CN105608987B - 一种具有多焦多层景深图像的防伪标 - Google Patents
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Abstract
一种具有多焦多层景深图像的防伪标，从上到下依次层叠设置有：多焦点微透镜阵列层、透明基膜层和微文字阵列层，微文字阵列层下方设置有金属反光层；多焦点微透镜阵列层包括呈阵列分布的多种焦点的微透镜；微文字阵列层包括单套或多套子单元图案周期性有序阵列。本发明的有益效果为：多焦点微透镜阵列层能够将微文字阵列层放大80‑800倍，使得原本隐藏的微缩文字清晰可见。被放大的图案具有强烈的360度动态效果。被放大的图案具有明显的景深效果，且相同的图案被多种焦点的微透镜成像出多种不同景深的图像层。该防伪效果的观察对照明光源要求不高，极易辨识，特别适用于大众防伪，能有效提高防伪能力。
Description
技术领域
本发明涉及防伪材料技术领域，尤其涉及一种具有多焦多层景深图像的防伪标。
背景技术
随着经济的发展，假冒伪劣产品也随之增加，从而产品的防伪工作也越来越重要。防伪商标是指能够通过粘贴、印刷、热转印等方式转移到产品包装或附属物上，并具有防伪作用的标识。
目前已有的防伪注册商标包括激光全息标识、二维码、防伪油墨印刷等，这些防伪手段由于其物理原理简单易懂，能够工业化生产，因此制作成本较低且利于广泛推广。但随着这些技术的普及与公开化，令其防伪功能明显下降，让造假商家有机可乘，因此急需寻求一种制作技术门槛更高、便于大众防伪识别的防伪技术。微透镜阵列防伪技术是国际上新一代顶级大众防伪技术；由于该技术工艺制作难度极高、动态效果强烈、公众辨识度醒目等显著优势，深受国际货币协会的推崇。
发明内容
本专利提供一种防伪效果好的具有多焦多层景深图像的防伪标，从上到下依次层叠设置有：多焦点微透镜阵列层、透明基膜层和微文字阵列层，所述微文字阵列层下方设置有金属反光层；
所述多焦点微透镜阵列层包括呈阵列分布的多种焦点的微透镜；
所述微文字阵列层包括单套或多套子单元图案周期性有序阵列。
具体地，所述多焦点微透镜阵列层为连续面形微透镜阵列层或多台阶结构衍射型微透镜阵列层。
具体地，所述多焦点微透镜阵列层的排列方式为四边形排列、六边形排列或环形排列。
进一步地，所述多焦点微透镜阵列层由多种不同焦距的微透镜阵列组成，不同焦点的微透镜有序互交叉排列，相同焦点的微透镜阵列周期性重复有序分布。
进一步地，所述不同焦点的微透镜阵列和相同焦点的微透镜阵列均包括横向周期和纵向周期，且所述横向周期和纵向周期分别相等。
具体地，各套所述微文字阵列的排列方式与所述相同焦点的微透镜阵列的排列方式一一对应。
进一步地，各套微文字阵列与相同焦点的微透镜阵列的对应关系有：(1)微文字阵列与相同焦点的微透镜阵列的横向周期、纵向周期相等，但二者阵列方向微不匹配，微不匹配角的范围为5°-0.01°；(2)微文字阵列与相同焦点的微透镜阵列的阵列方向相同，但横向周期、纵向周期微不匹配，微不匹配周期的范围为5％-0.1％；(3)微文字阵列与相同焦点的微透镜阵列的横纵周期、阵列方向都同时微不匹配，阵列方向的微不匹配角的范围为5°-0.01°，横、纵周期的微不匹配范围为5％-0.1％。
具体地，所述相同焦点的微透镜阵列的横向周期范围为30-60μm，纵向周期范围为30-104μm。
具体地，所述不同焦点的微透镜阵列的最大焦距差的范围为5-12μm。
具体地，所述微透镜的口径范围为25-50μm，矢高范围为5-25μm，焦距范围为23-60μm。
进一步地，各所述子单元图案的尺寸范围为所述微透镜口径范围的0.5-2.5倍。
具体地，所述透明基膜层的厚度大于所述多焦点微透镜阵列层中的最短焦距，且小于所述多焦点微透镜阵列层中的最长焦距。
具体地，所述反光层可以通过蒸镀金属的方法或复合反光膜的形式形成反射层。
本发明的有益效果为：1、基于莫尔放大原理多焦点微透镜阵列层能够将微文字阵列层放大80-800倍使得原本隐藏的微缩文字清晰可见。2、被放大的图案具有强烈的360度动态效果。3、被放大的图案具有明显的景深效果，被放大的图案能明显上浮于或下沉于防伪标的平面。4、由于微透镜阵列层具有多个焦点，因此同套的微文字阵列被多焦点微透镜阵列层放大后呈现多层不同景深的相同图案。5、该防伪效果的观察对照明光源要求不高，360度动感和景深感丝毫不受影响，极易辨识，特别适用于大众防伪。6、该防伪标的多焦点微透镜阵列层和微文字阵列层属微米级结构特征、微透镜阵列与底层图形子单元阵列匹配度要求高，有效提高防伪能力。
附图说明
图1是本发明提供的具有多焦多层景深图像的防伪标的左视图。
图2是本发明提供的具有多焦多层景深图像的防伪标的立体图。
图3是本发明提供的具有多焦多层景深图像的防伪标的微文字阵列层示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
如图1～3所示，一种具有多焦多层景深图像的防伪标，包括从上到下依次层叠设置的多焦点微透镜阵列层1和微文字阵列层2，多焦点微透镜阵列层1和微文字阵列层2之间设置有透明基膜3。该防伪标的多焦点微透镜阵列层1和微文字阵列层2属于微米级结构，同时多焦点微透镜阵列层1与微文字阵列层2匹配度要求较高，因此批量生产的技术门槛高，可以有效提高防伪能力。另外，多焦点微透镜阵列层1可为两种结构特征：(1)不同焦点的微透镜阵列层的口径相等，但矢高不相等，故焦距不相等；(2)不同焦点的微透镜阵列层的矢高相等，但口径不相等，故焦距不相等。
