CN105463374A - 真空镀膜工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种真空镀膜工艺，包括产品的清洗、分别采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在清洗后的产品表面形成SiO2膜层、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在清洗后的产品表面形成防污膜层以及成品的包装等步骤，通过在产品为表面设置一层SiO2膜层以及一层防污膜层，镀膜的方式包括电子束蒸镀方式、溅射镀方式以及热气流蒸镀方式，从而达到了油水物质均不会直接接触到产品表面，从而使得产品表面不会发生腐蚀或者划伤的可能。

Description

真空镀膜工艺
技术领域
本发明涉及镀膜工艺的技术领域，尤其涉及一种真空镀膜工艺。
背景技术
普通铝材质存放过程中会容易产生氧化，另外有时候用手去触摸，因为人手上残留的汗液（含有盐分）或化妆品，就很容易氧化膜层，所以如果能够在镀膜过程中在产品表面做一层保护膜，让产品表面防止污染或能让污染物质轻易消除，那就会给手持式产品带来很大的方便。
发明内容
针对上述技术中存在的不足之处，本发明提供一种工艺简单、效果明显的真空镀膜工艺。
为了达到上述目的，本发明一种真空镀膜工艺，包括以下步骤：
S1、产品的清洗：辅助清洗结构上的清洗机械手抓取待清洗产品，并按照输送带路线将带清洗产品传送到清洗室中进行产品的表层清洗；
S2、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在清洗后的产品表面形成SiO2膜层；
S21电子束蒸镀SiO2膜层：将S1中清洗后的产品传送到第一电子束蒸镀室中，从电子枪中喷射出的SiO2喷涂物料以蒸发气体的形式粘合在产品表面；
S22、溅射镀SiO2膜层：将S1中清洗后的产品传送到第一溅射镀室中，SiO2喷涂物料以液体形态喷射在产品表面，以产生膜层；
S23、热气流蒸镀SiO2膜层：将S1中清洗后的产品传送到第一热气流蒸镀室中，蒸发源腔将SiO2喷涂物料蒸发成气体扩散到第一热气流蒸镀室内，气体自然吸附在产品表面形成膜层；
S3、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在镀有SiO2膜层的产品表面形成防污膜层；
S31电子束蒸镀防污膜层：将S2中镀膜后的产品传送到第二电子束蒸镀室中，从电子枪中喷射出的防污药品以蒸发气体的形式粘合在产品表面；
S32、溅射镀防污膜层：将S2中镀膜后的产品传送到第二溅射镀室中，防污药品以液体形态喷射在产品表面，以产生膜层；
S33、热气流蒸镀防污膜层：将S2中镀膜后的产品传送到第二热气流蒸镀室中，蒸发源腔将防污药品蒸发成气体扩散到第二热气流蒸镀室内，气体自然吸附在产品表面形成膜层；
S4、成品的包装：判断S3中生产出的成品是否为合格产品，合格产品进行包装，不合格产品进入回收站。
其中，S4具体为油水清除检测过程，该过程具体为：S3中生产出的成品进入到油水清除检测室中，油水清除检测机器对成品的清除效果进行检测，并得到清除率检测数据。
其中，该工艺还包括S5摩擦系数检测过程，该过程在S4的步骤之后，成品从油水清除检测室中出来后进入到摩擦系数检测室中，摩擦系数检测机器对成品的摩擦强度进行检测，并得到摩擦系数的检测数据。
其中，该工艺还包括S6抗阻特性检测过程，该过程在S5之后，成品从摩擦系数检测室中出来后进入到抗阻特性检测室中，抗阻特性检测机器对成品的抗阻特性进行检测，并得到抗阻特性的检测数据。
其中，在S2的SiO2膜层镀膜过程中，SiO2膜层的厚度为20~30μm。
其中，在S3的防污膜层镀膜过程中，SiO2膜层的厚度为10~20μm。
其中，在电子束蒸镀镀膜过程中，第一电子束蒸镀室和第二电子束蒸镀室的温度为23±5℃，室内湿度为50±10%。
其中，在溅射镀镀膜过程中，第一溅射镀蒸镀室和第二溅射镀蒸镀室的温度为30±5℃，室内湿度为30±10%。
