CN105619963A - 一种低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

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苍利民
郭松昌
万志刚
丁万勇
蒋振伟
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Abstract

本发明公布了一种低辐射镀膜玻璃，属于低辐射镀膜玻璃技术领域。该低辐射镀膜玻璃包括覆盖在玻璃上的镀膜，所述的镀膜包括光波长转换材料层，所述的光波长转换材料层为铋铕共掺杂的氧化钆薄膜或/和铕镱共掺杂的氧化钇薄膜。本低辐射镀膜玻璃能够更有效的吸收太阳光中的紫外光，对红外光有更好的反射性能，更好的可见光透过性能。

Description

一种低辐射镀膜玻璃
技术领域
本发明涉及一种玻璃，特别涉及一种低辐射镀膜玻璃，属于低辐射镀膜玻璃技术领域。
背景技术
玻璃是重要的建筑材料，随着对建筑物装饰性要求的不断提高，玻璃在建筑行业中的使用量也不断增大。然而，当今人们在选择建筑物的玻璃门窗时，除了考虑其美学和外观特征外，外门窗玻璃的热损失是建筑物能耗的主要部分，占建筑物能耗的50%以上。有关研究资料表明，玻璃内表面的传热以辐射为主，占58%，这意味着要从改变玻璃的性能来减少热能的损失，最有效的方法是抑制其内表面的辐射，这就使得低辐射玻璃脱颖而出，用低辐射玻璃制造建筑物门窗，可大大降低因辐射而造成的室内热能向室外的传递，达到理想的节能效果，成为人们关注的焦点。低辐射玻璃目前主要分为两类：一种是以低温真空磁控溅射沉积电解质/金属/电解质为主构成的多层复合膜，另一种是以在玻璃上高温沉积掺杂宽禁带半导体（以掺氟氧化锡为主）透明导电单层膜的低辐射玻璃。低温真空磁控溅射沉积电解质/金属/电解质低辐射玻璃具有可见光有良好的透光性，对红外光有很好的反射性，较强的紫外光吸收性能，但由于其为低温成膜，薄膜稳定性较差，不能长期使用暴露在大气中，需要做成中空玻璃、夹胶玻璃等使用，这样就造成玻璃成本增加，建筑物承重增加，极大增加了建筑成本。而相比于电解质/金属/电解质结构的多层复合膜系低辐射玻璃，掺氟氧化锡低辐射玻璃具有良好的可见光透光性，对红外光有很好的反射性，较强的热稳定性、化学稳定性和耐腐蚀性。但由于掺氟氧化锡的禁带宽度较大，其吸收紫外光的性能较弱，这严重影响了掺氟氧化锡低辐射玻璃的推广，相对于掺氟氧化锡薄膜，掺硼氧化锌薄膜是一种具有较强的紫外光吸收性能的透明导电薄膜，但由于其暴露在大气中吸附氧和水汽，从而破坏薄膜结构和性能，因此不能替代掺氟氧化锡薄膜单独应用于低辐射玻璃，在低辐射玻璃中需要一种隔热保温性能和透光性能均较好的低辐射镀膜玻璃。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种隔热、透光等性能更好的低辐射镀膜玻璃。
为实现本发明的目的，本发明所采用的技术方案为：一种低辐射镀膜玻璃，包括覆盖在玻璃上的镀膜，所述的镀膜包括光波长转换材料层，所述的光波长转换材料层为铋铕共掺杂的氧化钆薄膜或/和铕镱共掺杂的氧化钇薄膜，进一步的，所述的光波长转换材料层上设置有掺硼氧化锌层，在掺硼氧化锌上设置有掺氟氧化锡层，进一步的，所述的铋铕共掺杂的氧化钆薄膜厚度为5-50nm，所述的铕镱共掺杂的氧化钇薄膜厚度为5-50nm，进一步的，在玻璃表面依次设置有光波长转换材料层、掺硼氧化锌层、掺氟氧化锡层，所述的光波长转换材料层为铋铕共掺杂的氧化钆薄膜或/和铕镱共掺杂的氧化钇薄膜，所述的光波长转换材料层的厚度小于100nm，所述的掺硼氧化锌层、掺氟氧化锡层的厚度均在100-300nm之间。
本发明的积极有益技术效果在于：本发明中设置有光波长材料层，可将透过掺硼氧化锌层和掺氟氧化锡层的紫外光和红外光转换为可见光，提高可见光透过率，相比较于单层掺氟氧化锡膜系的低辐射镀膜玻璃，该低辐射镀膜玻璃能够更有效的吸收太阳光中的紫外光，对红外光有更好的反射性能，更好的可见光透过性能。
附图说明
图1是本发明的示意图。
具体实施方式
为了更充分的解释本发明的实施，提供本发明的实施实例，这些实施实例仅仅是对本发明的阐述，不限制本发明的范围。
