CN105592814A - 灌注导管 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种包括围绕血液和组织的用于冷却消融电极的流体网络的导管。流体网络包括圆周通道，其具有环形并且流体耦接到所述至少一个近端纵向通道，近端纵向通道被配置为沿所述导管的近端长度引导流体。所述圆周通道被配置为关于所述导管的圆周部分的至少一部分引导流体。流体网络进一步包括流体耦接到所述圆周通道的多个远端纵向通道，所述多个远端纵向通道配置为沿所述导管的远端长度引导流体。所述流体网络占用所述导管的在所述导管的中央纵轴外围的区域，使得灌注导管的包括至少一个成像传感器的其他组件设置在消融电极的中央区域中。

Description

灌注导管

背景技术

心脏是非常复杂的器官，其依赖于肌肉收缩和电脉冲来正确运作。电脉冲经过心壁传播，首先经过心房并且随后经过心室，导致心房和心室中的对应的肌肉组织收缩。因此，心房首先收缩，接下来是心室。这个次序对于心脏的正确运作是重要的。

在一些个体中，心脏的电脉冲展开不规律的传播，打乱心脏的正常泵送动作。异常心跳节律被称为“心律失常”。当除了心脏的窦房结之外的其他位点开始律动时可能发生心律失常(即焦点心律失常)或者当心脏的电信号重复地在闭合电路中传播时可能发生心律失常(即折返性心律失常)。

已经开发了用于定位负责心律失常的心脏区域并且禁止这些区域的短路功能的技术。根据这些技术。具有一个或多个电极的消融导管用于施加能量到心脏组织的一部分以便消融该组织并且产生伤疤，伤疤中断折返性引导路径或者终止焦点开始。为此目的，消融导管传输能量到邻近电极的组织以在该组织中创建损伤。一个或多个合适地定位的损伤将典型地创建坏死组织区域，其用于禁止由心律失常焦点引起的游离脉冲的传播。通过施加能量到导管电极来执行消融。消融能量可以是例如RF、DC、超声、微波或激光辐射。

发明内容

一个实施方式涉及一种导管的流体网络。该流体网络包括圆周通道，其具有环形并且流体耦接到被配置为沿该导管的近端长度引导流体的至少一个近端纵向通道。该圆周通道被配置为关于该导管的圆周部分的至少一部分引导流体。流体网络还包括流体耦接到该圆周通道的多个远端纵向通道，该多个远端纵向通道配置为沿该导管的远端长度引导流体。

另一个实施方式涉及一种具有流体网络的导管。该导管包括：把手；耦接到把手的轴；和耦接到轴的消融电极。该导管还包括流体网络，其包括：至少一个近端纵向通道，其被配置为沿该导管的近端长度引导流体；圆周通道，其具有环形并且流体耦接到该至少一个近端纵向通道，其中，该圆周通道被配置为关于该导管的圆周部分的至少一部分引导流体；以及流体耦接到该圆周通道的多个远端纵向通道，该多个远端纵向通道配置为沿该导管的远端长度引导流体。

另一个实施方式涉及一种使用导管治疗组织的方法。该导管包括消融电极和至少部分地设置在消融电极中的流体网络。该方法包括以下动作：使用由该消融电极发射的消融能量在该组织中形成损伤；并且通过该流体网络引导流体以冷却该消融电极和/或周围组织。该流体网络包括：至少一个近端纵向通道，其被配置为沿该导管的近端长度引导流体；圆周通道，其具有环形并且流体耦接到该至少一个近端纵向通道，其中，该圆周通道被配置为关于该导管的圆周部分的至少一部分引导流体；以及流体耦接到该圆周通道的多个远端纵向通道，该多个远端纵向通道配置为沿该导管的远端长度引导流体。

另一个实施方式涉及一种灌注导管。该导管包括：消融电极；至少一个成像设备；成像设备操纵部分，其耦接到该至少一个成像设备并且被配置为旋转至少一个成像设备；流体网络，其被配置为沿该导管的长度引导流体并且占用围绕该成像设备操纵部分的导管外围区域。

根据另一个实施方式，公开了一种使用导管治疗组织的方法。该导管包括消融电极、至少一个成像设备、耦接到该至少一个成像设备并且被配置为旋转该至少一个成像设备的成像设备操纵部分。导管进一步包括配置为沿该导管的长度引导流体的流体网络。该方法包括：使用由该消融电极发射的消融能量在该组织中形成损伤；通过该流体网络引导流体以冷却该消融电极；并且使用该至少一个成像设备对该损伤进行成像；其中，该流体网络占用围绕该成像设备操纵部分的导管外围区域。

根据另一个实施方式，提供了一种导管。该导管包括：消融电极；至少一个成像设备；成像设备轴部分，其耦接到该至少一个成像设备；以及流体网络，其被配置为沿该导管的长度引导流体并且占用围绕该成像设备轴部分的导管外围区域。

附图说明

附图无需按比例描绘。在附图中，在各个图中用相似的标号表示每个相同或几乎相同的组件。为了清楚起见，在每个附图中可以不标记每个组件。在附图中：

图1A示出了根据本发明实施方式的消融导管系统的概况；

图1B示出了根据本发明实施方式包括流体网络和消融电极的灌注导管；

图2示出了图1中所示的导管的流体网络的一部分；

图3示出了至少部分地设置在图1中所示的导管的消融电极中的流体网络通道；

图4示出了通过在图1中所示的导管的流体网络的一部分的流体的流动；

图5根据一些实施方式示出了导管的流体网络的圆周通道；

图6是根据一些实施方式的导管的流体网络的横截面图；

图7-8根据一些实施方式示出了导管的流体网络的圆周通道中的隔板；

图9是在图1中所示的导管的流体网络的另一个图。

图10是根据一些实施方式的灌注导管的远端部分的透视图；

图11根据一些实施方式示出了在图10中所示的灌注导管的远端部分的横截面图；

图12根据一些实施方式示出了成像设备操纵部分的图；

图13根据一些实施方式示出了在灌注导管的消融电极和成像设备操纵部分之间的耦接。

图14和15根据一些实施方式示出了灌注导管的不同视图；

图15根据一些实施方式示出了灌注导管的注入线路；

图16根据一些实施方式示出了消融电极与成形的注入线路之间的耦接。

图16A和16B示出了成形的注入线路的可替换的实施方式；

图17根据一些实施方式示出了使用本文所述的导管的方法；以及

图18是根据一些实施方式的另一个灌注导管的远端部分的横截面图。

具体实施方式

利用消融电极施加能量以消融组织导致电极、周围血液和组织加热。然而，为了在组织中有效地创建损伤(例如创建心律不齐、执行肾脏去神经等等)，控制电极-组织接口处的温度以避免不想要的效果如血液烧焦和电极-组织接口处的阻抗增加是重要的。一种用于控制电极-组织接口处的温度的方法是用灌注流体来灌注消融电极。灌注流体提供对流冷却，其限制电极-组织接口的温度并且因而限制血液的加热和凝块的形成，其中，凝块可能导致栓塞事件如中风。

一种常规类型的灌注消融电极包括闭环灌注系统以贯穿消融电极循环灌注流体以冷却消融电极。灌注流体从流体源进入消融电极，贯穿消融电极循环，并且返回流体源。发明人认识到在一些闭环灌注系统中对血液执行加热的速度比被闭环灌注流带走的热量的速度更快，因而使得血液易受到烧焦和凝结形成。

