中,等式(5a)(其有效域被证实为非常有限)不太受关注,这是因为如上所述,等式(4a)构成了对于任意的k1值的令人满意的近似。这在图2中示出,图2显示了ν1(κ1)关系;对应于等式(3)的数值解和对应于等式(4a)的曲线是不能分辨的。图2B显示了等式(4a)相对于数值解的按百分比计的误差:可以看到,该误差非常小。图2C和图2D是图2A的放大图,这使得能够更详细地研究弱吸收机制;在这些图中,曲线c4a对应于对强吸收性有效的等式(4a),曲线c3对应于等式(3)的数值解,曲线c5a对应于等式(5a),而曲线c5a'对应于截断到一阶的等式(5a)。可以看到,对于较小的κ1值,等式(5a)及其一阶版本实际上构成了比等式(4a)更好的近似,但是等式(4a)在所有情况下仍保持为相当好的近似,而等式(5a)则很快就丧失了任何相关性。
图3A和图3B示出了δ1(κ1)关系;曲线cN对应于等式(3)的数值解,曲线c4b对应于对于较大的k1有效的等式(4b),而曲线c5b对应于等式(5b)。可以看到,在该情况下,对于较大的k1得到的解并不构成对于较小的κ1的可接受的近似。另一方面,存在着被证明为在所有情况下都令人满意的半经验公式(对应于曲线c6b)。图3C示出了该半经验解相对于数值解的误差:该误差从未超过3.5%。该半经验解由下面的等式(6b)给出;等式(6a)就是等式(4a),如上所述,等式(4a)可以被认为是一般化的并且甚至对于较小的κ1可以用来替换等式(5b):
其中,
图4A显示了对于κ1的各个值的作为δ1的函数的反射比曲线;图4B显示了作为1/δ1的函数的反射比曲线。由于1/δ1正比于λ,图4B示出了给定基底的反射比是如何作为光照波长的函数而变化的。可以注意到,尺寸被加工为在波长λ工作的吸收性防反射层在波长λ'>λ也减弱反射。这使得还能够在多色光照下使用这些支撑体;在后一种情况中,合适的是,针对用于光照的最小波长来对吸收性防反射层的尺寸进行加工。
图4C和图4D分别是图4A和图4B的放大图,更具体地显示了低反射比区域。图4E和图4F显示了对于κ1的各个值的、分别作为δ1和1/δ1的函数的吸光度(d’absorbance)曲线。
图4A至图4D显示了,吸收性防反射层的约化厚度δ1越小,该吸收性防反射层的折射率的约化虚部κ1越重要。换言之,层的吸收性越强,其就必须越薄。曲线4E和4F能够验证,由等式(6b)给出的在厚度δ1下的吸光度实际上独立于κ1,并且等于约0.1。
在上述的G.Moiseev和S.V.Vinogradov的论文中,其研究了用在非倒置配置(光照源自于折射率较低的介质)下的吸收性防反射层;他们发现,厚度越大,该层的折射率的虚部越大,导致吸光度随着该虚部而快速增加。在这些条件下,防反射层仅对于非常小的k1值存在,从而使用吸收性非常强的防反射层充当对比度增强层是不可能的。而在本文考虑的情况中,并未出现该问题。
图5A至图5D使得能够对通过包括如上所述的吸收性防反射层的支撑体而实现的样本观察的对比度进行研究。我们考虑玻璃基底、由水构成的出射介质(n0/n3=1.14)以及由折射率为n2=1.46的透明层构成的样本。图5A显示了,对于与图4A-图4F中所考虑的κ1的值相同的κ1的值(κ1=0(非吸收性防反射层,不构成本发明的内容),0.1,0.3,0.6,1和2),作为约化厚度δ1的函数的对厚度为e2=1nm的样本的观察的对比度C的值。图5B显示了作为1/δ1的函数的该对比度的值。
我们注意到:
-只有非吸收性层能够使对比度发生真正的倒转(暗的样本在亮的背景上);层κ1=0.1也发生了类似的倒转,但是仅在非常低的对比度水平上;
-κ1越大,对比度尖峰的宽度越小——因此,防反射层的约化厚度的容差越小。对于待观察物体的厚度为1nm的情况,对于κ1=0.1,即使在δ1与其最优值偏离±10%时,对比度仍是可接受的(0.4),但是对于κ1=1,该容差很难超过1%。
图5C和图5D能够研究样本的厚度的影响:它们显示了κ1=0.1时,在e2=1nm、0.1nm和0.01nm(这些是样本的有效厚度,所述样本由设置在对比度增强层表面上的稀疏的原子或分子构成)的情况下,分别作为δ1和1/δ1的函数的对比度C的值。我们注意到,对比度C可以始终达到值1,但是厚度e2越小,δ1的容差就减小得更多。特别的,由于δ1等量地依赖于吸收性防反射层的厚度和光照波长,所以对于非常薄的样本,有益的是,精细地调整波长以便使对比度最大化。
