CN104118236B - 一种聚焦微反射元件阵列光学防伪元件及有价物品 - Google Patents

一种聚焦微反射元件阵列光学防伪元件及有价物品 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种聚焦微反射元件阵列光学防伪元件及有价物品。光学防伪元件包括透明基层、由微图案单元组成的微图案阵列以及由聚焦微反射元件单元组成的聚焦微反射元件阵列,微图案阵列至少部分覆盖透明基层的第一表面,聚焦微反射元件阵列至少部分覆盖透明基层的第二表面,微图案单元与聚焦微反射元件单元的焦平面的距离小于聚焦微反射元件单元焦距的50%;聚焦微反射元件阵列的周期tL与微图案阵列的周期tw满足和/或聚焦微反射元件阵列与微图案阵列之间的夹角θ满足θ∈[‑5°,5°];其中,n为正整数。本发明提供的光学防伪元件采用了直径较大的聚焦微反射元件,排列周期较大,工艺容差大,制作相对容易,成品率可以大幅度提高。

Description

一种聚焦微反射元件阵列光学防伪元件及有价物品
技术领域
本发明涉及安全领域,具体地,涉及一种聚焦微反射元件阵列光学防伪元件及有价物品。
背景技术
含有微透镜阵列的光学防伪元件已经广泛应用到有价物品的防伪领域,特别是应用在钞票上。含有微透镜阵列的光学防伪元件的结构是在透明基层的上表面设置微透镜阵列,在透明基层的下表面设置对应的微图案阵列,微图案阵列位于微透镜阵列的焦平面或其附近,微图案阵列与微透镜阵列排列大致相同,通过微透镜阵列对微图案阵列的莫尔放大作用实现具有一定景深并呈现奇特动态效果的图案。
美国专利文献US7333268公开了一种应用于钞票等有价证券开窗安全线的微透镜阵列防伪元件。为了适应具有开窗安全线的钞票纸工艺要求,防伪元件的厚度小于50微米,因此要求微透镜的焦距小于50微米。然而,为了获得相应小的焦距,微透镜单元的直径也必须小于50微米,亦即微透镜阵列的排列周期小于50微米。由于该开窗安全线只在背面有黏结胶,而正面(微透镜阵列所在的面)没有黏结胶,导致开窗安全线与纸结合牢度差,在钞票流通过程中容易脱落。在钞票流通过程中,汗渍、油污等污染将改变微透镜阵列的光学特性,使其光学效果下降,丧失防伪功能。该开窗安全线的图案放大倍数相对于透镜阵列和微图案阵列之间的周期差及夹角非常敏感,对制作精度要求极高,成品率低。此外,受限于微透镜阵列的周期较小,微图案阵列周期也同样较小,从而限制了微图文单元的尺寸,微图文单元的尺寸受限直接决定了微图案结构设计受限。
发明内容
本发明的目的是提供一种聚焦微反射元件阵列光学防伪元件及有价物品,以使光学防伪元件在流通环境下耐受性、防伪效果持久性达到要求,并降低制作难度,实现现有技术无法实现的视觉效果。
为了实现上述目的,本发明提供了一种聚焦微反射元件阵列光学防伪元件,该光学防伪元件包括透明基层、由微图案单元组成的微图案阵列以及由聚焦微反射元件单元组成的聚焦微反射元件阵列,所述微图案阵列至少部分覆盖所述透明基层的第一表面,所述聚焦微反射元件阵列至少部分覆盖所述透明基层的第二表面,所述微图案单元与所述聚焦微反射元件单元的焦平面的距离小于所述聚焦微反射元件单元焦距的50%;所述聚焦微反射元件阵列的周期tL与所述微图案阵列的周期tw满足和/或所述聚焦微反射元件阵列与所述微图案阵列之间的夹角θ满足θ∈[-5°,5°];其中,n为正整数。
所述聚焦微反射元件阵列将所述微图案阵列的图案放大β倍,其中:
β = n 1 + ( nt w t L ) 2 - 2 nt w cos θ t L 2 .