通常被称为开放灌注消融电极的另一种常规类型的灌注消融电极包括设置在灌注消融电极中央的中央流体蓄液池和耦接到中央流体蓄液池以允许蓄液池中的灌注流体经过消融电极的外部中的孔被释放的径向通道。本发明认识到中央流体蓄液池占用电极中央处的显著数量的空间——该空间将可能永远其他目的，包括用于测量生理参数(例如损伤深度)的传感器。发明人进一步认识到具有中央流体蓄液池的一些常规开放灌注消融电极的另一个问题在于灌注流体不足以冷却消融电极的外部表面，因为该系统生成低的灌注流动速度并且结果需要大体积的流体来冷却电极、周围组织和血液。发明人进一步认识到将消融导管的表面与中央流体蓄液池分离的壁通常是厚的。例如，在一些实例中，中央流体蓄液池的厚度小于电极的厚度的三分之一，并且将电极的外表面与中央流体蓄液池分离的壁的厚度大于电极的厚度的三分之二。结果，电极的热质量比被循环以冷却电极的流体的更高。

因此在一些实施方式中提供了一种灌注导管，其包括至少部分地设置在消融电极的外套中而不是在消融电极的中央区域的流体网络。即该流体网络至少部分地设置在消融电极的在消融电极的中央纵轴外部的区域中。这样，与利用流经中央流体蓄液池的流体来灌注的常规消融电极相比，流经流体网络的灌注流体更靠近消融电极的表面流动。因为流体网络占用灌注电极的外围而不是中央区域，所以在一些实施方式中，灌注导管的其他组件(下文描述其实例)可以设置在消融电极的中央区域中，因此增加灌注导管的能力。

发明人还认识到将灌注流体释放到患者的血流中的常规灌注导管释放大量流体到血流中并且就这点而言其可能有利于降低被释放到血流中的灌注的量(例如对于具有肾衰竭的患者)。发明人进一步认识到当灌注流体以足够高的速度退出消融电极时，流体可能足以携带更多热量离开消融电极的表面，因而允许更少流体用于冷却消融电极周围的血液和组织到希望的等级。因此，在一些实施方式中，灌注导管的流体网络被配置为使得以允许流体快速地携带热量远离消融电极的表面的速度从消融电极释放灌注流体。

发明人还认识到将灌注流体释放到患者的血流中的常规灌注导管可能无法均匀地释放流体。例如，流体的退出速度可以依赖于用于退出流体的退出开口而不同。这可能导致消融电极、周围血液和组织的不均匀冷却。因此，在一些实施方式中，流体网络被配置为使得以接近和/或实质上相同的退出速度从消融电极的多个退出开口中的每一个释放流体。

发明人还认识到在心室纤维颤动和其他心律失常的治疗期间，消融损伤形成、导管接触和目标组织几何形状(例如壁厚度)的三维可视化可以助于创建足够的消融损伤。可变性的实时估计可以助于防止食管痿、支气管痿和过度治疗。发明人还认识到可以通过以极其高的成像速度允许目标消融位点的高分辨率估计的设置来助于损伤形成的三维图像的创建。

发明人还认识到一些常规消融技术无法提供在目标消融位点处的损伤形成的实施估计的足够能力。常规消融技术基于初始消融参数设置和IECG信号、导管热偶读数、功率利用信息或阻抗，在消融程序期间控制损伤形成。然而，这些信息源中的每一个在用于目标消融位点的估计是都具有限制。例如，热偶读数反应热偶自身的紧靠的近处中的温度信息，并且结果关于目标消融位点的详细(例如高分辨率三维)温度信息不能从热偶读数获得。系统的阻抗信息反应位于导管电极与参考电极之间的生物系统的总阻抗并且不提供关于目标消融位点的详细信息。功率利用也是关于系统的总信息并且不提供关于目标消融位点的详细信息。IECG信号可能包括关于目标消融位点的电气信息以及远距离信息，但是IECG信号不允许关于目标消融位点的其他生理信息的高分辨率抽样。

用于损伤形成的实时估计的其他技术可以包括光学相干光学相干、磁共振成像和超声。然而，利用这些技术的常规消融导管不能良好地适于与用于操纵、消融和温度感测的其他导管组件合并。常规消融导管可能没提供足够的空间以提供该成像能力(例如可能没有足够的空间来提供可旋转驱动轴以旋转成像元件)。例如上述常规开放灌注消融元件不具有足够的空间以实现该成像技术。

因此，在本文公开的一些实施方式中，灌注导管设置有这样一种布局，该布局允许流体灌注网络和配置为在损伤的形成期间和/或之后产生损伤的高分辨率三维实时图像的损伤估计组件的同时合并。

一些实施方式提供一种灌注导管，其包括：消融电极；至少一个成像设备；以及成像设备操纵部分，其耦接到至少一个成像设备并且被配置为旋转至少一个成像设备以便在损伤的形成期间和/或之后产生损伤的一个或多个图像。成像设备操纵部分占用消融电极的中央区域。灌注导管进一步包括流体网络，流体网络占用消融电极的除了中央区域之外的外围，并且就这点而言，流体网络的至少一部分占用围绕成像设备操纵部分的导管外围区域。在一些实施方式中，导管外围部分可以围绕成像设备操纵部分的整个周长。

如本文所使用的术语近似通常被理解为意味着例如15％以内、10％以你或5％以内，除非上下文另外指示不是这样，但是本领域熟练技术人员将认识到该数值有个范围。如本文所使用的术语实质上被理解为意味着例如5％以内、3％以内、2％以内或者确切地，除非上下文另外指示不是这样，但是本领域熟练技术人员将认识到该数值有个范围。

在本说明书中，将描述本发明的各种方案和特征。为了清楚起见，独立地描述本发明的各种特征。本领域熟练技术人员将认识到可以依赖于具体应用将特征选择性地组合在设备中。此外，各种特征中的任意一个可以合并在导管中和用于标测和/或消融程序的相关方法中。

现在参考图1A，其示出了根据本发明的一个实施方式的标测和/或消融导管系统的概况。该系统包括电极10，其具有轴部分12、控制把手14、连接器部分16和电极10、20、22、24。控制把手14可以包括致动元件如拇指轮26或滑块28，用于弯曲轴部分12的片段。控制器8经由缆线6连接到连接器部分16。消融能量生成器4可以经由缆线3连接到控制器8。记录设备2可以经由缆线1连接到控制器8。损伤显示器5可以连接到控制器8。损伤显示器5可以被配置为显示至少部分地通过使用灌注导管中的一个或多个成像设备(例如超声、光学等等)获得的图像。当用于消融应用时，控制器8用于控制由消融能量生成器4提供给导管10的消融能量。当用于标测应用时，控制器8用于处理来自导管10的信号并且提供这些信号给记录设备2。虽然记录设备2、消融能量生成器4和控制器8被示出为独立设备，但是它们可以合并到单个设备或两个设备中。

图1B示出了包括流体网络101和消融电极106的灌注导管100的一个实施方式。流体网络101具有流体源102和流体耦接到流体源102的近端纵向通道104。流体网络101进一步包括远端冷却部分105，其至少部分地设置在消融电极106中并且流体耦接到近端纵向通道104。远端冷却部分105包括被配置为经过消融电极106引导来自近端纵向通道104的流体的多个通道。流体网络101进一步包括限定在消融电极的外部壁中的退出开口108，可以从退出开口108释放流体以在电极-组织接口处控制温度的和/或促进电极的对流冷却。流体110，例如生理盐水流可以经由流体源102进入流体网络101，沿近端纵向通道104的长度流动进入至少部分地设置在消融电极106中的远端冷却部分105中的通道，并且经由退出开口108退出消融电极106。