进一步地，多焦点微透镜阵列层1可以为连续面形微透镜阵列层或多台阶结构衍射型微透镜阵列层。其中，连续面形微透镜阵列层为由平滑表面的微透镜构成的微透镜阵列层。多台阶结构衍射型微透镜阵列层为由台阶型表面的微透镜构成的微透镜阵列层。多焦点微透镜阵列层可以排列成不同的形状。具体地，多焦点微透镜阵列层1的排列方式为四边形排列、六边形排列、环形排列及按照不同需要的各种其它非规则方式的排列。多焦点微透镜阵列层1包括呈阵列分布的多个微透镜11，微透镜11的口径范围为25-50μm，矢高范围为5-25μm，焦距范围为23-60μm。微透镜11和透明基膜3的接触区域的形状可以为多边形或圆形。
进一步地，多焦点微透镜阵列层1由多种不同焦距的微透镜阵列组成，不同焦点的微透镜阵列有序互交叉排列，相同焦点的微透镜阵列周期性重复有序分布。其中，不同焦点的微透镜阵列和相同焦点的微透镜阵列均包括横向周期和纵向周期，且所述横向周期和纵向周期分别相等。相同焦点的微透镜阵列的横向周期范围为30-60μm，纵向周期范围为30-104μm。不同焦点的微透镜阵列的横向周期范围为30-60μm，纵向周期范围为30-104μm。同时，不同焦点的微透镜阵列的最大焦距差的范围为5-12μm。
进一步地，微文字阵列层2包括单套或多套子单元图案，且单套或多套子单元图案呈周期性有序阵列。当然，各套微文字阵列的排列方式与相同焦点的微透镜阵列的排列方式一一对应。且各套子单元图案与微透镜11具有相匹配的形状和尺寸。具体地，各套子单元图案的尺寸范围为微透镜11口径范围的0.5-2.5倍。各套子单元图案可以采用打印或印刷的方式形成。各套子单元图案也可以采用光子晶体衍射型微纳结构或光栅衍射型微纳结构。当各套子单元图案基于莫尔放大原理在多焦点微透镜阵列层1的放大作用下，将微文字阵列层2放大80-800倍，放大后的各套子单元图案大小为1-10mm，使得子单元图案的放大效果更具有规律性，视觉效果更为美观，且原本隐藏的微缩文字清晰可见。更重要的是，被放大的图案具有强烈的360度动态效果，无论是哪个角度翻转防伪标，被放大的图案都能连续滑动，不同套的子单元图案也可以具有相同或不同的移动方向和速度。同时，被放大的子单元图案具有明显的景深效果，能明显上浮于或下沉于防伪标的表面。具体地，景深范围为-30mm到30mm(防伪标的表面为坐标的原点，上浮的图案景深值为正，下沉的图案景深值为负)。此外，由于多焦点微透镜阵列层1具有多个焦点，且不同焦点的微透镜阵列层具有相同的排列方式，因此同套的微文字阵列被多焦点微透镜阵列层1放大后呈现多层不同景深的相同图案。
具体地，微文字阵列层2与相同焦点的微透镜阵列的对应关系为：(1)微文字阵列层2与相同焦点的微透镜阵列的纵向周期、横向周期相等，但二者阵列方向微不匹配，微不匹配角的范围为5°-0.01°。(2)微文字阵列层2与相同焦点的微透镜阵列的阵列方向相同，但纵向周期、横向周期微不匹配，微不匹配周期的范围为5％-0.1％。(3)微文字阵列层2与相同焦点的微透镜阵列的纵横周期、阵列方向都同时微不匹配，阵列方向的微不匹配角的范围为5°-0.01°，纵、横周期的微不匹配范围为5％-0.1％。
进一步地，透明基膜层3的厚度大于多焦点微透镜阵列层1中的最短焦距，且小于多焦点微透镜阵列层1中的最长焦距。透明基膜层3的材质可以为热塑性树脂材料或玻璃。热塑性树脂材料可以为聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯或聚丙烯。
进一步地，微文字阵列层2下方设置有金属反光层4，该金属反光层4可以通过蒸镀金属的方法或复合反光膜的形式形成反射层，目的是为了增强最后成像的图案的清晰度和对比度。
上述防伪标可以利用多焦点微透镜阵列层1对微文字阵列层2进行放大，具有以下优点：
(1)基于莫尔放大原理多焦点微透镜阵列层1能够将微文字阵列层2放大80-800倍，放大后的单个图案大小为1-10mm，使得原本隐藏的微缩文字清晰可见。
(2)被放大的图案具有强烈的360度动态效果，无论是哪个角度翻转防伪标，被放大的图案都能连续滑动，不同套的图案具有相同或不同的移动速度，不同套的图案具有相同或不同的移动方向。
(3)被放大的图案具有明显的景深效果，被放大的图案能明显上浮于或下沉于防伪标的平面，景深范围为-30mm到30mm(防伪标的平面为坐标的原点，上浮的图案景深值为正，下沉的图案景深值为负)。
(4)由于多焦点微透镜阵列层1具有多个焦点，且不同焦点的微透镜阵列层具有相同的排列方式，因此同套的微文字阵列被多焦点微透镜阵列层1放大后呈现多层不同景深的相同图案。
(5)上述防伪效果的观察对照明光源要求不高，即使是阴天或多云天气也能清晰成像，360度动感和景深感丝毫不受影响，极易辨识，特别适用于大众防伪。
(6)该防伪标的多焦点微透镜阵列层1和微文字阵列层2属微米级结构特征、微透镜11与底层图形子单元阵列匹配度要求高，因此批量生产的技术门槛高，有效提高防伪能力。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (6)