优选地,所述聚焦微反射元件阵列具有反射层。
优选地,所述反射层具有镂空图案。
优选地,所述反射层为单层介质层、多层介质层、金属反射层或者由金属反射层与介质层组成的多层结构。
优选地,所述n为1、2、3或4。
优选地,所述放大图案为单通道图案和/或多通道图案。
优选地,在聚焦元件阵列平面内的一个方向上和与该方向垂直的另一方向上的n取值不同。
优选地,所述微图案阵列由微印刷图案、填充颜料或染料的表面微浮雕微图案、线条结构微图案或印刷图案、填充颜料或染料的表面微浮雕微图案以及线条结构微图案中至少两者的组合构成。
优选地,所述微图案单元与所述聚焦微反射元件单元的焦平面的距离小于或等于所述聚焦微反射元件单元焦距的10%。
优选地,其中和/或θ∈[-2°,2°]。
优选地,所述聚焦微反射元件单元的直径大于50微米且小于150微米。
优选地,所述聚焦微反射元件单元的焦距为10微米至100微米。
优选地,所述聚焦微反射元件单元的焦距为15微米至40微米。
优选地,所述光学防伪元件的厚度小于50微米。
优选地,所述聚焦微反射元件单元为柱面反射镜、菲涅耳反射镜、二元波带片、球面反射镜或非球面反射镜。
优选地,所述透明基层的第一表面的剩余部分和/或所述透明基层的第二表面的剩余部分设置有全息防伪单元、菲涅耳浮雕结构单元、光变单元、亚波长微结构单元、动感光变单元或印刷图案。
优选地,微图案阵列的外部和/或聚焦微反射元件阵列的外部设置有保护层。
相应地,本发明提供了一种有价物品,所述有价物品上设置所述的光学防伪元件。
优选地,所述有价物品为钞票、信用卡、护照或有价证券。
本发明提供的光学防伪元件可以承受汗渍、油污的污染,并可以在其两面涂布黏胶,从而不易脱落。本发明提供的光学防伪元件采用了直径较大的聚焦微反射元件,排列周期较大,工艺容差大,制作相对容易,成品率可以大幅度提高。由于本发明提供的光学防伪元件采用了聚焦微反射元件,视角范围大,更加有利于观察。
本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1为本发明提供的光学防伪元件示例;
图2a-图2c为本发明提供的具有一维结构的光学防伪元件示例;
图3a-图3e为本发明提供的具有一维结构的双通道微图案阵列示例;
图4a-图4d为本发明提供的具有二维结构的光学防伪元件示例;
图5a-图5e为本发明提供的n=2时具有二维结构的双通道微图案单元示例;
图6为本发明提供的n=2时具有二维结构的微图案单元示例;
图7为本发明提供的在x、y方向上的n取值不同情况下的微图案单元示例;
图8为本发明提供的另一光学防伪元件示例。
附图标记说明
101 透明基层 102 微图案阵列
103 聚焦微反射元件阵列 104 反射层
1021 微图案单元 1031 聚焦微反射元件单元
1 光学防伪元件
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。
图1为本发明提供的光学防伪元件的剖面结构图。如图1所示,光学防伪元件1包括透明基层101、由微图案单元1021组成的微图案阵列102以及由聚焦微反射元件单元1031组成的聚焦微反射元件阵列103,微图案阵列102位于透明基层101第一表面上且至少部分覆盖透明基层第一表面,聚焦微反射元件阵列103位于透明基层101第二表面上且覆盖第二表面的至少部分区域。聚焦微反射元件阵列可以具有反射层104。所述微图案单元1021与所述聚焦微反射元件单元1031的焦平面的距离小于所述聚焦微反射元件单元1031焦距的50%,优选地,所述微图案单元1021与所述聚焦微反射元件单元1031的焦平面的距离小于或等于所述聚焦微反射元件单元1031焦距的10%;聚焦微反射元件阵列103与微图案阵列102存在对应关系,从而使得聚焦微反射元件阵列103可以放大微图案阵列102的图案,并且可以使图案具有一定的景深和/或动态效果。
透明基层101为通常由透明材料构成,有些情况下可以是有色透明材料,比如PET、PVC、PMMA、BOPP等。
构成微图案阵列102的微图案单元1021可以是微印刷图案、填充颜料或染料的表面微浮雕微图案、线条结构微图案等任何形式的微图案。线条结构微图案的形成方法参见中国专利申请201310596793.3。