近端纵向通道104可以具有多个部分，包括流体耦接(例如经由鲁尔接头或任意其他合适方式)到流体源102的接口管道112、流体耦接到接口管道112的过渡管道114、流体耦接到过渡管道114的灌注线路116以及流体耦接到灌注线路116的喷嘴部分200。流体110可以通过经由接口管道112，经由过渡管道114，经由灌注线路116并且随后经由喷嘴部分200从流体源102流进消融电极106而言之近端纵向通道104的长度流动。如图所示，近端纵向通道104包括4个部分，但是在其他实施方式中近端纵向通道可以包括任意合适数量的部分(例如一个、至少两个、至少三个、至少5个、至少十个等等)，本文提供的公开的方案不限于此。例如在一些实施方式中，近端纵向部分可以包括喷嘴部分和流体耦接到喷嘴部分的线路部分和流体源以便引导流体从流体源到喷嘴部分。

近端纵向通道104的横截面积可以沿其长度改变以改变沿其长度流动的流体的速度。在一些实施方式中，近端纵向通道104的横截面积可以沿通道长度从其近端到其远端减小，这可以加速沿近端纵向通道106的长度的流体的流动。这样，进入灌注消融导管106的流体的速度可以大于进入近端纵向通道104的流体的速度。另外，可以限制沿近端纵向通道的压降。

近端纵向通道104的横截面积可以阶梯而不是逐渐地减小。在近端纵向通道包括多个部分的实施方式中，这些部分可以具有连续减小的横截面积。例如在图1B中所示的实施方式中，过渡管道114具有比接口管道112更小的横截面积，灌注线路116具有比过渡管道114更小的横截面积。如前所述，近端纵向通道可以包括具有任意数量的部分，每个部分具有不同的横截面积。因此，近端纵向通道的横截面积可以以任意合适数量的阶梯减小，本文提供的公开的方案不限于此。在另一个实施方式中，近端纵向通道104的横截面积可以逐渐而不是以阶梯方式变尖。例如在一些实施方式中，近端纵向通道可以包括喷嘴部分和线路部分，其具有渐缩的横截面积并且配置为引导流体从流体源到喷嘴部分。

图2示出了图1中所示的流体网络100的消融电极106和喷嘴部分200的剖面图。喷嘴部分200流体耦接到远端冷却部分105中的通道，其包括至少部分地设置在消融电极106中的圆周通道500。如图所示，喷嘴部分200流体耦接到圆周通道500并且被配置为引导流体从近端纵向通道104到圆周通道500。消融电极106包括盖208，并且喷嘴200至少部分地设置在盖208中。

喷嘴部分200可被配置为加速从近端纵向通道104去向并且进入圆周通道500的流体的流动，因而进入圆周通道500的流体的速度大于进入喷嘴部分200的流体的速度。增加的流体速度因而允许经过圆周通道500的流体的均匀分布。可以以任意方式增加流体速度。例如喷嘴部分可以包括具有连续增加的横截面积的多个子部分以加速经过喷嘴部分的流体的流动。例如在所示实施方式中，喷嘴部分200包括横截面积连续减少的多个子部分。具体地，喷嘴部分200包括喷嘴子部分202、横截面积小于喷嘴子部分202的喷嘴子部分204、和横截面积小于喷嘴子部分204的喷嘴子部分206。喷嘴子部分202、204和206的减小的横截面积导致流体速度随着流体移动经过喷嘴部分200而增加。如图所示，喷嘴部分200包括三个子部分，但是在其他实施方式中喷嘴部分可以包括任意合适数量的子部分(例如一个、至少两个、至少三个、至少5个、至少十个等等)，本文提供的公开的方案不限于此。还应当认识到，在一些实施方式中，喷嘴部分可以包括单个部分，其具有渐缩的横截面积以加速流经喷嘴部分的流体的速度。

如前所述，喷嘴部分200被配置为引导流体进入至少部分地设置在消融电极106中的远端冷却部分105。如图3中所示，远端冷却部分105包括：被配置为关于消融电极106的至少一部分引导流体的圆周通道500、配置为沿消融电极106的长度引导流体的远端纵向通道302以及被配置为在远端纵向通道302和退出开口108之间引导流体的径向通道304。

圆周通道500包括多个开口(例如下文关于图5所述的开口502a-502d)，其允许流体从圆周通道500流到远端纵向通道302。如图3所示的，远端纵向通道302中的每一个经由圆周通道500的相应的开口流体耦接到圆周通道500。

远端纵向通道302可以包括任意数量的远端纵向通道。在一些实施方式中，远端纵向通道的数量使得通道可以关于圆周通道500的区域对称地设置。作为一个实例，远端纵向通道的数量可以使得通道关于开口210对称地设置，其中，喷嘴部分200经由开口210流体耦接到圆周通道500。例如，远端纵向通道302可以具有偶数个通道(例如2、4、6、8、10、12、14、16等等)。但是，在其他实施方式中，远端纵向通道302可以具有奇数个通道(例如、3、5、7、9、11、13、15等等)本文提供的公开的方案不限于此。

在一些实施方式中，具体远端纵向通道的横截面积可以是沿该具体远端纵向通道的长度均匀的。但是应该认识到，在该实施方式中不同的远端纵向通道的横截面积不需要相同。例如，两个不同的远端纵向通道的横截面积可以彼此不同。在其他实施方式中，具体的远端纵向通道的横截面积可以沿其长度改变。

为了允许从消融电极释放流体，每个远端纵向通道302流体耦接到一个或多个径向通道，径向通道被配置为引导流体到设置在消融电极的外部壁中的一个或多个退出开口108。每个径向通道可以具有均匀的或变化的横截面积。如图3中所示的，每个远端纵向通道302流体耦接到径向通道304，允许流体在远离远端纵向通道的径向方向中流动。径向方向可以位于到远端纵向通道的任何合适的角度。例如，径向方向可以处于到远端纵向通道90度(即垂直)的角度，处于到远端纵向通道75-90度范围中的任意角度；处于到远端纵向通道60-75度范围中的任意角度；处于到远端纵向通道45-60度范围中的任意角度；处于到远端纵向通道30-45度范围中的任意角度；处于到远端纵向通道5-30度范围中的任意角度。应该认识到远端纵向通道可以耦接到任意合适数量的径向通道(例如至少两个、至少四个、至少八个、至少十六个等等)。在远端纵向通道耦接到多个径向通道的实施方式中，每个远端纵向通道可以耦接到相同数量的径向通道，因而关于消融电极106均匀地分布并且从消融电极106均匀地释放流体。

远端纵向通道在其近端流体耦接到圆周通道500。在一些实施方式中，远端纵向通道可以在远端纵向通道的远端之前的一定距离处流体耦接到径向通道。在该实施方式中，远端纵向通道延伸该距离以经过其耦接到径向通道的点。例如如图3中所示，远端纵向通道在与远端纵向通道的远端相距距离305处流体耦接到径向通道。但是在其他实施方式中，远端纵向通道可以进入而不是延伸经过径向通道，本文提供的公开的方案不限于此。

虽然退出开口108被显示为具有圆形，但是这些开口可以可替换地是半圆形、直线、椭圆形或者具有任意其他合适的形状，本文提供的公开的方案不限于此。另外，任意合适数量的开口可以设置在消融电极106的外部壁中。

远端冷却部分105可以占用远端冷却部分105的中央纵轴外围的消融电极区域。这样，导管的其他组件(例如传感器、电线等等)可以设置在消融电极的中央区域，如下文更详细地描述的。例如，如图3中所示的，远端冷却部分105中的通道(包括圆周通道500、远端纵向通道302、径向通道204和退出开口108)占用消融电极106的中央纵轴308外围的区域310。外围区域310位于距中央纵轴308至少距离314，使得导管的其他组件(例如一个或多个成像设备、出现设备的操纵)可以设置在消融电极106的中央区域312中。如前所述，由于流体网络101的一部分(例如通道105)设置在消融电极的外围(而不是中央)区域中，所以经过流体网络的流体的流动可以沿电极的长度冷却电极(例如电极的外部壁)，并且可以冷却邻近电极的外部壁的血液(或任意其他材料如组织)。

