CN105427983A - 一种温度调阻75千欧电阻片及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

一种温度调阻75千欧电阻片,包括焊接层、绝缘层、电阻层和釉层,所述绝缘层上部依次为焊接层、电阻层和釉层,所述焊接层的反面为银层,正面为银极,所述绝缘层为陶瓷基片,所述电阻层采用温度调阻制备工艺制成,印完电阻层与焊接层的正面银极,均采取低于电阻层850度烧结,控制电阻片电阻低于公差上限,再利用釉层中温烧结时,部份玻璃釉渗透到电阻层结构内,会增大电阻之特性,针对不同电阻范围的产品按不同温度返炉烧结,以达到增加电阻,从面保证良品率在98%以上。

Description

一种温度调阻75千欧电阻片及其制备方法
技术领域
本发明属于电阻片,具体为一种温度调阻75千欧电阻片及其制备方法。
背景技术
现在电阻片调阻工艺主要依靠激光切割机或喷沙,对电阻层进分割,从面达到精密调阻目的,此工艺直接破坏了电阻层及玻璃釉层,影响了电阻片的电性能。
现有的电阻片主要依靠激光切割机对电阻层进行分割,从而加大电阻,得到所要的电阻,温度调阻电阻片,电阻层采取低800度烧结,控制电阻片电阻低于公差上限,再利用釉层中温烧结时,部份玻璃釉渗透到电阻层结构内,会增大电阻之特性,针对不同电阻范围的产品按不同温度返炉烧结,以达到增加电阻,从而保证良品率在98%以上。
激光或喷沙调阻,对厚膜电阻片带来众多问题:调阻改变了电阻层的结构,造成的电阻膜局部损伤,改变电流密度分布,导致损伤处发热不匀,厚膜电阻的功率承受能力和稳定性大为降低,调阻工艺将会损伤基片,使基片的绝缘性变差,基片功率承受能力下降;调阻工艺所使用的设备成本高;所以,性能优越的大功率电阻片制作的技术关键:制作时电阻一致性好,避免采用损伤的调阻工艺,本温度调阻制备工艺有投入成本低,不损伤电阻层及基片,电阻片的电性能好的优点。
发明内容
本发明的目的在于提供一种温度调阻75千欧电阻片及其制备方法,解决背景技术中的问题。
本发明采用以下技术方案实现:
一种温度调阻75千欧电阻片,包括焊接层、绝缘层、电阻层和釉层,所述绝缘层上部依次为焊接层、电阻层和釉层,所述焊接层的反面为银层,正面为银极,所述绝缘层为陶瓷基片。
一种温度调阻75千欧电阻片的制备方法,包括以下步骤:
第一步:选择96氧化铝陶瓷基片,尺寸为17*19*0.635㎜;选择850度,银含量为80%的银浆;
第二步:在陶瓷基片反面,采用150目丝网印刷尺寸为15*17㎜的银层,经850度烧结,得到厚度为12UM的反面焊接层;
第二步:选择850度烧结,方阻为100KΩ,温度系数50PPM/℃钌系电阻浆料,在陶瓷正面,利用200目丝网印刷电阻层,尺寸为17*10.2㎜,经800度烧结得到厚底为8UM的电阻层;
第三步:在电阻层两边,采用150目丝网印刷宽度为2.5㎜,长为15㎜的银电极;两银电极尺寸为15*17㎜,中间空10*17㎜为电阻层,经800度烧结得到连接引线的银电极;
第四步:在电阻层上面,采用550到580度烧结的玻璃釉,以150目丝网印刷尺寸为10.1*18㎜厚度为15UM的绝缘层,用6温区厚膜烧结炉,设定温度曲线为:350-450-550-550-450-350,转速为200㎜/M;
第五步:采用数字电桥测试电阻,按电阻大小分区放置,按公差5%,A区:71.25KΩ-78.75KΩ;B区:63.75KΩ-71.24KΩ;C区:56.25KΩ-71.25KΩ;
第六步:温度调阻:A区为良品,不需调阻,B区采用厚膜烧结炉,烧结温度调整350-450-570-570-450-350,转速:200㎜/M,C区产品,烧结温度调整为400-500-590-590-500-400转速180㎜/M,再次用数字电桥测试电阻,按同样方式分区,经2到3次调阻,98%均可达到A区范围。