其中，在热气流蒸镀的镀膜过程中，第一热气流蒸镀室和第二热气流蒸镀室的温度为95±5℃，室内湿度为60±10%。
其中，在S5-S7中使用到的防污药品包括防粘连剂10~15%、增硬耐磨剂12~15%、流平剂20~40%以及剩余的其他助剂。
本发明的有益效果是：
与现有技术相比，本发明的真空镀膜工艺，通过在产品为表面设置一层SiO2膜层以及一层防污膜层，镀膜的方式包括电子束蒸镀方式、溅射镀方式以及热气流蒸镀方式，从而达到了油水物质均不会直接接触到产品表面，从而使得产品表面不会发生腐蚀或者划伤的可能。
附图说明
图1为本发明真空镀膜工艺的流程框图。
具体实施方式
为了更清楚地表述本发明，下面结合附图对本发明作进一步地描述。
参阅图1，本发明一种真空镀膜工艺，包括以下步骤：
S1、产品的清洗：辅助清洗结构上的清洗机械手抓取待清洗产品，并按照输送带路线将带清洗产品传送到清洗室中进行产品的表层清洗；
S2、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在清洗后的产品表面形成SiO2膜层；
S21电子束蒸镀SiO2膜层：将S1中清洗后的产品传送到第一电子束蒸镀室中，从电子枪中喷射出的SiO2喷涂物料以蒸发气体的形式粘合在产品表面；
S22、溅射镀SiO2膜层：将S1中清洗后的产品传送到第一溅射镀室中，SiO2喷涂物料以液体形态喷射在产品表面，以产生膜层；
S23、热气流蒸镀SiO2膜层：将S1中清洗后的产品传送到第一热气流蒸镀室中，蒸发源腔将SiO2喷涂物料蒸发成气体扩散到第一热气流蒸镀室内，气体自然吸附在产品表面形成膜层；
S3、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在镀有SiO2膜层的产品表面形成防污膜层；
S31电子束蒸镀防污膜层：将S2中镀膜后的产品传送到第二电子束蒸镀室中，从电子枪中喷射出的防污药品以蒸发气体的形式粘合在产品表面；
S32、溅射镀防污膜层：将S2中镀膜后的产品传送到第二溅射镀室中，防污药品以液体形态喷射在产品表面，以产生膜层；
S33、热气流蒸镀防污膜层：将S2中镀膜后的产品传送到第二热气流蒸镀室中，蒸发源腔将防污药品蒸发成气体扩散到第二热气流蒸镀室内，气体自然吸附在产品表面形成膜层；
S4、成品的包装：判断S3中生产出的成品是否为合格产品，合格产品进行包装，不合格产品进入回收站。
相较于现有技术，本发明的真空镀膜工艺，通过在产品为表面设置一层SiO2膜层以及一层防污膜层，镀膜的方式包括电子束蒸镀方式、溅射镀方式以及热气流蒸镀方式，从而达到了油水物质均不会直接接触到产品表面，从而使得产品表面不会发生腐蚀或者划伤的可能。
在本实施例中，在S4具体为油水清除检测过程，该过程具体为：S3中生产出的成品进入到油水清除检测室中，油水清除检测机器对成品的清除效果进行检测，并得到清除率检测数据。
在本实施例中，该工艺还包括S5摩擦系数检测过程，该过程在S4之后，成品从油水清除检测室中出来后进入到摩擦系数检测室中，摩擦系数检测机器对成品的摩擦强度进行检测，并得到摩擦系数的检测数据。
在本实施例中，该工艺还包括S6抗阻特性检测过程，该过程在S5之后，成品从摩擦系数检测室中出来后进入到抗阻特性检测室中，抗阻特性检测机器对成品的抗阻特性进行检测，并得到抗阻特性的检测数据。
在本实施例中，在S2的SiO2膜层镀膜过程中，SiO2膜层的厚度为20~30μm。
在本实施例中，在S3的防污膜层镀膜过程中，SiO2膜层的厚度为10~20μm。
在本实施例中，在电子束蒸镀的镀膜过程中，第一电子束蒸镀室和第二电子束蒸镀室的温度为23±5℃，室内湿度为50±10%。
在本实施例中，在溅射镀的镀膜过程中，第一溅射镀蒸镀室和第二溅射镀蒸镀室的温度为30±5℃，室内湿度为30±10%。
在本实施例中，在热气流蒸镀的镀膜过程中，第一热气流蒸镀室和第二热气流蒸镀室的温度为95±5℃，室内湿度为60±10%。
在本实施例中，在S5-S7中使用到的防污药品包括防粘连剂10~15%、增硬耐磨剂12~15%、流平剂20~40%以及剩余的其他助剂。