在图4中进一步示出了经过流体网络的一部分的流体的流动，其显示了流经喷嘴部分200(经由子部分202、204、206)和开口202到圆周通道500的流体。该液体流动分割成沿圆周通道500的臂流动的两个流。每个流体流进一步分割成沿由远端纵向通道304提供的路径的多个流体流。流体流沿远端纵向通道302，进入流体耦接到远端纵向通道302的径向通道304，并且经由退出开口108退出消融电极。

在一些实施方式中，流体网络可以被构造为使得流体以允许退出的流体(生理盐水)快速地携带热量远离消融电极的速度经由退出开口108退出消融电极。从退出开口108以高速度释放流体可以通过在血液变得过热之前有效地携带热量远离能量源(即消融电极)助于控制血液的温度。在一些实施方式中，流体以范围在900-1600mm/秒，1000-1500mm/秒，1100-1500mm/秒，1100-1400mm/秒，1100-1300mm/秒，1200-1400mm/秒，1100-1300mm/秒或者任意其他合适范围内的速度退出灌注消融电极。在一些实施方式中，流体以高于900mm/秒、1000mm/秒、1100mm/秒、1200mm/秒、1300mm/秒、1400mm/秒、1500mm/秒、1600mm/秒等等的速度退出灌注消融电极。

在一些实施方式中，导管的流体网络可以被构造为使得沿近端纵向通道104引导的流体以近似相同的速度退出每个退出开口108。在一些实施方式中，流体网络可以被构造为使得经过近端纵向通道104引导的流体以实质上相同的速度退出每个退出开口108。具体地，流体网络(例如近端纵向通道104、喷嘴部分200、圆周通道500、远端纵向通道302、径向通道304、退出开口108等等)可以被构造并且设置为在退出开口108获得近似并且/或者实质上相同的退出速度。在下文中进一步描述在退出开口108处导致近似并且/或者实质上相同的退出速度的圆周通道500的构造的一些方案。

图5示出了圆周通道500。圆周通道500可以具有环形，在包括图5中所示的实施方式的一些实施方式中，圆周通道500可以具有截顶环形，使得圆周通道具有末端501a和501b。末端501a和501b可以增加在退出开口108处的流体的压力和速度，并且可以助于实现在退出开口108处近似并且/或者实质上均匀的流体退出速度。

圆周通道500包括允许流体从圆周通道500流到远端纵向通道302的多个通道开口。在所示实施方式中，圆周通道500包括邻近末端501a和501b的通道开口502a、位于通道开口502a和开口210(流体经由其从喷嘴部分200进入圆周通道500)之间的通道开口502b、位于通道开口502b和开口210之间的通道开口502c、以及位于通道开口502c和开口210之间通道开口502d。虽然在图5中示出了8个通道开口，但是应该认识到圆周通道可以具有任意合适的数量的通道开口(例如如前所述的，每个远端纵向通道的通道开口可以具有任何合适数量)。

在一些实施方式中，圆周通道的通道开口可以关于圆周通道的区域对称地设置。例如，如图5中所示的，圆周通道500的通道开口可以关于开口210对称地设置，其中，喷嘴部分200经由开口210流体耦接到圆周通道500。因此，圆周通道500可以包括与设置在开口210和末端501b之间的通道开口的数量相同数量的设置在开口210和末端501a之间的通道开口。

在一些实施方式中，可以存在偶数个通道开口，并且这些通道开口可以设置成对，每对通道开口位于距开口210实质上相同的距离。例如，在所示实施方式中，每个通道开口502a位于距开口210实质上相同的距离。作为另一个实例，每个通道开口502b位于距开口210实质上相同的距离。作为另一个实例，每个通道开口502c位于距开口210实质上相同的距离。作为另一个实例，每个通道开口502d位于距开口210实质上相同的距离。但是，在一些实施方式中，可以存在奇数个通道开口。

在一些实施方式中，圆周通道开口的直径可以变化，以便在退出开口108处实现近似和/或实质上均匀的流体退出速度。在一些实施方式中，圆周通道开口的直径可以与通道开口距开口210的距离成比例，因而通道开口距开口210越远则它们相应的直径越大。例如，通道开口502a的直径可以大于通道开口502b的直径。依次地，通道开口502b的直径可以大于通道开口502c的直径。依次地，通道开口502c的直径可以大于通道开口502d的直径。

应该认识到虽然开口502a-d被显示为具有圆形，但是这些开口可以可替换地是半圆形、线形、椭圆形或具有任意其他合适形状，，本文提供的公开的方案不限于此。在该实例中，开口的横截面积可以根据该开口到开口210的距离变化，使得更远离开口210(并且更靠近末端501a和501b)的通道开口可以具有更大的横截面积。

圆周通道500进一步包括隔板以在退出开口108处实现近似和/或实质上均匀的流体退出速度。如图所示，圆周通道500包括位于通道开口502a和502b之间的两个隔板504a。隔板504a可以配置为偏转从近端纵向通道104流出的流体以流动进入通道开口502b。圆周通道500进一步包括位于通道开口502c和502d之间的两个隔板504b。隔板504b可以配置为偏转从近端纵向通道104流出的流体以流动进入通道开口502c。虽然图5中示出了4个隔板，但是应该认识到在其他实施方式中，圆周通道可以具有任何合适数量的隔板(例如，0，2，4，6，8，10，12等等)。隔板可以关于圆周通道的区域对称设置。例如，圆周通道500的隔板可以关于开口210对称设置。

隔板可以降低在流体流动的方向中流动的流体的数量和/或速度。流体流动在隔板上的撞击可能重定向流体流动并且引起压力的区域性增加。隔板可以用任何合适的方式构造。例如在一些实施方式中，隔板可以是半壁并且可以包括图7和8中所示的鞍形部分。但是，隔板可以具有任何其他合适形状，本文提供的公开的方案不限于此。

如前所述的，导管流体网络(例如远端部分105)在消融电极106的外围区域(例如区域310)中的设置在消融电极的中央区域(例如中央区域312)中创建空间，该空间可被导管的其他组件占用。在一些实施方式中，区域312可以被用于获得消融电极周围的区域的一个或多个图像的数据并且/或用于访问消融电极已被应用到、正被应用到和/或将要应用消融能量的一个或多个区域的一个或多个成像设备。就这点而言，成像设备可用于执行损伤估计和/或任意其他合适功能。例如，如图5中所示的，超声设备506和光学相干光学相干设备508占用消融电极106的中央区域312。超声设备506可以是被配置为生成并且感测超声信号的任意合适类型的超声传感器，并且可以被配置为关于消融电极106的中央纵轴(例如轴308)旋转以获得用于生成一个或多个层析图像的数据。光学相干光学相干设备508可以是被配置为生成相干辐射源并且感测信号的任意合适类型的设备，并且还可能被配置为关于中央纵轴(例如轴308)旋转以获得用于生成一个或多个层析图像的数据。超声设备506和光学相干光学相干设备508可以耦接到至少一个处理器(未显示)，其被配置为接收由设备506和508获得的数据以生成一个或多个超声和/或层析图像。虽然在图5中显示了一个超声设备和一个光学相干光学相干设备，但是应该认识到在一些实施方式中，任意数量的任何合适类型的成像设备可以占用中央区域312(例如一个或多个超声设备、一个或多个光学相干光学相干或其他光学设备、一个或多个温度传感器、一个或多个红外设备、一个或多个RF设备等等)，本文提供的公开的方案不受可以占用中央区域312的成像设备的类型和/或数量的限制。

