CN105776879B - 薄型玻璃基板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种薄型玻璃基板的制作方法，包括如下步骤：步骤1、提供玻璃基板(1)，对所述玻璃基板(1)进行抛光制程；步骤2、对所述玻璃基板(1)进行薄化制程；所述薄化制程中通过向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板(1)进行蚀刻；该方法通过在对玻璃基板进行薄化制程前先对玻璃基板进行抛光制程，减少玻璃基板表面的凹凸点、刮伤等不良，然后在对玻璃基板的薄化制程中采用向玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液的方法，对玻璃基板进行蚀刻；在实现玻璃基板薄化的同时，有效避免了凹凸点、刮伤、碎亮点等不良的产生，提升了制程的良率。

Description

薄型玻璃基板的制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种薄型玻璃基板的制作方法。
背景技术
在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示技术已经逐步取代阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)显示器。基于平面光源技术的平面显示器已经接近市场化量产水平。在这些平面显示器中，一般将玻璃基板作为衬底基板并在其表面形成各种膜层结构。
随着显示技术的发展，显示装置的轻薄化是当今的发展趋势，其中一个方向就是使用超薄玻璃基板作为显示面板的衬底基板。因此，玻璃基板的薄型化是平面显示器产品实现薄型化的核心技术。
目前手机的液晶面板中的彩色滤光片基板(Color Filter Substrate，CFSubstrate)和薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT ArraySubstrate)使用的都是0.4t或者以上的玻璃基板，为了使手机轻薄，玻璃基板需在专门的薄化厂进行薄化，目前薄化的极限在0.2t左右。现有的薄型玻璃基板的制作方法中一般先对玻璃基板进行薄化制程，减薄玻璃基板的厚度，再对玻璃基板进行抛光制程以消除玻璃基板表面的凹凸点、刮伤等不良，然而这种方法存在一定缺点。首先，请参阅图1，采用该方法对玻璃基板100进行薄化制程后，会导致玻璃基板100表面原有的凹点310在蚀刻过程中发生恶化，之后再进行抛光制程会对玻璃基板100造成损伤，在后续制程中出现碎亮点等异常；其次，请参阅图2，采用该方法对玻璃基板100进行薄化制程时还容易导致玻璃砂在玻璃基板100表面聚集，从而导致凸点320的产生。
发明内容
本发明的目的在于提供一种薄型玻璃基板的制作方法，在实现玻璃基板薄化的同时，可有效避免凹凸点、刮伤、碎亮点等不良的产生，提升制程的良率。
为实现上述目的，本发明提供一种薄型玻璃基板的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供玻璃基板，对所述玻璃基板进行抛光制程；
步骤2、对所述玻璃基板进行薄化制程；所述薄化制程中通过向所述玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板进行蚀刻。
所述步骤1中的抛光制程包括：
步骤11、提供抛光设备，所述抛光设备包括重力平台、及位于所述重力平台下方的研磨平台；所述重力平台表面设有真空吸盘；所述研磨平台表面设有抛光粉；
步骤12、所述重力平台通过所述真空吸盘吸附所述玻璃基板，并将其放置于所述研磨平台的抛光粉上，之后通过所述重力平台的重力作用将其压合于重力平台与研磨平台之间；
步骤13、控制所述研磨平台使其与所述玻璃基板之间产生相对运动，从而通过所述抛光粉与玻璃基板之间的摩擦实现对所述玻璃基板表面的抛光。
所述薄型玻璃基板的制作方法还包括步骤14、采用步骤11至步骤13的方法对所述玻璃基板的另一表面进行抛光。
所述抛光粉的材料为氧化铈。
所述步骤2中的薄化制程包括：
步骤21、提供蚀刻设备，所述蚀刻设备包括腔体、及设于所述腔体中的数个喷嘴；
步骤22、将所述玻璃基板竖直置于所述腔体中，并控制所述数个喷嘴向所述玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板进行蚀刻。
所述蚀刻液为氢氟酸。
所述腔体内壁上还设有清洁工具。
所述步骤22中，控制所述腔体左右移动，使得安装于所述腔体内壁上的清洁工具与玻璃基板相接触，之后控制所述腔体前后移动，使得清洁工具沿玻璃基板的表面移动，从而对玻璃基板表面形成的玻璃砂进行清理。
所述清洁工具为羊绒毛刷。
本发明的有益效果：本发明的薄型玻璃基板的制作方法，在对玻璃基板进行薄化制程前先对玻璃基板进行抛光制程，减少玻璃基板表面的凹凸点、刮伤等不良，然后在对玻璃基板的薄化制程中采用向玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液的方法，对玻璃基板进行蚀刻，蚀刻的同时采用清洁工具对蚀刻过程中所述玻璃基板上聚集的玻璃砂进行清洁，以避免玻璃砂沉积而导致凸点的产生，从而在实现玻璃基板薄化的同时，有效避免了凹凸点、刮伤、碎亮点等不良的产生，提升了制程的良率。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为现有的薄型玻璃基板的制作方法导致凹点恶化的示意图；
图2为现有的薄型玻璃基板的制作方法导致凸点产生的示意图；
图3为本发明的薄型玻璃基板的制作方法的流程图；
图4为本发明的薄型玻璃基板的制作方法的步骤1的示意图；
图5为本发明的薄型玻璃基板的制作方法的步骤2的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图3，本发明提供一种薄型玻璃基板的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供玻璃基板1，对所述玻璃基板1进行抛光制程。
具体地，请参阅图4，所述步骤1中的抛光制程包括：
步骤11、提供抛光设备10，所述抛光设备10包括重力平台11、及位于所述重力平台11下方的研磨平台12；所述重力平台11表面设有真空吸盘115；所述研磨平台12表面设有抛光粉13。
步骤12、所述重力平台11通过所述真空吸盘115吸附所述玻璃基板1，并将其放置于所述研磨平台12的抛光粉13上，之后通过所述重力平台11的重力作用将其压合于重力平台11与研磨平台12之间。
步骤13、控制所述研磨平台12使其与所述玻璃基板1之间产生相对运动，从而通过所述抛光粉13与玻璃基板1之间的摩擦实现对所述玻璃基板1表面的抛光。
具体地，所述抛光粉13的材料为氧化铈(CeO2)。
步骤2、对所述玻璃基板1进行薄化制程；所述薄化制程中通过向所述玻璃基板1的两侧喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板1进行蚀刻。
具体地，请参阅图5，所述步骤2中的薄化制程包括：
步骤21、提供蚀刻设备20，所述蚀刻设备20包括腔体21、及设于所述腔体21内壁上的数个喷嘴22。
步骤22、将所述玻璃基板1竖直置于所述腔体21中，并控制所述数个喷嘴22向所述玻璃基板1的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板1进行蚀刻。
其中，所述蚀刻液为氢氟酸(HF)，蚀刻过程中发生的化学反应如下：
4HF+SiO2→SiF4(氟硅酸)+2H2O；
(纯六氟硅酸，易溶于水，且化学式可逆)；
4HF+2SiO2→H4SiO4(不溶于水，俗称玻璃砂)+SiF4；
其中的一种反应产物H4SiO4(玻璃砂)容易在玻璃基板表面聚集，导致玻璃基板表面产生凸点，本发明通过将所述玻璃基板1竖直置于所述腔体21中，并通过数个喷嘴22向所述玻璃基板1的两侧表面喷淋蚀刻液的方法，使得蚀刻过程中产生的玻璃砂或者其他异物在重力作用下向玻璃基板1的底部滑落，避免了玻璃砂或者其他异物在玻璃基板1的表面聚集而产生凸点。
进一步地，所述腔体21内壁上还设有清洁工具23。所述步骤22中，控制所述腔体21左右移动，使得安装于所述腔体21内壁上的清洁工具23与玻璃基板1相接触，之后控制所述腔体21前后移动，使得清洁工具23沿玻璃基板的表面移动，从而对玻璃基板1表面形成的玻璃砂进行清理，有效避免玻璃基板1的表面产生凸点。采用本发明的薄型玻璃基板的制作方法，可实现厚度小于0.2t的薄型玻璃基板的量产。
具体地，所述清洁工具23为羊绒毛刷。
综上所述，本发明的薄型玻璃基板的制作方法，在对玻璃基板进行薄化制程前先对玻璃基板进行抛光制程，减少玻璃基板表面的凹凸点、刮伤等不良，然后在对玻璃基板的薄化制程中采用向玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液的方法，对玻璃基板进行蚀刻，蚀刻的同时采用清洁工具对蚀刻过程中所述玻璃基板上聚集的玻璃砂进行清洁，以避免玻璃砂沉积而导致凸点的产生，从而在实现玻璃基板薄化的同时，有效避免了凹凸点、刮伤、碎亮点等不良的产生，提升了制程的良率。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (5)

