CN105334636A - 一种长焦距红外目标模拟器 - Google Patents
一种长焦距红外目标模拟器 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105334636A CN105334636A CN201510929983.1A CN201510929983A CN105334636A CN 105334636 A CN105334636 A CN 105334636A CN 201510929983 A CN201510929983 A CN 201510929983A CN 105334636 A CN105334636 A CN 105334636A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- target
- long
- infrared
- focus
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 40
- 230000005457 Black-body radiation Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007514 turning Methods 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims description 2
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000003331 infrared imaging Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 238000001931 thermography Methods 0.000 description 1
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/30—Collimators
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
一种长焦距红外目标模拟器，所述模拟器包括黑体辐射源，靶标系统，和准直光学系统；所述靶标系统用于将所述黑体辐射源发射的光线投射入所述准直光学系统；所述准直光学系统包括多个长焦距反射镜，用于形成多次折返光路使得进入所述准直光学系统的光线经过多次折返后全部集中在直径小于等于300mm，厚度小于等于100mm的盘型结构中。本发明的长焦距红外目标模拟器可实现红外目标模拟器的长焦距光路折叠等较优的性能。
Description
技术领域
本发明涉及光学测试技术领域，尤其涉及一种红外光学探测领域。
背景技术
红外线是电磁频谱的一部分，其波段在可见光和毫米波之间，即0.76μm～1000μm。自从1800年英国天文学家赫谢耳(W.Herchel)发现红外线，至今已有200多年的历史。20世纪60年代后期，由于碲镉汞红外探测器的研制成功和多元焦平面技术的发展，使红外热像仪等设备相继投入使用。本文针对的红外系统，即快速实时红外热像仪等，是红外技术最新水平的集中体现，各种不同型号的红外热像仪，在红外成像搜索、跟踪、制导和多目标识别跟踪等方面有广泛的应用。
红外线不同于可见光，它在探测领域具有不可替代的优势。红外目标模拟器是光学测试类仪器中重要的测试仪器，但现有技术中红外目标模拟器多为红外平行光管，但红外平行光管由于体积和重量较大，便携性极差，在实际使用中很不方便。
长焦距小型化红外目标模拟器解决了红外目标模拟器的光路折叠、消色差、靶标光刻及镀膜等问题，实现了长焦距红外目标模拟器的小型化。
发明内容
鉴于上述的分析，本发明旨在提供一种长焦距小型化红外目标模拟器，用以解决现有现有红外目标模拟器成像质量差、外形尺寸大的问题。该长焦距小型化红外目标模拟器不仅能够折叠光路、避免产生很大色差，而且能够实现红外目标模拟器的小型化和便携性。同时也提升了红外目标模拟器的成像质量。
本发明的目的主要是通过以下技术方案实现的：
一种长焦距红外目标模拟器，其特征在于，所述模拟器包括黑体辐射源，靶标系统，和准直光学系统；所述黑体辐射源包括面源黑体辐射面，电阻薄膜加热器，温度传感器，温度控制器，和加热控制系统，所述面源黑体辐射面与电阻薄膜加热器相连，所述温度传感器检测所述面源黑体辐射面的温度并驱动所述温度控制器，当需要加热时，所述温度控制器控制加热控制系统控制所述电阻薄膜加热器对所述面源黑体辐射面进行加热；所述靶标系统用于将所述黑体辐射源发射的光线投射入所述准直光学系统；所述准直光学系统包括多个长焦距反射镜，用于形成多次折返光路使得进入所述准直光学系统的光线经过多次折返后全部集中在直径小于等于300mm，厚度小于等于100mm的盘型结构中。