在消融电极包括至少一个超声设备(例如在中央区域312中)的实施方式中，消融电极可以被构造为允许通过电极来传输和接收超声能量(例如以便允许超声能量从中央区域312中传播到电极外部并且反之亦然)。例如，在一些实施方式中，消融电极可以是由热塑料聚合物如聚甲基戊烯(例如TPX)构造的。在其他实施方式中，消融电极可以是有涂覆(例如喷涂)有足够薄的金属的塑胶制造的以允许超声能量经过涂层传播。任意其他合适的方法可以另外地或可替换地使用。

图6和9提供了灌注导管的流体网络的实施方式的附加视图。具体地，图6是消融电极106的横截面视图并且显示了远端纵向通道302、退出开口108、超声设备506和光学相干光学相干设备508的相对设置。消融电极600的尖端可以是平坦的(未显示)或者可以是弯曲的或任意其他合适形状，本文提供的公开的方案不限于此。

图9提供了灌注导管的流体网络的剖面视图。具体地，图9显示了喷嘴部分200、盖208、以及包括圆周通道500、远端纵向通道302、径向通道304的通道105，以及退出开口108。图9还显示了超声设备506和光学相干光学相干设备508的一部分。如我们可以认识到的，圆周通道500可以在将盖208接合(例如焊接)到消融电极106的接缝处冷却消融电极106。

图10中示出了灌注导管的另一个实施方式，其是灌注导管1000的远端部分的透视图。图11是灌注导管1000的远端部分的横截面视图。导管1000的远端部分包括耦接到可偏转尖端1004的轴部分1002，可偏转尖端1004经由接口1006耦接到消融电极1008。可偏转尖端1004可以比轴部分1002更加柔性并且可以经由操纵缆线1106受控制以弯曲(例如以任何合适方式移动)，因而导致灌注导管1000的远端部分到希望的配置和/或位置。如图11中所示的，操纵缆线1106可以设置在灌注导管1000的中央区域外围的该导管的外套中的区域中。接口1006可以是阶梯接口以助于创建可偏转尖端1004与消融电极1008之间的密封。

导管1000包括至少部分地设置在消融电极1008的外套中的流体网络。流体网络包括多个通道(如前参考图1B和2-9所述的)，其配置为沿导管的长度引导流体(例如生理盐水)到消融电极以经过消融电极引导流体并且以从设置在消融电极的壁中的退出开口1010释放流体。这样，流体网络被配置为引导流体贯穿导管并且从导管释放流体以促进消融电极的对流冷却和/或控制电极-组织接口处的温度。

在一些实施方式中，流体网络可以包括被配置为沿导管的近端长度引导流体的近端纵向通道和引导流体贯穿灌注导管的远端部分的远端冷却部分。远端冷却部分可以至少部分地设置在消融电极1008的外套中。远端冷却部分可以包括圆周通道(例如圆周通道500)，其流体耦接到至少一个近端纵向通道(例如近端纵向通道104)。圆周通道可以具有环形并且在一些实施方式中，可以具有截顶环形。远端冷却网络可以进一步包括一个或多个远端纵向通道(例如图3中所示的远端纵向通道302)，其流体耦接到圆周通道并且被配置为沿导管的远端长度引导流体。下文进一步描述流体网络的方案，包括近端纵向通道的可替换的实施方式。

导管1000的远端部分进一步包括成像设备1002，其被成像设备盖1014覆盖。成像设备盖可以经由螺纹接口附接到导管。在一些实施方式中，成像设备1012可以是具有一个或多个超声传感器的超声设备。在成像设备1012包括多个超声传感器的实施方式中，超声传感器可以设置成阵列并且可以受到控制以执行联合成像(例如经由波束成形和/或其他合适的成像技术)。在其他实施方式中，成像设备1012可以是包括一个或多个光学相干光学相干(OCT)传感器的OCT成像设备。但是应该认识到成像设备1012可以是任何其他合适类型的成像设备，其包括但不限于参考图5所述的设备，本文提供的公开的方案不限于此。另外，虽然导管1000的远端部分被显示为仅具有一个成像设备，但是在一些实施方式中，导管可以具有多个成像设备(例如一个或多个超声成像设备和/或一个或多个OCT成像设备)。

在一些实施方式中，成像设备1012可以被配置为关于小于180度(例如小于150度、小于120度、小于90度、小于60度、小于45度、小于30度)的导向能量。在该实施方式中，包括图10所示的实施方式，成像设备1012的至少一部分可以与导管的纵(例如中央纵)轴成角度地倾斜。应该认识到成像设备1012并不限于与关于固定的角度导向能量，在一些实施方式中，成像设备1012可以配置为以可调节角度范围导向能量。在一些实施方式中，成像设备1012可被配置为随着损伤的形成和/或在损伤形成之后对损伤的至少一部分(例如损伤的一个或多个边缘、损伤的中央部分)成像。

在一些实施方式如图14和15中所示的实施方式中，导管1000的远端部分可以包括配置为关于大于180度的角度导向能量的成像设备。例如，如图14和15中所示的，导管1000的远端部分可以包括被配置为向任意合适角度导向能量的成像设备(例如成像设备1402)。配置为关于大于180度的角度导向能量的成像设备可以具有任何合适形状并且例如可以是半球形。

如图11中所示的，导管1000进一步包括耦接到成像设备1012并且配置为旋转成像设备1012的成像设备控制部分1100。成像设备控制部分1100包括操纵杆1102和耦接到操纵杆1102的驱动缆线1104。操纵杆1102可以加强轴部分1002，使得轴部分1002在弯曲时例如在操纵缆线1106被使用时不被压缩。

在所示的实施方式中，成像设备1012通过被耦接到驱动缆线1104的远端被耦接到成像设备操纵部分1100。轴部分1002和可偏转尖端1004被连接以提供用于操纵杆1102和驱动缆线1104的承接表面1108。承接表面1108可以防止操纵杆1102和驱动缆线1104的任意位移。图12中显示成像设备操作部分1100的另一个视图。

驱动缆线1104可以旋转以便旋转成像设备1012。在一些实施方式中，，操纵杆1102可以固定到驱动缆线1104并且配置为与驱动缆线1104一起旋转。在其他实施方式中，驱动缆线1104可以配置为与操纵杆1102独立地旋转。例如，操纵杆1102可以固定到轴部分1002，使得当驱动缆线1104旋转时操纵杆1102不旋转。

在一些实施方式中，操纵杆1102和/或驱动缆线1104的旋转可以由近端放置的马达(未显示)驱动。因此，成像设备1012的旋转可以由近端放置的马达驱动。然而，在以下参考图18所述的一些实施方式中，灌注导管中的成像设备的选择可以是由远端放置的马达驱动的。

成像设备控制部分1100可被配置为以每分钟任意合适数量的转数旋转成像设备1012。在一些实施方式中，成像设备控制部分可被配置为以在0和300RPM之间的任意速率、以在600和2400RPM之间的任意速率、以在800和2000RPM之间的任意速率、以至少100RPM的速率、以至少500RPM的速率、以至少1500RPM的速率和/或任意其他合适速率旋转成像设备。

在一些实施方式中，操纵杆1102可以包括中空管。该管可以由任意其他合适材料如不锈钢构成。该管可以是缆线管、编织管或任意其他合适类型的管。在一些实施方式中，驱动缆线1104可以包括扭矩传输线圈。该线圈可以是圆形电线圈、平面电线扭矩线圈或者内腔平面电线圈。该线圈可被配置为将线圈的近端的选择传输到线圈的远端。线圈可由任意合适材料构成并且可以例如是不锈钢线圈或铂和不锈钢线圈。