一种低辐射镀膜玻璃，包括覆盖在玻璃上的镀膜，所述的镀膜包括光波长转换材料层，所述的光波长转换材料层为铋铕共掺杂的氧化钆薄膜或/和铕镱共掺杂的氧化钇薄膜，进一步的，所述的光波长转换材料层上设置有掺硼氧化锌层，在掺硼氧化锌上设置有掺氟氧化锡层，进一步的，所述的铋铕共掺杂的氧化钆薄膜厚度为5-50nm，所述的铕镱共掺杂的氧化钇薄膜厚度为5-50nm，进一步的，在玻璃表面依次设置有光波长转换材料层、掺硼氧化锌层、掺氟氧化锡层，所述的光波长转换材料层为铋铕共掺杂的氧化钆薄膜或/和铕镱共掺杂的氧化钇薄膜，所述的光波长转换材料层的厚度小于100nm，所述的掺硼氧化锌层、掺氟氧化锡层的厚度均在100-300nm之间。本发明中的铋铕共掺杂的氧化钆薄膜材料、铕镱共掺杂的氧化钇薄膜材料均可通过现有的制备方法得到。
更为详细的实施方式结合附图和以下实施例来说明，附图中各标记为：1：玻璃；2：光波长转换材料层；3：掺硼氧化锌层；4：掺氟氧化锡层。
实施例1：
1、对玻璃基板1进行清洗处理；
2、清洗后在玻璃基板表面制备厚度为10nm的光波长转换材料层2，该转换材料层为铋铕（Bi3+,Eu3+）共掺杂的氧化钆（Gd2O3:Bi3+,Eu3+）紫外光波长转换材料；
3、在光波长转换材料层2表面通过化学气相沉积工艺制成膜层厚度为50nm的掺硼氧化锌膜层3；
4、在膜层3表面通过化学气相沉积工艺制成厚度为200nm的掺氟氧化锡膜层4，最终形成由多层薄膜组成的低辐射镀膜玻璃。
实施例2：
1、对玻璃基板1进行清洗处理；
2、清洗后在玻璃基板表面制备厚度为30nm的光波长转换材料层2，该转换材料层为铕镱（Eu3+,Yb3+）共掺杂的氧化钇（Y2O3:Eu3+,Yb3+）红外光波长转换材料；
3、在光波长转换材料层2表面通过化学气相沉积工艺制成膜层厚度为2000nm的掺硼氧化锌膜层3；
4、在膜层3表面通过化学气相沉积工艺制成厚度为100nm的掺氟氧化锡膜层4，最终形成由多层薄膜组成的低辐射镀膜玻璃。
实施例3：
1、对玻璃基板1进行清洗处理；
2、清洗后在玻璃基板表面制备厚度为50nm的光波长转换材料层2，该转换材料层为铋铕（Bi3+,Eu3+）共掺杂的氧化钆（Gd2O3:Bi3+,Eu3+）紫外光波长转换材料，以及铕镱（Eu3+,Yb3+）共掺杂的氧化钇（Y2O3:Eu3+,Yb3+）红外光波长转换材料；
3、在光波长转换材料层2表面通过化学气相沉积工艺制成膜层厚度为50nm的掺硼氧化锌膜层3；
4、在膜层3表面通过化学气相沉积工艺制成厚度为300nm的掺氟氧化锡膜层4，最终形成由多层薄膜组成的低辐射镀膜玻璃。
在详细说明本发明的实施方式之后，熟悉该项技术的人士可清楚地了解，在不脱离上述申请专利范围与精神下可进行各种变化与修改，凡依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均属于本发明技术方案的范围，且本发明亦不受限于说明书中所举实例的实施方式。

Claims (4)

1.一种低辐射镀膜玻璃，包括覆盖在玻璃上的镀膜，其特征在于：所述的镀膜包括光波长转换材料层，所述的光波长转换材料层为铋铕共掺杂的氧化钆薄膜或/和铕镱共掺杂的氧化钇薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的光波长转换材料层上设置有掺硼氧化锌层，在掺硼氧化锌上设置有掺氟氧化锡层。
3.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的铋铕共掺杂的氧化钆薄膜厚度为5-50nm，所述的铕镱共掺杂的氧化钇薄膜厚度为5-50nm。
4.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在玻璃表面依次设置有光波长转换材料层、掺硼氧化锌层、掺氟氧化锡层，所述的光波长转换材料层为铋铕共掺杂的氧化钆薄膜或/和铕镱共掺杂的氧化钇薄膜，所述的光波长转换材料层的厚度小于100nm，所述的掺硼氧化锌层、掺氟氧化锡层的厚度均在100-300nm之间。
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