可选的，所述准直光系统包括四个长焦距反射镜，每一个所述长焦距反射镜镀高反膜，工作波段覆盖中波红外3μm～5μm。
可选的，所述模拟器还包括镜头，所述镜头由锗晶体和硅晶体组合的红外镜头，用于将所述准直光系统出射的光线准直并校正相差后输出。
可选的，所述靶标系统包括光刻靶标，采用激光微加工和表面镀膜工艺。
可选的，所述温度控制器以靶标温度作为基准温度点，当温度偏离靶标温度时，进行温度控制。
可选的，所述温度控制器和所述面源黑体辐射面集成在模拟器内部。
本发明有益效果如下：
(1)本发明可实现红外目标模拟器的长焦距光路折叠。
(2)本发明可实现光学系统消色差。提高红外目标模拟器的成像质量。
(3)本发明可实现红外目标模拟器的小型化和便携性。
本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分的从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在所写的说明书、权利要求书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图仅用于示出具体实施例的目的，而并不认为是对本发明的限制，在整个附图中，相同的参考符号表示相同的部件。
图1为本发明实施例提供的长焦距小型化红外目标模拟器结构示意图；
图2为本发明实施例提供的红外目标模拟器折射光学系统原理示意图；
图3为本发明实施例提供的红外目标模拟器折射光学系统光路图；
图4为本发明实施例提供的红外目标模拟器红外镜头组结构示意图；
图5为本发明实施例提供的光刻靶标加工流程图；
图6为本发明具体实施方式提供的红外目标模拟器光学系统原理示意图；
图7为本发明具体实施方式提供的红外目标模拟器光学系统光路示意图；
图8为为本发明具体实施方式提供的红外目标模拟器红外光学系统镜头结构示意图；
图9为本发明具体实施方式提供的光学系统0.7倍线的调制传递函数MTF值；
图10为本发明具体实施方式提供的光学系统弥散斑
图11为本发明具体实施方式提供的红外目标模拟器光刻靶标流程图。
具体实施方式
下面结合附图来具体描述本发明的优选实施例，其中，附图构成本申请一部分，并与本发明的实施例一起用于阐释本发明的原理。
本发明的技术解决方案：
如图1所示，为本发明实施例提供的一种长焦距小型化红外目标模拟器，所述红外目标模拟器为长焦距小型化红外目标模拟器。长焦距小型化红外目标模拟器包括准直光学系统、靶标系统、红外辐射源等部件。
其中,面源黑体辐射源采用电阻性加热片加热，高精度PID闭环控制的总体技术方案。工作原理如图2所示，通过温度传感器实时采集辐射面温度传送给温度控制系统，与设定温度进行比较，采用PID控制，通过输出控制加热功率，实现系统的精确闭环控制。
面源黑体辐射源总体结构如图3所示。主要包括辐射板、加热器件、测温传感器、热平衡板、保温结构等部件组成。为了减少空间和重量，本发明将温度控制系统和辐射源集成在模拟器内部。去除辐射源底板、外罩等辅助结构，直接将辐射板和散热器安装在模拟器后支板上，降低了系统重量。本系统辐射源温度控制采用温差控制，以靶标温度温差基准温度点，通过改变和稳定控制辐射源温度，实现系统的不同温差稳定控制。靶标温度即为环境温度。模拟器使用环境温度范围：10℃～30℃，辐射源温差控制范围为：0℃～50℃。因此黑体温度控制范围在室温～80℃可以满足模拟器要求。
靶标系统包括：靶标板、靶标安装座和靶标支架。靶标系统结构示意如图4所示。模拟器光学系统焦距f′＝800mm，全视场角为2°，根据公式1可以计算出靶标尺寸为Ф28.0mm。考虑到结构安装的因素，设计靶标直径为：Ф35mm。
a＝f′×tanα＝28.0mm(公式1)
准直光学系统的焦距为800mm，要覆盖4×20像素范围，经过计算矩形靶标的尺寸应为0.086mm×0.430mm。靶标基体材料采用石英晶体材料，通过光刻工艺加工成型。加工误差能达到5um以内，因此该矩形靶标的加工能够满足技术指标要求。靶标示意图如图5所示。
面源黑体辐射源总体结构图本红外目标模拟器的焦距为800mm，为长焦距红外光学系统。为了减小红外目标模拟器的体积和重量，准直光学系统采用折反射式光学设计方案，采用一组折射镜组配合采用4次反射实现光路压缩。光学系统反射面镀高反膜，有效提高镜面反射率，工作波段覆盖中波红外3μm～5μm。
通过光路的折反能够将全部结构集中在直径Φ300mm、厚度为100mm的盘型结构内。如图所示，红外辐射源通过光刻靶标、光路折反光学系统、红外镜头，把红外目标图像投射出去，行成无穷远目标。
如图6所示，为红外目标模拟器光学系统原理示意图。
透射球面光学镜头为单晶锗，透射中波红外光线，由于不同曲率的配合，实现对光线的聚焦，并完好的消除像差，使得光学系统能够将靶标图案透射至被测目标，实现无穷远目标的模拟。其中平面反射镜通过镀膜，能偶透射中波红外光线，平面反射镜和45度平面反射镜主要起光路转折的作用，使得光线能够在较小的尺寸工装内实现较长的后工作距离光路的布局。