如前所述，在一些实施方式中，灌注导管的流体网络至少部分地设置在消融电的在消融电极的中央纵轴外围的区域中。因为流体网络包括消融电极的外围而不是中央区域，所以灌注导管的其他组件可以设置在消融电极的中央区域中。例如，如图11中所示的，成像设备控制部分1100设置在消融电极1008的中央区域中。就这点而言，流体网络的至少一部分占用围绕成像设备操纵部分的导管外围区域。应该认识到虽然流体网络占用导管外围区域，但是流体网络可以不占用整个区域。在一些实施方式中，外围区域可以围绕成像设备操纵部分的整个周长。

如前所述，灌注导管的流体网络可以包括至少部分地设置在消融电极1008的外套中的远端冷却部分。远端冷却部分可以围绕成像设备操纵部分1100的周长的至少一部分(例如半个周长或整个周长)。例如远端冷却部分可以围绕操纵杆1102和/或驱动缆线1104的至少一部分。远端冷却部分可以包括被配置为关于外围部分的圆周部分的至少一部分引导流体的圆周通道。就这点而言，圆周通道可以至少部分地围绕成像设备操纵部分1100。

在图11中所示的实施方式中导管1000的远端部分进一步包括增强套1110。增强套1110设置在导管1000的流体网络的远端冷却部分与成像设备控制部分1100之间的区域中。

在参考图10-12所述的实施方式中，成像设备耦接到被配置为旋转成像设备的图像操纵部分。然而应该认识到本文所提供的公开的全部方案在该发明不受限制。例如一些实施方式提供了包括耦接到至少一个成像设备的成像设备轴部分的灌注导管。在一些实施方式中，成像设备轴部分可以包括成像设备操纵部分(已提供了其实例)。在一些实施方式中，成像设备轴部分可以占用导管的中央区域。因此，灌注导管的流体网络可以占用围绕成像设备轴部分的导管外围区域。

在一些实施方式中，成像设备轴部分可以是鞘和/或盖，并且可被配置为容纳耦接到灌注导管的至少一个成像设备的电气和/或光学链路。成像设备轴部分可以例如被配置为容纳耦接到至少一个成像设备的一个或多个光纤，当成像设备包括至少一个光学相干光学相干传感器时可能是该情况。

应该认识到在灌注导管包括成像设备操纵部分的实施方式中，可以操纵(例如旋转)成像设备。这可以允许利用包括但不限于超声和/或光学相干光学相干成像设备的多种类型的成像设备获得损伤的三维图像。但是，在灌注导管不包括成像设备操纵部分的实施方式中，至少一个成像设备可被配置为无需旋转就执行损伤的成像。应该进一步认识到在一些实施方式中，成像设备可被配置为当其被旋转时和当其不被旋转时执行损伤的成像。例如当成像设备与中央纵轴(如上文所述)成应该角度时，成像设备可被旋转以提供损伤的三维图像。

图13显示了操纵缆线1106可以如何耦接到消融电极1008的说明性实例。消融电极1008包括空腔1302，其用于固定操纵缆线1106。在一些实施方式中，可以至少部分地通过使用灌注混合物将操纵缆线1106固定到消融电极1008。在一些实施方式中，操纵缆线1106可以弯曲以便耦接到消融电极1008。如图13中所示的，操纵缆线1106可以例如弯曲以形成“J形勾”，其通过使用空腔1302勾在消融电极1008上。

在一些实施方式中，消融电极1008的外套可以包括一个或多个纵向通道以用于沿灌注导管的长度引导灌注导管的一个或多个组件。例如如图13中所示的，消融电极1008包括纵向通道1304以用于沿导管的长度引导热传感器。消融电极1008还包括纵向通道1306以用于沿导管的长度引导导线。在所示的实施方式中，热传感器和导线占用导管的在成像设备操纵部分外围的区域。应该认识到，消融电极1008的外套可包括任意合适数量(例如1、2、3、4、5等等)的纵向通道以用于引导灌注导管的组件，本文提供的公开的方案不限于此。

如前所述，灌注导管的流体网络包括远端冷却部分(例如远端冷却部分105)和流体耦接到远端冷却部分的近端纵向通道。在一些实施方式中，近端纵向通道可以经由单个开口(例如参考图2所述的开口210)流体耦接到远端冷却部分。在其他实施方式中，近端纵向通道可以经由多个开口(例如2、3、4、5等等)流体耦接到远端冷却部分。例如，如图13中所示的，消融电极1008包括三个开口1308以用于将近端纵向通道耦接到至少部分地设置在消融电极中的远端冷却组件。

在一些实施方式中，灌注导管的近端纵向通道可以包括成型的注入线路如例如图14、15和16中所示的成型的注入线路1404，图14、15和16显示了灌注导管1000的不同视图。成型的注入线路可以被配置为附接到一个或多个喷嘴，每个喷嘴可以流体耦接到至少部分地设置在消融电极中的远端冷却部分。例如，如图15中所示的，成型的注入线路1404附接到流体耦接到开口1308的三个喷嘴。图16A显示了附接到3个注入喷嘴1604的成型的注入线路1602的另一个实例。图16B显示了附接到单个注入喷嘴1608的注入喷嘴1606。

现在参考图17，其示出了如本文所述的具有消融电极、至少一个成像设备和流体网络的导管100可以如何用于心脏内应用。导管被引入患者的心脏1702.成像直到(例如直接视觉估计、相机端口、荧光检查、心回波描记、磁共振、超声波、光学相干光学相干等等)可以用于将导管引入心脏。图17具体示出了引入患者的心脏的左心房的消融电极106，但是可以在其他腔室执行该程序。导管上的电极可以用于感测心脏中的信号以确定希望的消融位置。

在心脏1702中的希望位置，消融电极被配置为消融邻近导管的组织并且施加能量到相邻组织以在组织中形成一个或多个损伤。导管100的流体网络用于引导流体经过导管(例如经过消融电极的外围区域并且退出设置在消融电极的外部壁中的退出开口)，以冷却消融电极并且邻近消融电极的以冷却血液和/或组织。为了确定形成的损伤是否足以导致足够的传导阻碍程度，导管上的一个或多个成像设备(例如一个或多个超声传感器、一个或多个光学相干光学相干传感器等等)可用于估计损伤。

在一些实施方式中，估计损伤可以包括随着至少一个成像设备旋转利用该成像设备成像损伤。可以至少部分地通过使用例如本文已经描述的成像设备操纵部分来旋转成像设备。当损伤正在形成时和/或已经形成之后可以估计损伤。

以上文描述的方式形成的损伤可用于治疗心脏中的心律失常(例如心房纤维颤动)和/或其他心脏状况。还应该认识到，如本文所述的具有流体网络的导管可以用于于其他应用。作为一个非限制性的实例，导管可用于当执行肾去神经支配时形成一个或多个损伤以通过至少部分地降低或完全阻止肾交感神经活动来治疗动脉高血压。

在一些实施方式如参考图10和11所述的实施方式中，灌注导管的成像设备的旋转可以由近端放置的马达和延伸灌注导管的长度的驱动缆线驱动。例如，成像设备1012的旋转可以由近端放置的马达和驱动缆线1104驱动。发明人认识到在一些实例中当灌注导管足够弯曲时近端驱动的驱动缆线可能粘住或粘结。导管的可偏转尖端可以操控成一个或多个变化半径的拱形以将导管导航到心脏中的各种感兴趣区域。该操控可能生成曲率足够小以引起驱动缆线粘住或粘结的导管尖端半径。该粘住或粘结导致成像设备在导管中的非均匀旋转，并且因而导致由成像设备获得的图像的非均匀畸变。

发明人认识到成像设备的旋转可以由远端放置的马达而不是由近端放置的马达驱动，以减轻驱动缆线的粘住或粘结的问题。事实上，当远端放置的马达用于驱动成像设备的旋转时，可能不需要旋转延伸整个导管的长度的驱动线缆。

