CN105609520B - 一种透明显示屏 - Google Patents

Abstract

本发明涉及半导体发光器件领域，尤其涉及一种透明显示屏。本发明提出了一种透明显示屏，通过在像素的上下表面设置透明电极，以形成透明的显示屏，且像素的下表面的透明电极上还设置驻波腔，驻波腔的设置根据透明显示屏的要求不同，设置方式也是不同的，这样相较于传统的技术方案，可以有效的提高AMOLED显示屏的透光性能。

Description

一种透明显示屏

技术领域

本发明涉及半导体发光器件领域，尤其涉及一种透明显示屏。

背景技术

AMOLED是有源矩阵有机发光二极管，发光原理是：用ITO透明电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层，电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层，并在发光层中相遇，形成激子并使发光分子激发。

目前，AMOLED在移动设备中得到了广泛的应用，相比传统LCD，具有以下优点：第一，AMOLED显示屏幕非常薄，可以再屏幕中集成出没曾，做超薄机更有优势；第二，AMOLED自发光，单个像素在西安市黑色时不工作，具有西安市深色时低功耗的特点；第三，AMOLED可做成柔性屏，比起玻璃基板的LCD屏幕不易损坏；第四，色域广，可达到110％NTSC，已卸载LCD上无法准确还原的颜色，在AMOLED上可以表达出来；第五，具有高对比度，理论上对比度可以无穷大，而且不会漏光，第六，具有极快的响应速度，响应时间只有LCD的1/1000到1/100。

另外，移动电池的耗电问题也一直是移动设备的一个软肋，随着移动设备的屏幕越来越大，该缺点也越来越明显，其中屏幕费电占有较大比重，据了解大屏幕移动设备费电占比例50％以上，手机屏幕越大比列越大，所以AMOLED屏幕的优点就凸显出来了。

但在AMOLED主动矩阵有机发光二极体面板的显示屏在制备过程中，其主要的困难在于如何保证显示屏具有较高的透光率以进而达到提高AMOLED的发光性能。

发明内容

鉴于上述问题，本发明提供一种透明显示屏。

一种透明显示屏，其特征在于，包括：

阵列基板；

有机发光层，所述有机发光层设置有多个第一子像素、多个第二子像素和多个第三子像素中，所述第一子像素、第二子像素和第三子像素发出不同波段的光线；以及

第一透明电极，设置在所述阵列基板与所述有机发光层之间；

第二透明电极，设置在所述有机发光层上表面之上。

上述的透明显示屏，其中，所述第二透明电极设置于所述第一透明电极之上。

上述的透明显示屏，其中，所述透明显示屏还包括：

驻波腔，设置在所述阵列基板与所述第一透明电极之间。

上述的透明显示屏，其中，所述第一子像素为发射红光的子像素，所述第二子像素为发射绿光的子像素，所述第三子像素为发射蓝光的子像素。

上述的透明显示屏，其中，所述驻波腔为蓝光驻波腔，所述蓝光驻波腔设置在所述第三子像素的下方，且所述第三子像素中发射的光线透过所述蓝光驻波腔射出。

上述的透明显示屏，其中，所述驻波腔为RGB驻波腔。

上述的透明显示屏，其中，所述第一透明电极为阶梯状结构，且位于所述第一子像素下方的第一透明电极的厚度大于位于所述第二子像素下方的第一透明电极的厚度，位于所述第二子像素下方的第一透明电极的厚度大于位于所述第三子像素下方的第一透明电极的厚度。

上述的透明显示屏，其中，所述驻波腔包括第一透明金属层和ITO薄膜，所述第一透明金属层位于所述第一透明电极与所述ITO薄膜之间。

上述的透明显示屏，其中，所述第一透明金属层的材质为银。

上述的透明显示屏，其中，所述有机发光层发射的光线透过所述阵列基板射出所述透明显示屏。

上述的透明显示屏，其中，所述第二透明电极的材质为银。

综上所述，本发明提出了一种透明显示屏，通过在像素的上下表面设置透明电极，以形成透明的显示屏，且于像素的下表面的透明电极还设置驻波腔，驻波腔的设置根据透明显示屏的要求不同，设置方式也是不同的，这样相较于传统的技术方案，可以有效的提高AMOLED显示屏的透光性能。

附图说明

参考所附附图，以更加充分的描述本发明的实施例。然而，所附附图仅用于说明和阐述，并不构成对本发明范围的限制。

图1是现有显示屏结构示意图；

图2是本发明结构示意图；

图3是本发明实施例一中的透明显示屏结构示意图；

图4是本发明实施例二中的透明显示屏结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的技术方案及优点更加易于理解，下面结合附图作进一步详细说明。应当说明，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

如图1所示，目前的显示屏的节本结构设置是将若干的像素单元统一放置于一个平面上，然后在这些像素单元的上表面制备一层厚度均匀的透明金属电极，在这些像素单元的下表面上分别制备一ITO薄膜-透明金属电极-ITO薄膜的结构。但是这样的结构设置下，像素单元对于向下的光纤就被阻挡住了，无法实现透明的目的，或者就是透光率不高的问题。