同样会有益的是,选择光照波长和/或吸收性防反射层的厚度,使得δ1稍稍大于其最优值,从而使对比度变为物体的厚度的单调函数,以便能够对物体进行测绘(cartographie)。
图6表示了一个对比度增强支撑体SAC,该对比度增强支撑体包括:用作入射介质的透明基底SS,其由例如玻璃制备;防反射吸收性层CA,其沉积在所述基底上并且与出射介质ME(例如,水溶液或空气)接触。在出射介质侧,样本ECH沉积在层CE的一部分上。该基底受到光束FL的垂直入射的光照,在这里所考虑的示例中,该光束是通过透镜LE而聚焦在防反射层的水平的、具有高斯分布的激光束。确实已知的是,高斯束在其聚焦区(“束腰”)显示出平面相位的波前,而因此可以在局部当做平面波(上面理论展开中所考虑的情况)。半透明镜MST使基底SS/层CA/样本ECH/出射介质ME的组件所反射的光的一部分偏离,将其导向物镜LO,使得能够观察所述样本。该观察可以通过扫描或“全视场”完成。作为变化形式,可以使用平行的光束或远心检视系统。应当注意,入射光的空间相干性和其偏振状态无关紧要。另一方面,如果希望观察强度对比度,使用窄带光照是合适的;多色光照会导致关于强度的对比度不如关于颜色的对比度那么大(观察到的样本具有与背景颜色不同的颜色、且根据样本厚度具有不同颜色)。
在图6的设置中,透镜LO和LE可以互换。另外,有用的是,基底正面上的寄生反射可以通过诸如下列各项的技术减弱:浸入在油中,在正面与背面之间存在斜角,空间滤波器,常规的防反射处理。
为了设计图6所示的类型的对比度增强支撑体,可以按下述方式进行:
-首先,根据所考虑的应用或者各种技术限制,确定光照波长(或者如果光照是多色的,则为最小光照波长)λ。
-接下来,选择旨在构成基底的第一材料以及旨在构成“环境介质”或“出射介质”的材料。通常,对环境介质的选择由所考虑的应用确定(对于生物应用而言,一般是水溶液);对于构成基底的材料的选择由技术考虑和在波长λ下n3<n0的限制决定。通常,选择的是玻璃基底,以及由空气(比例n3/n0在1.45与1.7之间)或水(比例n3/n0在1.1与1.3之间)构成的环境介质。
-之后,使用等式(6a)来确定将构成吸收性防反射层的材料的折射率的实部和虚部联系起来的关系。然后,选择或设计满足该关系的材料。例如,可以根据各类技术考虑选择透明起始材料,例如聚合物;将其折射率的实部作为强制数据;并且,通过添加杂质(染料、纳米粒子……)来修改所述折射率的虚部,以便满足等式(6a)。
-最后,通过应用等式(6b)(或构成其实际情况的,等式(4b)或(5b)中的一个)来确定所述层的厚度。
接下来,通过常规技术来进行支撑体的制造,例如旋转涂布、浸入涂布、辊式涂布、沉降或蒸发涂布;化学或物理气相沉积、离子注入、电解沉积等。
吸收性防反射层可以是金属的(尤其是金的)、半导电的、非金属导电的、由包含颜料或染料的聚合物制备的、由包含色心的无机(矿物)材料制备的等。在适于制造吸收性防反射层的半导电材料之中可以提到:锗(用于近紫外(UV)应用,例如在354nm)、TiO2(同样在近UV)、硅化钼、硅化镍或硅化钛(在可见光段)、硅化钨(在近红外或近UV)、硅化锆(在可见光段或近UV)、钽或钒(在可见光段)等。吸收性防反射层还可以包含金属纳米粒子。其可以是磁性的,这对于对同样是磁性的样本的研究是有意义的。使用导电的层(无论是否为金属的)使得能够将受控的电势差施加到样本和/或能够进行“电化学成像”,电化学成像能够研究电沉积、腐蚀、催化等现象。一个尤其有意义的变化形式包括,制作单片的支撑体,在该单片的支撑体中,防反射层是在基底的表面上的注入的杂质(例如通过离子注入)的层;这样的基底可以进行清洁和再使用,而不存在损害该层的危险。“吸收性”防反射层并不必须是常规意义上的吸收性:作为变化形式,其可以是漫射层,漫射“效仿”吸收并且能够同样地通过复折射率建模。