因此，一些实施方式提供具有一个或多个成像设备和用于驱动成像设备的旋转的远端放置的马达的管状导管。图18中显示了一个该实施方式，其是灌注导管1800的远端部分的横截面视图。

灌注导管1800的远端部分包括耦接到可偏转尖端1804的轴部分(未显示)，可偏转尖端1804经由接口1806耦接到消融电极1808。可偏转尖端1804可以是柔性的并且可经由操纵缆线1807受控制以弯曲(或以任何合适方式移动)因而导致灌注导管1800的远端部分的希望的配置和/或位置。操纵缆线1807可以设置在灌注导管1800的中央区域外围的该导管的外套中的区域中。接口1806可以是阶梯接口以助于创建可偏转尖端1804与消融电极1808之间的密封。

导管1800包括至少部分地设置在消融电极1808的外套中的流体网络。流体网络包括多个通道(如前参考图1B和2-9所述的)，其配置为沿导管的长度引导流体(例如生理盐水)到消融电极以经过消融电极引导流体并且以从设置在消融电极的壁中的退出开口1810释放流体。这样，流体网络被配置为引导流体贯穿导管并且从导管释放流体以促进消融电极的对流冷却和/或控制电极-组织接口处的温度。流体网络可以是本文所述的任意合适类型，例如可以是参考图10所述的类型的流体网络。

灌注导管1800的远端部分进一步包括成像设备1812，其由成像设备盖1814覆盖。在一些实施方式中，成像设备1812可以是与成像设备1012相同类型的成像设备(例如超声成像设备、光学相干光学相干成像设备等等)。但是应该理解成像设备1812可以是任意其他合适类型的成像设备，包括但不限于参考图5所述的成像设备，本文提供的公开的方案不限于此。虽然灌注导管1800的远端部分被显示为仅具有应该成像设备，但是在一些实施方式中，导管可包括多个成像设备。

如图18中所示的，导管1800进一步包括远端定位的马达，其被配置为选择成像设备1812。远端定位的马达可以占用灌注导管的中央区域。因此，灌注导管的流体网络可以占用围绕远端定位的马达的导管外围区域。远端定位的马达包括耦接到定子1818(例如线圈定子)的马达导线，定子附加到转子1820(例如圆柱转子)。

在一些实施方式中，远端定位的马达可以是超声马达。超声马达可以基于从超声振荡器获得的超声振荡来旋转。例如，超声波可以从外部超声振荡器沿马达导线1816传播到定子1818以旋转转子1829。但是，远端定位的马达不限于超声马达并且可以是任意其他合适类型(例如电磁马达)。在一些实施方式中，远端定位的马达可以具有小于3mm、小2mm、小于1mm、小于08mm或小于0.5mm的直径。

远端定位的马达可以被配置为以每分钟任意合适数量的转数旋转成像设备。在一些实施方式中，成像设备控制部分可以配置为以在0和300RPM之间的任意速率、以在600和2400RPM之间的任意速率、以在800和2000RPM之间的任意速率、以至少100RPM的速率、以至少500RPM的速率、以至少1500RPM的速率和/或任意其他合适速率旋转成像设备。

在描述了本发明的至少一个实施方式的多个方案之后，应该认识到本领域的熟练技术人员容易想到各种更改、修改、和改进。该更改、修改和改进意图是本文的公开的一部分并且意图包括在本发明的精神和范围中。因此，前文的描述和附图仅仅是示例性的。

Claims (57)

1.一种导管，包括：

消融电极；

至少一个成像设备；

成像设备操纵部分，其耦接到所述至少一个成像设备并且被配置为旋转至少一个成像设备；

流体网络，其被配置为沿所述导管的长度引导流体并且占用围绕所述成像设备操纵部分的导管外围区域。

2.根据权利要求1所述的导管，其中，所述外围区域围绕所述成像设备操纵部分的整个周长。

3.根据权利要求1所述的导管，其中，所述流体网络包括远端冷却部分，其中，所述远端冷却部分占用所述导管的所述外围区域。

4.根据权利要求3所述的导管，其中，所述远端冷却部分包括：

圆周通道，其被配置为关于所述外围部分的圆周部分的至少一部分引导流体。

5.根据权利要求1所述的导管，其中，所述成像设备操纵部分被配置为以范围在600到2400转每分钟的速率旋转所述至少一个成像设备。

6.根据权利要求1所述的导管，其中，所述成像设备操纵部分包括操纵杆和耦接到所述操纵杆的驱动缆线，并且其中，所述至少一个成像设备耦接到所述驱动缆线的远端。

7.根据权利要求6所述的导管，进一步包括：

增强套，其至少部分地设置在所述消融电极中并且提供到所述驱动缆线的承接表面。

8.根据权利要求6所述的导管，其中，所述驱动缆线被配置为与所述操纵杆独立地旋转。

9.根据权利要求6所述的导管，其中，所述驱动缆线被配置为与所述操纵杆一起旋转。

10.根据权利要求1所述的导管，其中，所述至少一个成像设备包括超声传感器。

11.根据权利要求10所述的导管，其中，所述至少一个成像设备包括超声传感器的阵列。

12.根据权利要求1所述的导管，其中，所述至少一个成像设备包括光学相干层析传感器。

13.根据权利要求1所述的导管，其中，所述至少一个成像设备被配置为关于小于180度的角度导向能量。

14.根据权利要求1所述的导管，其中，所述至少一个成像设备被配置为关于可调整的角度范围导向能量。

15.根据权利要求1所述的导管，进一步包括：

轴；

耦接到所述轴的可偏转尖端；以及

至少一个操纵缆线，其被配置移动所述可偏转尖端。

16.根据权利要求15所述的导管，其中，所述成像设备操纵部分包括操纵杆和驱动缆线，其中，所述操纵杆固定到所轴使得所述驱动缆线与所述操纵杆独立地旋转。

17.根据权利要求1所述的导管，进一步包括热传感器，其至少部分地设置在所述消融电极中并且占用所述导管的在所述操纵部分外围的区域。

18.根据权利要求1所述的导管，进一步包括导线，其至少部分地设置在所述消融电极中并且占用所述导管的在所述成像设备操纵部分外围的区域。

19.根据权利要求1所述的导管，其中，所述流体网络进一步包括：

至少一个近端纵向通道，其被配置为沿所述导管的近端长度引导流体；以及

远端冷却部分，其包括：

圆周通道，其具有环形并且流体耦接到所述至少一个近端纵向通道，其中，所述圆周通道被配置为关于所述导管的圆周部分的至少一部分引导流体；

流体耦接到所述圆周通道的多个远端纵向通道，所述多个远端纵向通道配置为沿所述导管的远端长度引导流体。

20.根据权利要求19所述的导管，其中，所述流体网络包括至少一个近端纵向通道，其中，所述至少一个近端纵向通道包括具有至少一个喷嘴的喷嘴部分，所述至少一个喷嘴具有阶梯型直径。

21.根据权利要求20所述的导管，其中，所述至少一个喷嘴包括三个喷嘴。

22.根据权利要求20所述的导管，其中，所述至少一个喷嘴包括一个喷嘴。

23.根据权利要求19所述的导管，其中，所述圆周通道具有截顶环形。

24.一种使用导管治疗组织的方法，所述导管包括消融电极、至少一个成像设备、耦接到所述至少一个成像设备并且被配置为旋转所述至少一个成像设备的成像设备操纵部分、以及配置为沿所述导管的长度引导流体的流体网络，所述方法包括：