构成所述聚焦微反射元件阵列103的聚焦微反射元件单元1031直径一般可以大于50微米,优选地在50微米至150微米的范围内。聚焦微反射元件单元1031的焦距一般可以大于10微米,优选地,焦距在15微米至40微米之间。聚焦微反射元件阵列103可以通过微加工工艺来制作聚焦微反射元件阵列103的原版,然后再通过模压、UV复制等工艺复制在透明基层101上。
反射层104可以是单层介质层(例如高折射率介质层)、高折射率介质层和低折射率介质层组成的多层介质层、金属反射层、或者金属反射层与介质层组成的多层结构。根据反射层的结构不同,反射层可以只起到反射作用,也可以附加有颜色或者颜色变化效果。反射层104可以通过涂布、印刷、蒸镀等方式实现。优选地,反射层104中还可以形成有镂空图案,其中所述镂空图案可以为宏观图案、微文字、精细线条等。
聚焦微反射元件阵列103与微图案阵列102的对应关系是指聚焦微反射元件阵列103周期与微图案阵列102周期之间的关系以及聚焦微反射元件阵列103与微图案阵列102之间角度。聚焦微反射元件阵列103与微图案阵列102的对应关系可以影响图案放大倍数以及动态或景深的效果。tw为微图案阵列的周期,tL为聚焦微反射元件阵列的周期,θ为聚焦微反射元件阵列103与微图案阵列102之间的夹角,其中tL等于或者略小于或者略大于ntw,具体的,优选n为正整数,优选n为1、2、3或者4, θ∈[-5°,5°],优选θ∈[-2°,2°]。T为放大图案的周期,图案的放大倍数β可以由下式给出:
β = T t w = n 1 + ( nt w t L ) 2 - 2 nt w cos θ t L 2 - - - ( 1 )
图2a-图2c为本发明光学防伪元件1提供的一维聚焦微反射元件阵列和微图案阵列示例。在一维阵列情况下,通常θ=0°,但并不排除θ不为0的情况。在θ不为0的情况下,设计比较复杂,但可以产生一些奇特的效果,有利于防伪。下面以θ=0原理性的说明设计方法和产生的效果。
图2a为一维聚焦微反射元件阵列103的排列方式示意图。构成一维聚焦微反射元件阵列103的一维聚焦微反射元件单元1031为柱面反射镜、一维菲涅耳反射镜、二元波带片或者其他任何具有一维聚焦反射光学元件之一或其组合。所述一维聚焦微反射元件阵列103的周期为tL。图2b为与一维聚焦微反射元件阵列103对应的微图案阵列102,图2c为微图案阵列102的正视图,图2b和图2c中的微图案称为单通道微图案。微图案阵列102周期为tw,tL可以略小于或者略大于ntw,n为正整数,表示每一个聚焦微反射元件单元1031大致对应n个微图案单元1021,具体的,优选优选n为1、2、3或者4。一个聚焦微反射元件单元1031大致对应的n个微图案单元1021可以是相同的微图案,也可以是不同的微图案。比如n=2时,若一个聚焦微反射元件单元1031大致对应2个相同的微图案单元1021,则再现的宏观图像为周期性排列的微图案放大图像,若一个聚焦微反射元件单元1031大致对应2个不相同的微图案单元1021,则再现的宏观图像为间隔排列的两个微图案放大图像。当tL>ntw时,人眼观察到的放大效果为下沉的图像。当tL<ntw,人眼观察到的放大效果为上浮的图像。n取值越大,动感效果越强烈,同时设计和制作难度也随之增加,因此,通常情况下n不大于4。
图3为一维聚焦微反射元件阵列情况下的双通道效果示例。图3a和图3b分别为两个微图案阵列A和B,其周期分别twA和twB,聚焦微反射元件阵列的周期tL略小于或者略大于ntwA和ntwB。将聚焦微反射元件阵列的每一个聚焦元件单元左右平分为2n等份,以分割后的奇数份和偶数份组成的两个平面图作为掩模版,分别切割这两个微图案阵列,如图3c和图3d所示,将二者组合成得到图3e所示微图案阵列。由该微图案阵列及相应的聚焦元件阵列构成的光学防伪元件随着观察角度的变化可以观察到图案由A变为B或者相反。
可以根据双通道方案的原理设计制作一维聚焦微反射元件阵列情况下多通道光学防伪元件,即设计每一个通道的微图案阵列,假设有m个通道,其周期分别为聚焦微反射元件阵列的周期的大致n倍。将一维聚焦微反射元件阵列的每一个聚焦元件单元分割成mn等份,以分割后由标号为m、m+1……m+(n-1)的份数组成掩模版,共计m个掩模版,分别切割对应的微图案阵列,将切割后的微图案阵列组合得到最终的微图案阵列。根据各通道微图案之间的关系,再现图像可以具有各种变化,比如立体、旋转、渐变、平移等效果或其组合。