诸如上述的对比度增强基底还能够制造用于检测和/或分析化学或生物物质(d'espèces)的生物芯片(biopuces)。例如,如图7所示,能够在对比度增强层CA上沉积功能层CF。该功能层被放置为接触溶液S(例如,水溶液),该溶液包含待检测的化学或生物物质ECD。待检测的化学或生物物质被功能层固定,并且形成附加的薄层CE,该附加的薄层构成了待观察的样本。在实践中,对于生物芯片而言,将沉积数个不同的功能垫,从而能够选择性地固定不同的化学或生物物质。在上述条件下,通过使用显微镜观察生物芯片,能够简单地识别出溶液中实际存在的物质。在某些实施方案中,一个相同的层可以同时实施选择性固定的化学功能以及对比度增强的光学功能。
优选地,在垫外可以设置避免固定包含在所述溶液中的任何化学或生物物质的钝化层(“化学钝化”)。可以使用例如聚乙二醇、氟化聚合物或氟化烷基,例如,对于金的情况而言通过硫醇而功能化。在制造了垫之后,该钝化层可以以气相或液相沉积。作为变化或补充形式,可以使用不连续的吸收性防反射层,其仅与垫相对应地存在(或显示出最优厚度);则此时称之为“光学钝化”。
当希望检测或沉积化学或生物物质时,还可以使用仅设置有功能层CF的基底。在该情况下,吸收性防反射层由被所述层CF固定的那些物质构成。
根据第一实施方案,如图7B所示,功能层被放置为接触包含待检测或分析的化学或生物物质ECD的溶液,该待检测或分析的化学或生物物质已由金属纳米粒子NPM标记并且能够固定在所述功能层上,从而形成金属层CM。该层实际上会是不连续的,但是其在可见光波长(几百纳米)的尺度上呈现为连续的,其具有有效厚度和有效折射率,该有效厚度可以是纳米粒子直径的一部分。观察以上述方式进行,如此构成的金属层既用作对比度增强层也用作样本。对于确定的溶液与功能层接触的时间,金属层的厚度取决于化学或生物物质的含量,从而能够进行分析。
作为变化形式,金属纳米粒子可以替换为吸收性标记物,例如荧光分子(注意,利用的并不是荧光本身,而是强吸收性的荧光分子)。
第一实施方案的缺点是,仅能够检测标记了的化学或生物物质。下面的实施方案不具有该缺点。
根据第二实施方案(图7C),功能层被放置为接触包含待检测或分析的化学或生物物质的第一溶液S1,从而形成所谓中间层CI。该中间层是不可观察的。为显示该层,其被放置为接触第二溶液S2,该第二溶液包含所谓辅助化学或生物物质ECA,该辅助化学或生物物质由金属纳米粒子(或吸收性标记物)标记并且能够固定在所述中间层上,从而形成金属(或吸收性)层CM。
如果存在的待检测的物质量不足以使得功能层饱和,而另一方面存在过量的辅助物质,则该技术可以是定量的。在该情况下,层CM的有效厚度和有效折射率(并且因此观察到的光照信号的强度)将取决于待检测的物质的浓度。
只有在待检测的化学或生物物质显示出至少两个活性位点时,才能使用该第二实施方案;因此,该第二实施方案不能应用于例如半抗原。此外,其实施相当的复杂。
下面的实施方案不具有该缺点。
根据第三实施方案(图7D),功能层被放置为接触包含所谓中间物质ECI的化学或生物物质的第一溶液S1,该中间物质已由金属纳米粒子或吸收性标志物标记并且能够固定在所述功能层上,从而形成所述连续或不连续的金属或吸收性层CM。接下来,如此得到的组件被放置为接触包含待检测或分析的化学或生物物质的第二溶液S2,所述待检测或测定的化学或生物物质显示出比所述中间物质更强的与所述功能层的亲和性。从而,中间物质被替换,并且所述金属或吸收性层被至少部分地去除,这由光照信号的增强所证实。该技术既应用于对目标物质的定性水平的检测,也应用于对目标物质的定量水平的分析。该方法的一个益处在于,其两个步骤是可以是分离的:可以在层CM已经形成的情况下,使支撑体准备好用作化学或生物传感器。
根据第四实施方案(图7E),所述功能层被放置为接触包含待分析的化学或生物物质、以及所述竞争化学或生物物质ECC的溶液S,两种物质中的一种(优选竞争物质)由金属纳米粒子或吸收性标记物标记。从而,得到了金属或吸收性层CM,其有效厚度和有效折射率取决于所述竞争化学或生物物质与所述待分析的化学或生物物质的浓度比。如同在其他实施方案中的一样,信号取决于该有效厚度和该有效折射率。
化学或生物物质可以为例如抗体、抗原、蛋白质、DNA、RNA、糖类、酶、金属离子(尤其是应用于水质监测的金属离子)、芳香分子、例如烃的有机分子和微生物等。
标记物可以是漫射性的,而不是金属或吸收性的。实际上,如图上文所解释的,漫射的作用可以由具有虚部的折射率表示。从而,例如二氧化硅或氧化铝的矿物纳米粒子的介电纳米粒子、树形分子(dendrimères)、乳胶纳米粒子、囊泡或病毒可以起到与金属纳米粒子相同的作用。