使用由所述消融电极发射的消融能量在所述组织中形成损伤；

通过所述流体网络引导流体以冷却所述消融电极；并且

使用所述至少一个成像设备对所述损伤进行成像；

其中，所述流体网络占用围绕所述成像设备操纵部分的导管外围区域。

25.如权利要求24所述的方法，其中，所述外围区域围绕所述成像设备操纵部分的整个周长。

26.如权利要求24所述的方法，其中，所述流体网络包括远端冷却部分，其中，所述远端冷却部分占用所述导管的外围区域。

27.如权利要求24所述的方法，其中，所述远端冷却部分包括：

圆周通道，其被配置为关于所述外围区域的圆周部分的至少一部分引导流体。

28.如权利要求24所述的方法，其中，对所述损伤进行成像包括使用所述成像设备操纵部分旋转所述至少一个成像设备。

29.如权利要求28所述的方法，其中，使用所述成像设备操纵部分旋转所述至少一个成像设备包括以范围在600到2400转每分钟的速率旋转所述至少一个成像设备。

30.如权利要求24所述的方法，其中，对所述损伤进行成像包括当正在形成所述损伤时对所述损伤进行成像。

31.一种导管，包括：

消融电极；

至少一个成像设备；

成像设备轴部分，其耦接到所述至少一个成像设备；以及

流体网络，其被配置为沿所述导管的长度引导流体并且占用围绕所述成像设备轴部分的导管外围区域。

32.根据权利要求31所述的导管，其中，所述成像设备轴部分配置为容纳耦接到所述至少一个成像设备的一个或多个电气链路和/或光学链路。

33.根据权利要求32所述的导管，其中，所述成像设备轴部分配置为容纳耦接到所述至少一个成像设备的一个或多个光学链路。

34.根据权利要求33所述的导管，其中，所述至少一个成像设备包括光学相干层析传感器。

35.根据权利要求34所述的导管，其中，所述成像设备轴部分包括被配置为旋转所述至少一个成像设备的成像设备操纵部分。

36.一种导管的流体网络，所述流体网络包括：

圆周通道，其具有环形并且流体耦接到被配置为沿所述导管的近端长度引导流体的至少一个近端纵向通道，其中，所述圆周通道被配置为关于所述导管的圆周部分的至少一部分引导流体；

流体耦接到所述圆周通道的多个远端纵向通道，所述多个远端纵向通道配置为沿所述导管的远端长度引导流体。

37.根据权利要求36所述的流体网络，进一步包括：

流体耦接到所述多个远端纵向通道中的相应的远端纵向通道的多个退出开口，所述多个退出开口配置为允许通过多个远端纵向通道引导流体退出所述导管。

38.根据权利要求37所述的流体网络，其中，所述流体网络进一步包括多个径向通道，其被配置为在所述多个远端纵向通道和所述多个退出开口之间引导流体。

39.根据权利要求36所述的流体网络，其中，所述流体网络包括至少一个近端纵向通道，其中，所述至少一个近端纵向通道包括具有阶梯型直径的喷嘴部分，其中，所述喷嘴部分包括具有第一直径的第一部分和与所述第一部分远离的具有比第一直径更小的第二直径的第二部分。

40.根据权利要求36所述的流体网络，其中，所述圆周通道具有截顶环形。

41.根据权利要求40所述的流体网络，其中，所述至少一个近端纵向通道在所述圆周通道的第一圆周末端和第二圆周末端之间的中点处耦接到所述圆周通道。

42.根据权利要求41所述的流体网络，其中，所述多个远端纵向通道经由具有对应直径的相应的圆周通道开口耦接到所述圆周通道，并且其中，最靠近圆周通道的第一圆周末端和第二圆周末端中的一个的圆周通道开口的直径大于不那么靠近圆周通道的第一圆周末端和第二圆周末端中的一个的圆周通道开口的直径。

43.根据权利要求42所述的流体网络，其中，所述相应的圆周通道开口包括邻近所述圆周通道的第一圆周末端和第二圆周末端的第一开口和第二开口、在所述第一开口和所述中点之间的第三开口、以及在所述第二开口和所述中点之间的第四开口，其中，第一开口和第二开口具有比第三开口和第四开口更大的直径。

44.根据权利要求43所述的流体网络，进一步包括：

设置在第一开口和第三开口之间的第一隔板，所述第一隔板配置为偏转流自所述至少一个近端纵向通道的流体以流入所述第三开口；以及

设置在第二开口和第四开口之间的第二隔板，所述第二隔板配置为偏转流自所述至少一个近端纵向通道的流体以流入所述第四开口。

45.根据权利要求43所述的流体网络，其中，所述相应的圆周通道开口进一步包括设置在第三开口和中点之间的第五开口以及设置在第四开口和中点之间的第六开口，其中，第三开口和第四开口具有比第五开口和第六开口更大的直径。

46.根据权利要求45所述的流体网络，进一步包括：

设置在第一开口和第三开口之间的第一隔板，所述第一隔板配置为偏转流自所述至少一个近端纵向通道的流体以流入所述第三开口；

设置在第二开口和第四开口之间的第二隔板，所述第二隔板配置为偏转流自所述至少一个近端纵向通道的流体以流入所述第四开口；

设置在第三开口和第五开口之间的第三隔板，所述第三隔板配置为偏转流自所述至少一个近端纵向通道的流体以流入所述第五开口；以及

设置在第二开口和第四开口之间的第四隔板，所述第四隔板配置为偏转流自所述至少一个近端纵向通道的流体以流入所述第六开口。

47.根据权利要求45所述的流体网络，其中，所述相应的圆周通道开口进一步包括设置在第五开口和中点之间的第七开口以及设置在第六开口和中点之间的第八开口，其中，第五开口和第六开口具有比第七开口和第八开口更大的直径。

48.根据权利要求36所述的流体网络，其中，所述流体网络被构造为使得沿所述至少一个近端纵向通道引导的流体以实质上相同的速度退出多个退出开口中的每一个。

49.一种具有流体网络的导管，所述导管包括：

消融电极；以及

流体网络，其包括：

至少一个近端纵向通道，其被配置为沿所述导管的近端长度引导流体；以及

圆周通道，其具有环形并且流体耦接到所述至少一个近端纵向通道，其中，所述圆周通道被配置为关于所述导管的圆周部分的至少一部分引导流体；

流体耦接到所述圆周通道的多个远端纵向通道，所述多个远端纵向通道配置为沿所述导管的远端长度引导流体。

50.如权利要求49所述的导管，进一步包括：

流体耦接到所述多个远端纵向通道中的相应的远端纵向通道的多个退出开口，所述多个退出开口配置为允许通过多个远端纵向通道引导流体退出所述导管。

51.如权利要求49所述的导管，其中，所述多个退出开口限定在所述消融电极的外壁中。

52.如权利要求49所述的导管，其中，所述多个远端纵向通道设置在所述消融电极中。

53.如权利要求49所述的导管，其中，所述圆周通道至少部分地设置在所消融电极中。

54.如权利要求49所述的导管，其中，所述圆周通道具有截顶环形。

55.如权利要求49所述的导管，其中，所述流体网络占用所述导管的在所述导管的中央纵轴外围的区域。

56.如权利要求49所述的导管，其中，所述所消融电极上由热塑性聚合物或有涂覆有薄金属涂层的塑胶构造的。

57.一种使用导管治疗组织的方法，所述导管包括消融电极和至少部分地设置在所述消融电极中的流体网络，所述方法包括：

使用由所述消融电极发射的消融能量在所述组织中形成损伤；并且

通过所述流体网络引导流体以冷却所述消融电极；

其中，所述流体网络包括：

至少一个近端纵向通道，其被配置为沿所述导管的近端长度引导流体；以及

圆周通道，其具有环形并且流体耦接到所述至少一个近端纵向通道，其中，所述圆周通道被配置为关于所述导管的圆周部分的至少一部分引导流体；

流体耦接到所述圆周通道的多个远端纵向通道，所述多个远端纵向通道配置为沿所述导管的远端长度引导流体。