如图7所示，为红外目标模拟器光学系统光路示意图。
如图8所示，为红外目标模拟器红外光学系统镜头结构示意图。光学镜头为锗晶体和硅晶体组合的红外镜头，通过光学设计软件的仿真分析，确定出最佳的设计参数，光学系统0.7倍线的调制传递函数MTF值及光学系统弥散斑如下图9、图10所示，消除了光学系统色差，同时保证光学系统的成像质量达到衍射极限。
如图11所示，为红外目标模拟器光刻靶标流程图。与传统的机械线切割金属薄片的靶标加工方式不同，微加工MEMS工艺主要包括：清洗工艺、氧化工艺、化学气相沉积、光刻工艺、刻蚀工艺等。低压化学气相沉积(LVCVD)的生长机理是利用硅的气态化合物，硅原子按照衬底晶向成核，沉积在硅衬底表面的过程，LPCVD的特点是沉积在低气压条件下进行，厚度均与，优良的台阶覆盖能力。光刻工艺是利用光通过掩膜板上的图形窗口，照射涂有光刻胶的待刻蚀衬底，在衬底表面形成图案的方法。光刻是MEMS器件图形结构的关键工艺技术，对各层薄膜的图形以及掺杂区域的确定有着决定性的作用，光刻胶是实现光刻图像转移的材料，分为正胶和负胶两类。正胶和负胶的搭配使用能够实现不同图案靶标的制备。蒸渡是将金属材料附着在已经通过曝光后的光刻胶间隙位置处，进而形成所需要的靶标图形。
通过光刻工艺及镀膜技术，提高了红外靶标加工精度。同时也实现了红外靶标微型目标的实现。
综上所述，本发明实施例提供了一种长焦距小型化红外目标模拟器，该长焦距小型化红外目标模拟器不仅能够折叠光路、避免产生很大色差，而且能够实现红外目标模拟器的小型化和便携性。同时也提升了红外目标模拟器的成像质量。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种长焦距红外目标模拟器，其特征在于，所述模拟器包括黑体辐射源，靶标系统，和准直光学系统；所述黑体辐射源包括面源黑体辐射面，电阻薄膜加热器，温度传感器，温度控制器，和加热控制系统，所述面源黑体辐射面与电阻薄膜加热器相连，所述温度传感器检测所述面源黑体辐射面的温度并驱动所述温度控制器，当需要加热时，所述温度控制器控制加热控制系统控制所述电阻薄膜加热器对所述面源黑体辐射面进行加热；所述靶标系统用于将所述黑体辐射源发射的光线投射入所述准直光学系统；所述准直光学系统包括多个长焦距反射镜，用于形成多次折返光路使得进入所述准直光学系统的光线经过多次折返后全部集中在直径小于等于300mm，厚度小于等于100mm的盘型结构中。
2.根据权利要求1所述的长焦距红外目标模拟器，其特征在于，所述准直光系统包括四个长焦距反射镜，每一个所述长焦距反射镜镀高反膜，工作波段覆盖中波红外3μm～5μm。
3.根据权利要求1或2所述的长焦距红外目标模拟器，其特征在于，所述模拟器还包括镜头，所述镜头由锗晶体和硅晶体组合的红外镜头，用于将所述准直光系统出射的光线准直并校正相差后输出。
4.根据权利要求1或2所述的长焦距红外目标模拟器，其特征在于，所述靶标系统包括光刻靶标，采用激光微加工和表面镀膜工艺。
5.根据权利要求1或2所述的长焦距红外目标模拟器，其特征在于，所述温度控制器以靶标温度作为基准温度点，当温度偏离靶标温度时，进行温度控制。
6.根据权利要求1或2所述的长焦距红外目标模拟器，其特征在于，所述温度控制器和所述面源黑体辐射面集成在模拟器内部。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510929983.1A CN105334636B (zh) | 2015-12-15 | 2015-12-15 | 一种长焦距红外目标模拟器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510929983.1A CN105334636B (zh) | 2015-12-15 | 2015-12-15 | 一种长焦距红外目标模拟器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105334636A true CN105334636A (zh) | 2016-02-17 |
| CN105334636B CN105334636B (zh) | 2017-12-15 |
Family
ID=55285261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201510929983.1A Active CN105334636B (zh) | 2015-12-15 | 2015-12-15 | 一种长焦距红外目标模拟器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN105334636B (zh) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107525437A (zh) * | 2017-09-04 | 2017-12-29 | 中国航发南方工业有限公司 | 红外目标模拟器及导弹跟踪能力的检测方法 |