为了解决目前AMOLED面板的透光率不高，AMOLED的发光性能不良的问题，本发明设计一种透明显示屏。

如图2所示，该显示屏包括有：

阵列基板(图中未示出)；

有机发光层，该有机发光层设置有多个第一子像素、多个第二子像素和多个第三子像素，这些子像素就是发出不同波段光线的；

第一透明电极2，该第一透明电极设置在阵列基板与有机发光层之间的；

第二透明电极1，设置在有机发光层的上表面之上，这样形成了一透明显示屏。

下面结合具体实施例进行说明

实施例一

如图3所示，一种透明显示屏，其中包括有：

第一透明电极2，该第一透明电极的材质选用ITO薄膜，ITO(Indium Tin Oxides)作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透明性，可以切断对人体有害的电子辐射，紫外线及远红外线。因此，喷涂在玻璃，塑料及电子显示屏上后，在增强导电性和透明性的同时切断对人体有害的电子辐射及紫外、红外。ITO是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。在氧化物导电膜中，以掺Sn的In₂O₃(ITO)膜的透过绿最高和导电性能最好，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形.其中透过率以达90％以上，ITO中其透过率和阻值分别由In₂O₃与Sn₂O₃之比例来控制，通常Sn₂O₃：In₂O₃＝1:9。

若干的子像素，该子像素包括多个第一子像素、多个第二子像素和多个第三子像素，且第一子像素为发射红光的子像素，第二子像素为发射绿光的子像素，第三子像素为发射蓝光的子像素。这些子像素均匀的排列在第一透明电极2之上。

第二透明电极1，该第二透明电极1制备在若干的子像素的上表面之上，且第二透明电极1的厚度是均匀的，在本发明中，优选但不唯一的，第二透明电极1的材质为透明金属，该透明金属的材质为金属银。

在本发明中，该第二透明电极1设置在第一透明电极2之上的，且该显示屏中还包括驻波腔(cavity)和阵列基板，第一透明电极2是设置在阵列基板的上表面之上的，而驻波腔是设置在阵列基板和第一透明电极2之间的。优选的，该驻波腔为蓝光驻波腔，即驻波腔是设置在发蓝光的子像素的下方的，且发蓝光的第三子像素中的光线透过该蓝光驻波腔射出的。

具体的，该蓝光驻波腔的结构为ITO薄膜4和第一透明金属层3，而该第一透明金属层3的材质是和第二透明电极2的材质一样的，都是选用金属银。该蓝光驻波腔的ITO薄膜4是设置在阵列基板上，而第一透明金属层3是位于该ITO薄膜4和第一透明电极2之间的。优选的，第一透明金属层3的厚度为100埃，第一透明电极2的的厚度为1100埃。

实施例二

如图3所示，一种透明显示屏，应用于AMOLED器件中，其中包括有：

在本发明中，每一个发光单元中都包括有：

第一透明电极2，该第一透明电极2的材质为ITO，ITO(Indium Tin Oxides)作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透明性，可以切断对人体有害的电子辐射，紫外线及远红外线。因此，喷涂在玻璃，塑料及电子显示屏上后，在增强导电性和透明性的同时切断对人体有害的电子辐射及紫外、红外。ITO是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标:电阻率和透光率。在氧化物导电膜中，以掺Sn的In₂O₃(ITO)膜的透过绿最高和导电性能最好，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形.其中透过率以达90％以上，ITO中其透过率和阻值分别由In2O3与Sn₂O₃之比例来控制，通常Sn₂O₃：In₂O₃＝1:9。

有机发光层，该有机发光层包括若干的子像素，该子像素包括多个第一子像素、多个第二子像素和多个第三子像素，且第一子像素为发射红光的子像素，第二子像素为发射绿光的子像素，第三子像素为发射蓝光的子像素。

第二透明电极1，该第二透明电极1制备在若干的子像素的上表面之上，且第二透明电极1的厚度是均匀的，在本发明中，优选但不唯一的，第二透明电极1的材质为透明金属，该透明金属的材质为金属银。该第二透明电极1设置在该第一透明电极2之上，第一透明电极2一般采用真空蒸镀的ITO。

在本发明中，该第二透明电极1设置在第一透明电极2之上的，且该显示屏中还包括驻波腔(cavity)和阵列基板，第一透明电极2是设置在阵列基板的上表面之上的，而驻波腔是设置在阵列基板和第一透明电极之间的。优选的，该驻波腔为RGB驻波腔，即驻波腔是设置在发光的子像素的下方的，且发光的子像素中的光线透过该RGB驻波腔射出的。