下面示意性地说明聚焦微反射元件为二维情况下的实施方案及产生的效果。
图4a和图4b是二维聚焦微反射元件阵列103和与之相对应的微图案阵列102的一种排列方式,图4c和图4d是另一种排列方式。聚焦微反射元件阵列103和与之相对应的微图案阵列102的排列方式可以根据产品的要求任意设定。构成二维聚焦微反射元件阵列103的二维聚焦微反射元件单元1031为球面反射镜、非球面反射镜、菲涅耳反射镜、二元波带片或者其他任何具有二维聚焦反射光学元件之一或其组合。
当n=1时,每一个聚焦微反射元件单元1031大致对应一个微图案单元1021,即聚焦微反射元件阵列103的周期tL等于或者大致等于微图案阵列的周期tw,具体的,优选此时,图案放大倍数为:
&beta; = 1 1 + ( t w t L ) 2 - 2 t w cos &theta; t L 2 - - - ( 2 )
若θ=0°、tL>tw,则人眼观察到的放大效果为下沉的图像。
若θ=0°、tL<tw,则人眼观察到的放大效果为上浮的图像。
若θ=0°,在x方向上tL>tw,在y方向(与x方向垂直的方向)上tL<tw,则光学防伪元件在自身平面内转动时放大效果在下沉和上浮之间逐渐转换。
若θ为微小角度,例如θ≠0°,θ∈[-5°,5°],优选θ∈[-2°,2°],且tL=tw,人眼观察到放大效果为移动方向与观察者视角偏移方向相正交的图像动感效果。
图5为二维聚焦微反射元件阵列n=1情况下的双通道效果示例。图5a和图5b分别两个微图案阵列A和B,其周期分别为与二维聚焦微反射元件阵列的周期相等或者大致相等,与二维聚焦微反射元件阵列的夹角分别很小或者等于零。将二维聚焦微反射元件阵列的每一个聚焦元件单元左右平分,以分割后的得到的两个平面图作为掩模版,分别切割这两个微图案阵列,如图5c、图5d所示,即微图案阵列A保留与聚焦元件单元对应的左半部分,微图案阵列B保留与聚焦元件单元对应的右半部分,将二者组合成得到图5e所示微图案阵列。由该微图案阵列及相应的聚焦元件阵列构成的光学防伪元件随着观察角度的变化可以观察到图案由A变为B或者相反。
可以根据双通道方案的原理设计制作二维聚焦微反射元件阵列n=1情况下的多通道光学防伪元件,即设计每一个通道的微图案阵列,其周期分别为与二维聚焦微反射元件阵列的周期相等或者大致相等,与二维聚焦微反射元件阵列的夹角分别很小或者等于零。将二维聚焦微反射元件阵列的每一个聚焦元件单元按照微图案阵列的数目等分,以分割后得到的平面图作为掩模版,分别切割对应的微图案阵列,将切割后的微图案阵列组合得到最终的微图案阵列。根据各通道微图案之间的关系,再现图像可以有各种变化,比如立体、旋转、渐变、平移等效果或其组合。
当n=2时,每一个二维聚焦微反射元件单元1031大致对应4个微图案单元1021,图案放大倍数为
&beta; = 2 1 + ( 2 t w t L ) 2 - 2 &times; 2 t w cos &theta; t L 2 - - - ( 3 )
若θ=0°、tL>2tw,则人眼观察到的放大效果为下沉的图像。
若θ=0°、tL<2tw,则人眼观察到的放大效果为上浮的图像。
若θ=0°,在x方向上tL>2tw,在y方向(与x方向垂直的方向)上tL<2tw,则光学防伪元件在自身平面内转动时放大效果在下沉和上浮之间逐渐转换。
若θ为微小角度,例如θ≠0°,θ∈[-5°,5°],优选θ∈[-2°,2°],且tL=2tw,人眼观察到放大效果为移动方向与观察者视角偏移方向相正交的图像动感效果。
按照与n=1相似的方法,可以设计n=2时的双通道和多通道效果,只需将聚焦微反射元件阵列的每一个聚焦微反射元件单元先平分为4等分,再将每一份按照微图案阵列的数目等分平分若干等分即可。
n=2与n=1相比具有更强烈的动感,更加醒目,有利于防伪,并且具有更加灵活的设计空间,可以实现n=1难以实现效果。图6示出了二维聚焦微反射元件单元大致对应4个微图案单元,4个微图案单元可以是不同的,分别是A、B、C、D。二维聚焦微反射元件阵列与微图案阵列的对应关系可以是前述n=2时的任意关系,再现的放大图像为与微图案单元相似的A、B、C、D。进一步,分别由4个微图案单元A、B、C、D构成的分微图案阵列可以具有与二维聚焦微反射元件阵列不同对应关系,甚至微图案阵列按照前述的双通道或者多通道设计,这样再现出的放大图像A、B、C、D具有不同的视觉效果。