有益效果:本发明投入成本小,生产成本低,合格率高,性能优越,可批量生产。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
参见图1,一种温度调阻75千欧电阻片的结构示意图,一种温度调阻75千欧电阻片,包括焊接层1、绝缘层2、电阻层3和釉层4,所述绝缘层2上部依次为焊接层1、电阻层3和釉层4,所述焊接层1的反面为银层,正面为银极,所述绝缘层2为陶瓷基片,所述电阻层3采用温度调阻制备工艺制成,印完电阻层3与焊接层1的正面银极,均采取低于电阻层850度烧结,控制电阻片电阻低于公差上限,再利用釉层4中温烧结时,部份玻璃釉渗透到电阻层3结构内,会增大电阻之特性,针对不同电阻范围的产品按不同温度返炉烧结,以达到增加电阻,从面保证良品率在98%以上。
实施例1
选择96氧化铝陶瓷基片,尺寸为17*19*0.635㎜;选择850度,银含量为80%的银浆;在陶瓷基片反面,采用150目丝网印刷尺寸为15*17㎜的银层,经850度烧结,得到厚度为12UM的反面焊接层;选择850度烧结,方阻为100KΩ,温度系数50PPM/℃钌系电阻浆料,在陶瓷正面,利用200目丝网印刷电阻层,尺寸为17*10.2㎜,经800度烧结得到厚底为8UM的电阻层;在电阻层两边,采用150目丝网印刷宽度为2.5㎜,长为15㎜的银电极;两银电极尺寸为15*17㎜,中间空10*17㎜为电阻层.经800度烧结得到连接引线的银电极;在电阻层上面,采用550到580度烧结的玻璃釉,以150目丝网印刷尺寸为10.1*18㎜厚度为15UM的绝缘层,用6温区厚膜烧结炉,设定温度曲线为:350-450-550-550-450-350,转速为200㎜/M;采用数字电桥测试电阻,按电阻大小分区放置,按公差5%,A区:71.25KΩ-78.75KΩ;B区:63.80KΩ-71.20KΩ;C区:56.25KΩ-71.25KΩ;温度调阻:A区为良品,不需调阻,B区采用厚膜烧结炉,烧结温度调整350-450-570-570-450-350,转速:200㎜/M,C区产品,烧结温度调整为400-500-590-590-500-400转速180㎜/M,再次用数字电桥测试电阻,按同样方式分区,经3次调阻,98%均可达到A区范围。
实施例2
选择96氧化铝陶瓷基片,尺寸为17*19*0.635㎜;选择850度,银含量为80%的银浆;在陶瓷基片反面,采用150目丝网印刷尺寸为15*17㎜的银层,经850度烧结,得到厚度为12UM的反面焊接层;选择850度烧结,方阻为100KΩ,温度系数50PPM/℃钌系电阻浆料,在陶瓷正面,利用200目丝网印刷电阻层,尺寸为17*10.2㎜,经800度烧结得到厚底为8UM的电阻层;在电阻层两边,采用150目丝网印刷宽度为2.5㎜,长为15㎜的银电极;两银电极尺寸为15*17㎜,中间空10*17㎜为电阻层.经800度烧结得到连接引线的银电极;在电阻层上面,采用550到580度烧结的玻璃釉,以150目丝网印刷尺寸为10.1*18㎜厚度为15UM的绝缘层,用6温区厚膜烧结炉,设定温度曲线为:350-450-550-550-450-350,转速为200㎜/M;采用数字电桥测试电阻,按电阻大小分区放置,按公差5%,A区:71.25KΩ-78.75KΩ;B区:63.75KΩ-71.24KΩ;C区:56.25KΩ-71.25KΩ;温度调阻:A区为良品,不需调阻,B区采用厚膜烧结炉,烧结温度调整350-450-570-570-450-350,转速:200㎜/M,C区产品,烧结温度调整为400-500-590-590-500-400转速180㎜/M,再次用数字电桥测试电阻,按同样方式分区,经2次调阻,98%均可达到A区范围。
实施例3