具体的，该RGB驻波腔的结构为ITO薄膜4和第一透明金属层3，而该第一透明金属层3的材质是和第二透明电极2的材质一样的，都是选用金属银。该RGB驻波腔的ITO薄膜4是设置在阵列基板上，而第一透明金属层3是位于该ITO薄膜4和第一透明电极2之间的。优选的，第一透明金属层3的厚度为100埃，第一透明电极2的的厚度为1100埃。不过，ITO膜较硬，因此不适于需要进行弯折的柔性元件。作为柔性透明电极的开发方法，将金属银与ITO膜结合，实现了柔韧性和透光性。

另外，该第一透明电极2具有呈台阶状的上表面，且该第一透明电极2设置在第一透明金属层3之上。在本发明中，第一透明电极2的台面结构就跟楼梯形状类似，呈一级一级的，由观察的角度不同，该台面逐渐上升或者逐渐下降的。

有机发光层中的子像素设置在第一透明电极2的台阶状结构上，在本发明中，子像素单元的中包括有发射红光的第一子像素、发出绿光的第二子像素和发出蓝光的第三子像素。这些子像素单元对应的设置在第一透明电极2的每个台面上，为此，第一透明电极2的台面具体为三级，具体的为第一级台阶面、第二级台阶面和第三级台阶面，根据实际生产或者结构需要，每个台阶面上对应设置不同的子像素单元。在本发明中，优选的但不唯一的，第一级台阶面上设置有发射红光的第一子像素，第二级台阶面上设置有发出绿光的第二子像素，第三级台阶面上设置有发出蓝光的第三子像素。而第一级台阶面是最高的，依次为第二级台阶面和第三级台阶面，即位于第一子像素下方的第一透明电极的厚度大于位于第二子像素下方的第一透明电极的厚度，位于第二子像素下方的第一透明电极的厚度大于位于第三子像素下方的第一透明电极的厚度。这样子像素单元也是依次为第一子像素单元为最高的，然后是第二子像素单元，最后是第三子像素单元，这样的结构设计可以得到色域比较广的技术效果。

所以，综合上述实施例，本发明提出了一种透明显示屏，通过在像素的上下表面设置透明电极，以形成透明的显示屏，且于像素的下表面的透明电极还设置驻波腔，驻波腔的设置根据透明显示屏的要求不同，设置方式也是不同的，这样相较于传统的技术方案，可以有效的提高AMOLED显示屏的透光性能。

通过说明和附图，给出了具体实施方式的特定结构的典型实施例，基于本发明精神，还可作其他的转换。尽管上述发明提出了现有的较佳实施例，然而，这些内容并不作为局限。

对于本领域的技术人员而言，阅读上述说明后，各种变化和修正无疑将显而易见。因此，所附的权利要求书应看作是涵盖本发明的真实意图和范围的全部变化和修正。在权利要求书范围内任何和所有等价的范围与内容，都应认为仍属本发明的意图和范围内。

Claims (10)

1.一种透明显示屏，其特征在于，包括：

阵列基板；

有机发光层，所述有机发光层设置有多个第一子像素、多个第二子像素和多个第三子像素，所述第一子像素、第二子像素和第三子像素发出不同波段的光线；以及

第一透明电极，设置在所述阵列基板与所述有机发光层之间；以及

第二透明电极，设置在所述有机发光层的上表面之上；

还包括：

驻波腔，设置在所述阵列基板与所述第一透明电极之间。

2.根据权利要求1所述的透明显示屏，其特征在于，所述第二透明电极设置于所述第一透明电极之上。

3.根据权利要求1所述的透明显示屏，其特征在于，所述第一子像素为发射红光的子像素，所述第二子像素为发射绿光的子像素，所述第三子像素为发射蓝光的子像素。

4.根据权利要求3所述的透明显示屏，其特征在于，所述驻波腔为蓝光驻波腔，所述蓝光驻波腔设置在所述第三子像素的下方，且所述第三子像素发射的光线透过所述蓝光驻波腔射出。

5.根据权利要求1所述的透明显示屏，其特征在于，所述驻波腔为RGB驻波腔。

6.根据权利要求5所述的透明显示屏，其特征在于，所述第一透明电极为阶梯状结构，且位于所述第一子像素下方的第一透明电极的厚度大于位于所述第二子像素下方的第一透明电极的厚度，位于所述第二子像素下方的第一透明电极的厚度大于位于所述第三子像素下方的第一透明电极的厚度。

7.根据权利要求2-6中任意一项所述的透明显示屏，其特征在于，所述驻波腔包括第一透明金属层和ITO薄膜，所述第一透明金属层位于所述第一透明电极与所述ITO薄膜之间。

8.根据权利要求6所述的透明显示屏，其特征在于，所述第一透明金属层的材质为银。

9.根据权利要求1所述的透明显示屏，其特征在于，所述有机发光层发射的光线透过所述阵列基板射出所述透明显示屏。

10.根据权利要求1所述的透明显示屏，其特征在于，所述第二透明电极的材质为银。