在聚焦元件阵列平面内定义任意方向为x方向,与其垂直的为y方向,在x方向和y方向上可以采用不同的n,以期得到特殊的视觉效果。图7所示,在x方向上取n=2,在y方向上取n=1,即在x方向上每一个二维聚焦微反射元件单元大致对应2个微图案单元,而在y方向上每一个二维聚焦微反射元件单元大致对应1个微图案单元,两个方向的具体对应关系可以是前述的任意对应关系,这种情况下可以得到相互垂直的两个方向上动感强度不同的视觉效果。
如前述n为正整数,考虑到设计的复杂性及生产的可行性,通常取n不大于4,n=3、4以及其他数的设计方法与n=2相同,此处不在赘述。
图8为本发明提供的另一光学防伪元件示例。图8所示的光学防伪元件1,包括若干一个区域Ⅰ和若干区域Ⅱ,其中区域Ⅰ为本发明提供的聚焦微反射元件阵列防伪元件,区域Ⅱ为其他功能区,用于实现其他方式的防伪功能,比如可以设置有全息防伪单元、菲涅耳浮雕结构单元、光变单元、亚波长微结构单元、动感光变单元或印刷图案等,以及这些特征的组合。这些特征可以在光学防伪元件的上表面、下表面或者两面都有。
可选的,光学防伪元件1的一面或者两面覆盖保护层,以对根据本发明的光学防伪元件1进行保护,从而增加使用寿命。其中,保护层可以通过涂布、印刷、沉积、填埋等工艺形成,并且其可以是一层或多层结构,而且保护层优选是透明的。当然,保护层还可以兼具增加颜色效果的功能,应当理解的是,增加颜色效果的功能可以通过与保护层相分离的功能层来单独实现,即用单独的功能层来实现,其中,该颜色层可以图案化。
光学防伪元件1可以具有荧光、磁性等机读特征,这些特征可以在光学防伪元件1任何一层中,也可以是单独的功能层。
本发明提供的光学防伪元件特别适合于制作安全线,可以两面涂布粘结胶,纸线结合牢度好,流通过程中不易脱落。同时汗渍、油污不会改变该光学元件的光学特性,耐污染能力强。
光学防伪元件采用了直径较大的聚焦微反射元件,排列周期较大,周期的容差大,制作相对容易,成品率高,并且在不增加制作难度的条件下实现更为丰富的效果。
根据本发明的光学防伪元件1也可用作标签、标识、宽条、透明窗口、覆膜等,可以通过各种粘结机理粘附在各种物品上,例如转移到钞票、信用卡等高安全产品和高附加值产品上。
以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式,但是,本发明并不限于上述实施方式中的具体细节,在本发明的技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种简单变型,这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是,在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征,在不矛盾的情况下,可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复,本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外,本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合,只要其不违背本发明的思想,其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (21)

1.一种聚焦微反射元件阵列光学防伪元件,该光学防伪元件包括透明基层、由微图案单元组成的微图案阵列以及由聚焦微反射元件单元组成的聚焦微反射元件阵列,所述微图案阵列至少部分覆盖所述透明基层的第一表面,所述聚焦微反射元件阵列至少部分覆盖所述透明基层的第二表面,其特征在在于,
所述微图案单元与所述聚焦微反射元件单元的焦平面的距离小于所述聚焦微反射元件单元焦距的50%;
所述聚焦微反射元件阵列的周期tL与所述微图案阵列的周期tw满足和/或所述聚焦微反射元件阵列与所述微图案阵列之间的夹角θ满足θ∈[-5°,5°];
其中,n为正整数,表示每一个聚焦微反射单元大致对应n个微图案单元,且n≠1。
2.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述聚焦微反射元件阵列将所述微图案阵列的图案放大β倍,其中:
&beta; = n 1 + ( nt w t L ) 2 - 2 nt w c o s &theta; t L 2 .
3.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述聚焦微反射元件阵列具有反射层。
4.根据权利要求3所述的光学防伪元件,其特征在于,所述反射层具有镂空图案。
5.根据权利要求4所述的光学防伪元件,其特征在于,所述反射层为单层介质层、多层介质层、金属反射层或者由金属反射层与介质层组成的多层结构。
6.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述n为2、3或4。
7.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述聚焦微反射元件阵列将所述微图案阵列的图案放大以获得放大图案,所述放大图案为单通道图案或多通道图案。
8.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,在聚焦元件阵列平面内的一个方向上和与该方向垂直的另一方向上的n取值不同。
9.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述微图案阵列由微印刷图案、或者填充颜料或染料的表面微浮雕微图案、或者线条结构微图案、或者微印刷图案、填充颜料或染料的表面微浮雕微图案以及线条结构微图案中至少两者的组合构成。
10.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,所述微图案单元与所述聚焦微反射元件单元的焦平面的距离小于或等于所述聚焦微反射元件单元焦距的10%。
11.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其特征在于,其中和/或θ∈[-2°,2°]。
12.根据权利要求1-11任意一项所述的光学防伪元件,其特征在于,所述聚焦微反射元件单元的直径大于50微米且小于150微米。
13.根据权利要求1-11任意一项所述的光学防伪元件,其特征在于,所述聚焦微反射元件单元的焦距为10微米至100微米。
14.根据权利要求1-11任意一项所述的光学防伪元件,其特征在于,所述聚焦微反射元件单元的焦距为15微米至40微米。
15.根据权利要求1-11任意一项所述的光学防伪元件,其特征在于,所述光学防伪元件的厚度小于50微米。
16.根据权利要求1-11任意一项所述的光学防伪元件,其特征在于,所述聚焦微反射元件单元为柱面反射镜、菲涅耳反射镜、二元波带片、球面反射镜或非球面反射镜。
17.根据权利要求1-11任意一项所述的光学防伪元件,其特征在于,所述透明基层的第一表面的剩余部分和/或所述透明基层的第二表面的剩余部分设置有全息防伪单元、菲涅耳浮雕结构单元、光变单元、亚波长微结构单元或印刷图案。
18.根据权利要求17所述的光学防伪元件,其特征在于,所述光变单元为动感光变单元。
19.根据权利要求1-11任意一项所述的光学防伪元件,其特征在于,微图案阵列的外部和/或聚焦微反射元件阵列的外部设置有保护层。
20.一种有价物品,其特征在于,所述有价物品上设置有根据权利要求1-19中任意一项所述的光学防伪元件。
21.根据权利要求20所述的有价物品,其特征在于,所述有价物品为钞票、信用卡、护照或有价证券。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104834029B (zh) * 2015-04-16 2016-09-28 上海天臣包装材料有限公司 双面成像的微光学器件及其制备方法和应用
CN106205428A (zh) * 2015-05-05 2016-12-07 宇隆光电股份有限公司 空间彩色显像装置
CN106324726B (zh) * 2015-07-08 2020-07-10 昇印光电(昆山)股份有限公司 一种3d成像光学薄膜
CN113311595B (zh) * 2015-07-08 2023-05-02 昇印光电(昆山)股份有限公司 悬浮成像光学薄膜
US11143794B2 (en) 2015-07-08 2021-10-12 Shine Optoelectronics (Kunshan) Co., Ltd Optical film