上述检测或分析技术还可以应用在功能层沉积在如上所述的对比度增强层上的情况下。功能层(以及对比度增强层,如果合适的话)可以构造为垫,而可以对这些垫外部的表面进行化学和/或光学钝化,如上文所解释的那样。
至此,我们仅考虑了光照和观察是通过显示出的(实)折射率大于环境介质的折射率的基底而进行的情况,这称为“背面”或“倒置结构”。作为变化形式,也可以在“正面”配置下工作,这就是说,通过环境介质进行光照和观察;在该情况下,基底必须显示出比所述环境基底的折射率小的折射率:n0<n3。
另一种一般化在于考虑吸收性的入射介质和/或出射介质。最令人感兴趣的情况是,入射介质是透明的,而出射介质吸收性的:实际上,如果入射介质是强吸收性的,则光会不能在其中传播以到达防反射层。
从公式(3)开始,对于κ1>0.15,将n3替换为N3=n3-jk3,我们得到:
其中,
我们注意到,在公式(7b)中,高κ3值可以改变δ1的符号。因此,能够在同为吸收性的基底上沉积吸收性防反射层,通过吸收性防反射层的与所述基底相对的面受到光照(“正面”配置)。例如,可以是金属层沉积在半导电基底上或者相反,这可以应用于例如微电子领域。该类型的层已经由前述R.M.A.Azzam等人的论文所描述。此外,前述M.A.Kats等人的论文已经描述了相似但没有完全抵消反射的层。然而,这些出版物没有提供任何用于这样的层的一般的和系统的设计过程。
上文所述的理论能够设计并制造包括沉积在吸收性基底上的吸收性层的对比度增强支撑体,如同上文对于透明基底的情况所描述的那样——但是要使用等式(7a)/(7b)代替等式(6a)/(6b)。
图8中表示了由等式(7a)和(7b)所描述的包括吸收性基底SA和吸收性防反射层CA'的该类型的对比度增强支撑体SAC'。借助于平行光束FL或如同图6中的情况一样聚焦的高斯激光束而在“正面”进行观察(在该层的与基底相对的一侧)。关于层CA提到的材料也可以用于制备层CA'。特别地,为了检测或分析的应用中,层CA'也可以功能化,或被制备为具有通过功能层固定的(可选地受到标记的)化学或生物物质。
Claims (7)
1.一种用于制造对比度增强支撑体(SAC')的方法,所述对比度增强支撑体包括吸收性基底(SA),所述吸收性基底承载至少一个吸收性层(CA'),所述方法包括用于所述支撑体的设计步骤以及根据所述设计步骤的支撑体的硬件制造的步骤,其特征在于,所述设计步骤包括下列步骤:
i)选择光照波长λ;
ii)选择构成所述基底的材料,该材料在所述光照波长λ下显示出复折射率N3=n3-jk3,其中k3≥0.01;
iii)选择环境介质,该环境介质在与所述基底相对的侧与所述吸收性层接触,并且在所述光照波长λ下显示出实折射率n0;
iv)确定所述吸收性层的名义复折射率N1=n1-jk1和名义厚度e1,使得所述吸收性层在受到波长为所述光照波长λ的垂直入射的光照时充当防反射层;以及
v)选择构成所述吸收性层的材料,该材料在所述光照波长λ下显示出复折射率,该复折射率的实部和虚部至多在小于或等于5%的容差下与所述名义复折射率的实部和虚部一致;
其中,在所述步骤iv)中,所述名义复折射率和所述名义厚度选择为满足下列条件:
a)
b)
c)κ1≤ν1,以及
d)k1≥0.15
其中:
-
-以及
-对于i=0,1,3,
2.根据权利要求1所述的用于制造对比度增强支撑体的方法,其中,在所述步骤ii)中,k3≥0.1。
3.根据权利要求1所述的用于制造对比度增强支撑体的方法,其中,在所述步骤v)中,选择构成所述吸收性层的材料,该材料在所述光照波长λ下显示出复折射率,该复折射率的实部和虚部至多在小于或等于0.3%的容差下与所述名义复折射率的实部和虚部一致。
4.根据权利要求1所述的用于制造对比度增强支撑体的方法,其中,所述吸收性层由导电材料制备,并且其中,所述基底由半导电材料制备。
5.根据权利要求4所述的用于制造对比度增强支撑体的方法,其中,所述导电材料为金属。
6.根据权利要求1所述的用于制造对比度增强支撑体的方法,其中,所述吸收性层由半导电材料制备,并且其中,所述基底由导电材料制备。
7.根据权利要求6所述的用于制造对比度增强支撑体的方法,其中,所述导电材料为金属。
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