1.一种具有多焦多层景深图像的防伪标，其特征在于，从上到下依次层叠设置有：多焦点微透镜阵列层、透明基膜层和微文字阵列层，所述微文字阵列层下方设置有金属反光层；
所述多焦点微透镜阵列层包括呈阵列分布的多种焦点的微透镜，所述微透镜的口径范围为25-50μm，矢高范围为5-25μm，焦距范围为23-60μm；
所述微文字阵列层包括单套或多套子单元图案周期性有序阵列；
所述多焦点微透镜阵列层由多种不同焦距的微透镜阵列组成，不同焦点的微透镜阵列有序互交叉排列，相同焦点的微透镜阵列周期性重复有序分布；
所述不同焦点的微透镜阵列的最大焦距差的范围为5-12μm；
所述不同焦点的微透镜阵列和相同焦点的微透镜阵列均包括横向周期和纵向周期，且所述横向周期和纵向周期分别相等。
2.根据权利要求1所述的具有多焦多层景深图像的防伪标，其特征在于，所述多焦点微透镜阵列层的排列方式为四边形排列、六边形排列或环形排列。
3.根据权利要求1所述的具有多焦多层景深图像的防伪标，其特征在于，各套微文字阵列的排列方式与所述相同焦点的微透镜阵列的排列方式一一对应。
4.根据权利要求1所述的具有多焦多层景深图像的防伪标，其特征在于，所述相同焦点的微透镜阵列的横向周期范围为30-60μm，纵向周期范围为30-104μm。
5.根据权利要求1所述的具有多焦多层景深图像的防伪标，其特征在于，各所述子单元图案的尺寸范围为所述微透镜口径范围的0.5-2.5倍。
6.根据权利要求1所述的具有多焦多层景深图像的防伪标，其特征在于，所述透明基膜层的厚度大于所述多焦点微透镜阵列层中的最短焦距，且小于所述多焦点微透镜阵列层中的最长焦距。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: An anti-counterfeiting mark with multi focus and multi-layer depth of field image Effective date of registration: 20210811 Granted publication date: 20190118 Pledgee: Shenzhen hi tech investment small loan Co.,Ltd. Pledgor: SHENZHEN SHENDA AURORA TECHNOLOGY Co.,Ltd. Registration number: Y2021980007533 |
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| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
| CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Huang Yanyan Inventor after: Wang Xiaobing Inventor after: Li Jianbing Inventor after: Wang Jincheng Inventor before: Li Jianbing Inventor before: Wang Xiaobing Inventor before: Huang Yanyan Inventor before: Wang Jincheng |
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| CB03 | Change of inventor or designer information | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: 518132 Building 1 and Building 3, 1st Floor, Tianliao Avenue Juhui Mold Industrial Park, Tianliao Community, Yutang Street, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Patentee after: Shenzhen Shenda Aurora Technology Co.,Ltd. Address before: 518132 Building 1, Juhui Industrial Park, Tianliao community, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Patentee before: SHENZHEN SHENDA AURORA TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
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| CP03 | Change of name, title or address |