选择96氧化铝陶瓷基片,尺寸为17*19*0.635㎜;选择850度,银含量为80%的银浆;在陶瓷基片反面,采用150目丝网印刷尺寸为15*17㎜的银层,经850度烧结,得到厚度为12UM的反面焊接层;选择850度烧结,方阻为100KΩ,温度系数50PPM/℃钌系电阻浆料,在陶瓷正面,利用200目丝网印刷电阻层,尺寸为17*10.2㎜,经800度烧结得到厚底为8UM的电阻层;在电阻层两边,采用150目丝网印刷宽度为2.5㎜,长为15㎜的银电极;两银电极尺寸为15*17㎜,中间空10*17㎜为电阻层.经800度烧结得到连接引线的银电极;在电阻层上面,采用550到580度烧结的玻璃釉,以150目丝网印刷尺寸为10.1*18㎜厚度为15UM的绝缘层,用6温区厚膜烧结炉,设定温度曲线为:350-450-550-550-450-350,转速为200㎜/M;采用数字电桥测试电阻,按电阻大小分区放置,按公差5%,A区:71.25KΩ-78.75KΩ;B区:63.75KΩ-71.24KΩ;C区:56.30KΩ-71.20KΩ;温度调阻:A区为良品,不需调阻,B区采用厚膜烧结炉,烧结温度调整350-450-570-570-450-350,转速:200㎜/M,C区产品,烧结温度调整为400-500-590-590-500-400转速180㎜/M,再次用数字电桥测试电阻,按同样方式分区,经3次调阻,98%均可达到A区范围。
本发明的一种75KΩ陶瓷电阻片温度调阻制备工艺:投入成本小,生产成本低,合格率高,性能优越,可批量生产。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征及本发明的优点,本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内,本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (2)

1.一种温度调阻75千欧电阻片,包括焊接层、绝缘层、电阻层和釉层,其特征在于,所述绝缘层上部依次为焊接层、电阻层和釉层,所述焊接层的反面为银层,正面为银极,所述绝缘层为陶瓷基片。
2.一种温度调阻75千欧电阻片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
第一步:选择96氧化铝陶瓷基片,尺寸为17*19*0.635㎜;选择850度,银含量为80%的银浆;
第二步:在陶瓷基片反面,采用150目丝网印刷尺寸为15*17㎜的银层,经850度烧结,得到厚度为12UM的反面焊接层;
第二步:选择850度烧结,方阻为100KΩ,温度系数50PPM/℃钌系电阻浆料,在陶瓷正面,利用200目丝网印刷电阻层,尺寸为17*10.2㎜,经800度烧结得到厚底为8UM的电阻层;
第三步:在电阻层两边,采用150目丝网印刷宽度为2.5㎜,长为15㎜的银电极;两银电极尺寸为15*17㎜,中间空10*17㎜为电阻层,经800度烧结得到连接引线的银电极;
第四步:在电阻层上面,采用550到580度烧结的玻璃釉,以150目丝网印刷尺寸为10.1*18㎜厚度为15UM的绝缘层,用6温区厚膜烧结炉,设定温度曲线为:350-450-550-550-450-350,转速为200㎜/M;
第五步:采用数字电桥测试电阻,按电阻大小分区放置,按公差5%,A区:71.25KΩ-78.75KΩ;B区:63.75KΩ-71.24KΩ;C区:56.25KΩ-71.25KΩ;
第六步:温度调阻:A区为良品,不需调阻,B区采用厚膜烧结炉,烧结温度调整350-450-570-570-450-350,转速:200㎜/M,C区产品,烧结温度调整为400-500-590-590-500-400转速180㎜/M,再次用数字电桥测试电阻,按同样方式分区,经2到3次调阻,98%均可达到A区范围。
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