1.一种薄型玻璃基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供玻璃基板(1)，对所述玻璃基板(1)进行抛光制程；
步骤2、对所述玻璃基板(1)进行薄化制程；所述薄化制程中通过向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板(1)进行蚀刻；
所述步骤2中的薄化制程包括：
步骤21、提供蚀刻设备(20)，所述蚀刻设备(20)包括腔体(21)、及设于所述腔体(21)内壁上的数个喷嘴(22)；
步骤22、将所述玻璃基板(1)竖直置于所述腔体(21)中，并控制所述数个喷嘴(22)向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板(1)进行蚀刻；
所述腔体(21)内壁上还设有清洁工具(23)；
所述步骤22中，控制所述腔体(21)左右移动，使得安装于所述腔体(21)内壁上的清洁工具(23)与玻璃基板(1)相接触，之后控制所述腔体(21)前后移动，使得清洁工具(23)沿玻璃基板(1)的表面移动，从而对玻璃基板(1)表面形成的玻璃砂进行清理；
所述步骤1中的抛光制程包括：
步骤11、提供抛光设备(10)，所述抛光设备(10)包括重力平台(11)、及位于所述重力平台(11)下方的研磨平台(12)；所述重力平台(11)表面设有真空吸盘(115)；所述研磨平台(12)表面设有抛光粉(13)；
步骤12、所述重力平台(11)通过所述真空吸盘(115)吸附所述玻璃基板(1)，并将其放置于所述研磨平台(12)的抛光粉(13)上，之后通过所述重力平台(11)的重力作用将其压合于重力平台(11)与研磨平台(12)之间；
步骤13、控制所述研磨平台(12)使其与所述玻璃基板(1)之间产生相对运动，从而通过所述抛光粉(13)与玻璃基板(1)之间的摩擦实现对所述玻璃基板(1)表面的抛光。
2.如权利要求1所述的薄型玻璃基板的制作方法，其特征在于，还包括步骤14、采用步骤11至步骤13的方法对所述玻璃基板(1)的另一表面进行抛光。
3.如权利要求1所述的薄型玻璃基板的制作方法，其特征在于，所述抛光粉(13)的材料为氧化铈。
4.如权利要求1所述的薄型玻璃基板的制作方法，其特征在于，所述蚀刻液为氢氟酸。
5.如权利要求1所述的薄型玻璃基板的制作方法，其特征在于，所述清洁工具(23)为羊绒毛刷。
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