CN105501962A - 玻璃基板再清洗上片装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种玻璃基板再清洗上片装置,其中,包括底座(10),固定到所述底座(10)上的电机(20),可转动地安装到所述底座(10)上的转轴(11),套设并固定在所述转轴(11)上的支架(30),以及固定到所述支架(30)上端的支撑部(40)以用于承载并保持玻璃基板,所述电机(20)用于驱动所述转轴(11)沿正反两个方向转动,以使得所述支撑部(40)能够在倾斜位置和水平位置之间切换。这样通过再清洗上片装置,可以自动完成再清洗品的翻转上料动作,提高了设备的利用率,同时提高玻璃基板再清洗上片的良品率,减少了人工抽检和放片的劳动强度,提高了生产效率。

Description

玻璃基板再清洗上片装置
技术领域
本发明涉及玻璃基板生产设备领域,具体地,涉及一种玻璃基板再清洗上片装置。
背景技术
玻璃基板在生产过程中,由于工艺因素或者产品质量等问题,会产生一些因清洗不干净而造成的废品玻璃基板,这些玻璃基板经过再次清洗后会成为良品。玻璃基板在进行再清洗时,需要将A型架放置在上片区转台上,经过上片、划线、研磨等传送带最后送到清洗机内进行再清洗,使设备无法得到充分的利用。由人工对再清洗品在预湿抽检工位处进行人工投入,可以对设备进行充分的利用,但人工的操作存在不稳定性,容易产生划伤、污渍、破片,造成玻璃基板良品率和品质的降低,人员疲劳程度的增加,造成成本的浪费。
发明内容
本发明的目的是提供一种玻璃基板再清洗上片装置,该玻璃基板再清洗上片装置能够提高设备的利用率,同时提高玻璃基板再清洗上片的良品率。
为了实现上述目的,本发明提供一种玻璃基板再清洗上片装置,其中,包括底座,固定到所述底座上的电机,可转动地安装到所述底座上的转轴,套设并固定在所述转轴上的支架,以及固定到所述支架上端的支撑部以用于承载并保持玻璃基板,所述电机用于驱动所述转轴沿正反两个方向转动,以使得所述支撑部能够在倾斜位置和水平位置之间切换。
优选地,所述支架包括沿所述转轴的轴向间隔固定并套设在所述转轴上的多个立柱,连接到每个立柱的第一侧的加强板。
优选地,所述底座上固定有多个第一限位件,以用于在所述倾斜位置时止挡并支撑相对应的所述加强板。
优选地,每个所述立柱的与其第一侧相对的第二侧上固定有第二限位块,以用于将所述支撑部止挡于所述水平位置。
优选地,所述支撑部包括固定在所述立柱和所述加强板上的连接板,以及沿所述连接板的长度方向间隔设置的多个支撑杆,该支撑杆从所述立柱的第一侧朝向所述立柱的第二侧延伸。
优选地,所述支撑杆上固定有限位挡块,以使得所述玻璃基板在所述倾斜位置能够保持在所述支撑杆上。
优选地,所述支撑杆沿其长度方向间隔设置有多个万向滚轮。
优选地,所述底座上还固定有连接在所述电机和所述转轴之间的减速机。
优选地,所述底座上设置有用于保护所述电机和所述减速机的防护罩。
优选地,所述底座上固定有一对轴承座,所述转轴的两端通过轴承安装到相对应的轴承座中。
通过上述技术方案,将玻璃基板再清洗上片装置安装在清洗机预湿抽检工位的前方,由于电机可以驱动支撑部以转轴为旋转中心,以支架的长度为半径进行旋转,因此,首先可以调整电机沿正向转动使得支撑部位于倾斜位置,在倾斜位置时,支撑部的用于承载玻璃基板的工作台平面与A型架上的用于贴靠玻璃基板的平面平行,这样,可以使得玻璃基板从A型架上移动至支撑部上的角度和位移最小,能够减少对玻璃基板的划伤、污渍和破片。随后,再调整电机沿反向转动使得支撑部位于水平位置,在水平位置时,支撑部的用于承载玻璃基板的工作台平面与预湿抽检工作台位于同一水平面上,从而可以平稳地将玻璃基板从支撑部转移至预湿抽检工作台上,即完成再清洗品的翻转上料动作,并由抽检工作台自动将玻璃基板输送至清洗机内进行清洗。因此,可以使得设备分段管理,在上片、划线或者研磨设备进行工艺调整、维修维护、打扫环境卫生的情况下,可使用该上片装置进行再清洗品的正常投片运行,减少因再清洗造成的设备无法正常生产,充分利用设备的停机时间,提高了设备的利用率。另外,还可以避免因操作人员的不稳定性造成的玻璃基板的划伤、污渍和破片现象,提高了玻璃基板再清洗上片的良品率,减少了人工抽检和放片的劳动强度,提高了生产效率,增加了经济效益。
本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是本发明优选实施方式提供的玻璃基板再清洗上片装置的立体结构示意图;
图2是本发明优选实施方式提供的玻璃基板再清洗上片装置的正视结构示意图;
图3是本发明优选实施方式提供的玻璃基板再清洗上片装置的侧视结构示意图。
附图标记说明
10底座11转轴12第一限位件
13第二限位块14防护罩15轴承座
20电机30支架31立柱
32加强板40支撑部41连接板
42支撑杆43限位挡块44万向滚轮
50减速机60玻璃基板
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。
在本发明中,在未作相反说明的情况下,使用的方位词如“上、下、左、右”通常是指附图的图面方向而言的,“内、外”是指相应部件轮廓的内和外。