以上公开的仅为本发明的几个具体实施例，但是本发明并非局限于此，任何本领域的技术人员能思之的变化都应落入本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种真空镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1、产品的清洗：辅助清洗结构上的清洗机械手抓取待清洗产品，并按照输送带路线将带清洗产品传送到清洗室中进行产品的表层清洗；
S2、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在清洗后的产品表面形成SiO2膜层；
S3、采用电子束蒸镀、溅射镀或热气流蒸镀的方式在镀有SiO2膜层的产品表面形成防污膜层；
S4、成品的包装：判断S3中生产出的成品是否为合格产品，合格产品进行包装，不合格产品进入回收站；
其中步骤S2中，
电子束蒸镀SiO2膜层的具体步骤为：将S1中清洗后的产品传送到第一电子束蒸镀室中，从电子枪中喷射出的SiO2喷涂物料以蒸发气体的形式粘合在产品表面；
溅射镀SiO2膜层的具体步骤为：将S1中清洗后的产品传送到第一溅射镀室中，SiO2喷涂物料以液体形态喷射在产品表面，以产生膜层；
热气流蒸镀SiO2膜层的具体步骤为：将S1中清洗后的产品传送到第一热气流蒸镀室中，蒸发源腔将SiO2喷涂物料蒸发成气体扩散到第一热气流蒸镀室内，气体自然吸附在产品表面形成膜层；
其中步骤S3中，
电子束蒸镀防污膜层：将S2中镀膜后的产品传送到第二电子束蒸镀室中，从电子枪中喷射出的防污药品以蒸发气体的形式粘合在产品表面；
溅射镀防污膜层：将S2中镀膜后的产品传送到第二溅射镀室中，防污药品以液体形态喷射在产品表面，以产生膜层；
热气流蒸镀防污膜层：将S2中镀膜后的产品传送到第二热气流蒸镀室中，蒸发源腔将防污药品蒸发成气体扩散到第二热气流蒸镀室内，气体自然吸附在产品表面形成膜层。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜工艺，其特征在于，S4具体为油水清除检测过程，该过程具体为：S3中生产出的成品进入到油水清除检测室中，油水清除检测机器对成品的清除效果进行检测，并得到清除率检测数据。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜工艺，其特征在于，该工艺还包括S5摩擦系数检测过程，该过程在S4的步骤之后，成品从油水清除检测室中出来后进入到摩擦系数检测室中，摩擦系数检测机器对成品的摩擦强度进行检测，并得到摩擦系数的检测数据。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜工艺，其特征在于，该工艺还包括S6抗阻特性检测过程，该过程在S5之后，成品从摩擦系数检测室中出来后进入到抗阻特性检测室中，抗阻特性检测机器对成品的抗阻特性进行检测，并得到抗阻特性的检测数据。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜工艺，其特征在于，在S2的SiO2膜层镀膜过程中，SiO2膜层的厚度为20~30μm。
6.根据权利要求1所述的真空镀膜工艺，其特征在于，在S3的防污膜层镀膜过程中，SiO2膜层的厚度为10~20μm。
7.根据权利要求1所述的真空镀膜工艺，其特征在于，在电子束蒸镀镀膜过程中，第一电子束蒸镀室和第二电子束蒸镀室的温度为23±5℃，室内湿度为50±10%。
8.根据权利要求1所述的真空镀膜工艺，其特征在于，在溅射镀镀膜过程中，第一溅射镀蒸镀室和第二溅射镀蒸镀室的温度为30±5℃，室内湿度为30±10%。
9.根据权利要求1所述的真空镀膜工艺，其特征在于，在热气流蒸镀的镀膜过程中，第一热气流蒸镀室和第二热气流蒸镀室的温度为95±5℃，室内湿度为60±10%。
10.根据权利要求1所述的真空镀膜工艺，其特征在于，在S5-S7中使用到的防污药品包括防粘连剂10~15%、增硬耐磨剂12~15%、流平剂20~40%以及剩余的其他助剂。
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