WO2017005206A1 (zh) 2015-07-08 2017-01-12 昇印光电(昆山)股份有限公司 光学薄膜
MA43350A (fr) * 2015-10-02 2018-08-08 De La Rue Int Ltd Dispositif de sécurité
CN105479974B (zh) 2015-12-01 2018-07-13 中钞特种防伪科技有限公司 一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的光学防伪产品
AU2016100402B4 (en) * 2016-04-13 2017-08-17 Ccl Secure Pty Ltd Micro-optic device with integrated focusing element and image element structure
CN108790469B (zh) * 2017-04-27 2020-06-30 中钞特种防伪科技有限公司 光学防伪元件与防伪产品
KR20210105917A (ko) * 2018-12-27 2021-08-27 크레인 앤 코, 인크 표면 적용 마이크로 광학 위조 방지 보안 디바이스
CN110333606A (zh) * 2019-05-06 2019-10-15 苏州大学 一种基于微聚焦元件的光学成像薄膜
CN112505938B (zh) * 2019-08-26 2022-07-05 昇印光电(昆山)股份有限公司 立体成像膜
CN114537015B (zh) * 2020-11-24 2023-03-31 中钞特种防伪科技有限公司 一种光学防伪元件及其产品
CN116300319A (zh) * 2021-12-21 2023-06-23 广东洛恩光电科技有限公司 用于制作全息母版的光刻机、方法、全息母版和防伪元件

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007029204A1 (de) * 2007-06-25 2009-01-08 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement
DE102007029203A1 (de) * 2007-06-25 2009-01-08 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement
CN101434176B (zh) * 2008-12-25 2012-11-07 中钞特种防伪科技有限公司 光学防伪元件及带有该光学防伪元件的产品
DE102009035361A1 (de) * 2009-07-30 2011-02-03 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement für einen zu schützenden Gegenstand sowie zu schützender Gegenstand mit einem solchen Sicherheitselement
DE102009048145A1 (de) * 2009-10-02 2011-04-07 Giesecke & Devrient Gmbh Datenträger mit Fenster
CN101767511B (zh) * 2010-01-12 2012-11-28 中钞特种防伪科技有限公司 光学防伪元件及带有该防伪元件的产品
CN103625154B (zh) * 2012-08-21 2016-05-18 中钞特种防伪科技有限公司 一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的产品
DE102012020257A1 (de) * 2012-10-16 2014-04-17 Giesecke & Devrient Gmbh Optisch variables Flächenmuster

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