如图1至图3所示,本发明提供一种玻璃基板再清洗上片装置,其中,包括底座10,固定到底座10上的电机20,可转动地安装到底座10上的转轴11,套设并固定在转轴11上的支架30,以及固定到支架30上端的支撑部40以用于承载并保持玻璃基板60,电机20用于驱动转轴11沿正反两个方向转动,以使得支撑部40能够在倾斜位置和水平位置之间切换。
其中,底座10可以为底板和固定到底板上的多个地脚。
这样,将玻璃基板再清洗上片装置安装在清洗机预湿抽检工位的前方,由于电机20可以驱动支撑部40以转轴11为旋转中心,以支架30的长度为半径进行旋转,因此,首先可以调整电机20沿正向转动使得支撑部40位于倾斜位置,在倾斜位置时,支撑部40的用于承载玻璃基板60的工作台平面与A型架上的用于贴靠玻璃基板60的平面平行,这样,可以使得玻璃基板60从A型架上移动至支撑部上的角度和位移最小,能够减少对玻璃基板60的划伤、污渍和破片。随后,再调整电机20沿反向转动使得支撑部40位于水平位置,在水平位置时,支撑部40的用于承载玻璃基板60的工作台平面与预湿抽检工作台位于同一水平面上,从而可以平稳地将玻璃基板60从支撑部40转移至预湿抽检工作台上,即完成再清洗品的翻转上料动作,并由抽检工作台自动将玻璃基板60输送至清洗机内进行清洗。因此,可以使得设备分段管理,在上片、划线或者研磨设备进行工艺调整、维修维护、打扫环境卫生的情况下,可使用该上片装置进行再清洗品的正常投片运行,减少因再清洗造成的设备无法正常生产,充分利用设备的停机时间,提高了设备的利用率。另外,还可以避免因操作人员的不稳定性造成的玻璃基板60的划伤、污渍和破片现象,提高了玻璃基板再清洗上片的良品率,减少了人工抽检和放片的劳动强度,提高了生产效率,增加了经济效益。
具体地,为便于稳定支撑支撑部40,支架30包括沿转轴11的轴向间隔固定并套设在转轴11上的多个立柱31,连接到每个立柱31的第一侧的加强板32。
其中,加强板32上可以形成有减重孔。如图3所示,加强板32的形状可以为直角梯形。
为便于玻璃基板60能够平稳地保持于倾斜位置,如图2和图3所示,底座10上固定有多个第一限位块12,每个第一限位块12用于止挡并支撑相对应的加强板32。
为实现在倾斜位置时,支撑部40的用于承载玻璃基板的工作台平面与预湿抽检工作台位于同一水平面上,每个立柱31的与其第一侧相对的第二侧上固定有第二限位块13,以用于将支撑部40止挡于水平位置。例如,第二限位块13可以与预湿抽检台的前板相互止挡,以防止翻转动作继续达到限位的目的。
其中,第一限位块12和第二限位块13可以采用复合洁净要求的优力胶材质,以保护在碰撞过程中,不会产生噪音和扬起粉尘。
具体地,为方便玻璃基板60从支撑部40传送到清洗机预湿抽检工位台,支撑部40包括固定在立柱31和加强板32上的连接板41,以及沿连接板41的长度方向间隔设置的多个支撑杆42,该支撑杆42从立柱31的第一侧朝向立柱31的第二侧延伸。换言之,多个支撑杆42共同形成用于承载玻璃基板60的工作台平面。
其中,支撑杆42优选可以采用碳纤维材质,既可以减轻设备本身重量,又保证了支撑杆的结构强度。
为防止在倾斜位置时,玻璃基板60从多个支撑杆42上滑落,支撑杆42上固定有限位挡块43,以使得玻璃基板60在倾斜位置能够保持在支撑杆42上。其中,限位挡块43可以形成为L形挡块。
当然限位挡块43也可以固定到连接板41上,或者连接板41形成为L形的板件,以支撑和保持玻璃基板60。
为使得玻璃基板60顺畅地从支撑部40移动至预湿抽检工作台,支撑杆42沿其长度方向间隔设置有多个万向滚轮44,这样,通过玻璃基板60在万向滚轮44上滑动,可以很好地保护玻璃基板60,防止玻璃基板60划伤。
其中,限位挡块43和万向滚轮44可以采用符合洁净要求的尼龙材质。
为保证转轴11具有足够大的转动力矩,底座10上还固定有连接在电机20和转轴11之间的减速机50。
优选地,底座10上设置有用于保护电机20和减速机50的防护罩14。即,通过防护罩14罩在电机20和减速机50的上方,可以防止水分对电机20和减速机50的正常工作造成影响。
为实现转轴11转动灵活,底座10上固定有一对轴承座15,转轴11的两端通过轴承安装到相对应的轴承座15中。
以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式,但是,本发明并不限于上述实施方式中的具体细节,在本发明的技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种简单变型,这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是,在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征,在不矛盾的情况下,可以通过任何合适的方式进行组合,为了避免不必要的重复,本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外,本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合,只要其不违背本发明的思想,其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (10)

1.一种玻璃基板再清洗上片装置,其特征在于,包括底座(10),固定到所述底座(10)上的电机(20),可转动地安装到所述底座(10)上的转轴(11),套设并固定在所述转轴(11)上的支架(30),以及固定到所述支架(30)上端的支撑部(40)以用于承载并保持玻璃基板,所述电机(20)用于驱动所述转轴(11)沿正反两个方向转动,以使得所述支撑部(40)能够在倾斜位置和水平位置之间切换。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板再清洗上片装置,其特征在于,所述支架(30)包括沿所述转轴(11)的轴向间隔固定并套设在所述转轴(11)上的多个立柱(31),连接到每个立柱(31)的第一侧的加强板(32)。
3.根据权利要求2所述的玻璃基板再清洗上片装置,其特征在于,所述底座(10)上固定有多个第一限位块(12),以用于在所述倾斜位置时止挡并支撑相对应的所述加强板(32)。
4.根据权利要求2所述的玻璃基板再清洗上片装置,其特征在于,每个所述立柱(31)的与其第一侧相对的第二侧上固定有第二限位块(13),以用于将所述支撑部(40)止挡于所述水平位置。
5.根据权利要求2所述的玻璃基板再清洗上片装置,其特征在于,所述支撑部(40)包括固定在所述立柱(31)和所述加强板(32)上的连接板(41),以及沿所述连接板(41)的长度方向间隔设置的多个支撑杆(42),该支撑杆(42)从所述立柱(31)的第一侧朝向所述立柱(31)的第二侧延伸。
6.根据权利要求5所述的玻璃基板再清洗上片装置,其特征在于,所述支撑杆(42)上固定有限位挡块(43),以使得所述玻璃基板在所述倾斜位置能够保持在所述支撑杆(42)上。
7.根据权利要求5所述的玻璃基板再清洗上片装置,其特征在于,所述支撑杆(42)沿其长度方向间隔设置有多个万向滚轮(44)。
8.根据权利要求1所述的玻璃基板再清洗上片装置,其特征在于,所述底座(10)上还固定有连接在所述电机(20)和所述转轴(11)之间的减速机(50)。
9.根据权利要求8所述的玻璃基板再清洗上片装置,其特征在于,所述底座(10)上设置有用于保护所述电机(20)和所述减速机(50)的防护罩(14)。
10.根据权利要求1所述的玻璃基板再清洗上片装置,其特征在于,所述底座(10)上固定有一对轴承座(15),所述转轴(11)的两端通过轴承安装到相对应的轴承座(15)中。
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Denomination of invention: Rewashing and loading device of glass substrate

Effective date of registration: 20200713

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Pledgor: WUHU TUNGHSU PHOTOELECTRIC SCIENCE AND TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Registration number: Y2020990000738