| CN109029921A (zh) * | 2018-08-03 | 2018-12-18 | 中国电子科技集团公司第十研究所 | 用于多传感器光电设备调焦调轴的目标模拟器 |
| CN109917617A (zh) * | 2017-12-12 | 2019-06-21 | 北京振兴计量测试研究所 | 抗冷反射红外靶标制备方法及抗冷反射红外靶标 |
| RU194396U1 (ru) * | 2019-07-02 | 2019-12-09 | Закрытое акционерное общество "МНИТИ" (ЗАО "МНИТИ") | Инфракрасное коллиматорное устройство |
| CN110926620A (zh) * | 2018-09-19 | 2020-03-27 | 北京振兴计量测试研究所 | 一种基于单晶硅基底的红外靶标及其制作方法、保护结构 |
| CN111521068A (zh) * | 2020-03-18 | 2020-08-11 | 哈尔滨新光光电科技股份有限公司 | 一种红外点源引偏装置及控制方法 |
| RU208601U1 (ru) * | 2021-08-16 | 2021-12-27 | Акционерное общество "Научно-производственное объединение "Государственный институт прикладной оптики" (АО "НПО ГИПО") | Инфракрасный коллиматор |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004317424A (ja) * | 2003-04-18 | 2004-11-11 | Pioneer Electronic Corp | オートコリメータ |
| CN101886926A (zh) * | 2010-01-18 | 2010-11-17 | 长春理工大学 | 月球模拟装置 |
| CN102168988A (zh) * | 2010-12-28 | 2011-08-31 | 哈尔滨工业大学 | 双波段平行光管目标模拟器 |
| CN103308284A (zh) * | 2013-06-24 | 2013-09-18 | 哈尔滨工业大学 | 基于双色滤波片的双波段红外目标模拟器及该模拟器的双波段红外图像的生成方法 |
| CN103424189A (zh) * | 2013-08-24 | 2013-12-04 | 西安电子科技大学 | 红外多光谱成像系统性能测试装置及方法 |
| CN103677011A (zh) * | 2013-11-28 | 2014-03-26 | 北京振兴计量测试研究所 | 一种适用于真空条件下面源黑体宽温度范围控制系统 |
| CN204202752U (zh) * | 2014-12-05 | 2015-03-11 | 昆明北方红外技术股份有限公司 | 红外目标模拟器靶标装置 |
| EP2899517A1 (en) * | 2014-01-27 | 2015-07-29 | Kidde Technologies, Inc. | Apparatuses, systems and methods for self-testing optical fire detectors |
-
2015
- 2015-12-15 CN CN201510929983.1A patent/CN105334636B/zh active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004317424A (ja) * | 2003-04-18 | 2004-11-11 | Pioneer Electronic Corp | オートコリメータ |
| CN101886926A (zh) * | 2010-01-18 | 2010-11-17 | 长春理工大学 | 月球模拟装置 |
| CN102168988A (zh) * | 2010-12-28 | 2011-08-31 | 哈尔滨工业大学 | 双波段平行光管目标模拟器 |
| CN103308284A (zh) * | 2013-06-24 | 2013-09-18 | 哈尔滨工业大学 | 基于双色滤波片的双波段红外目标模拟器及该模拟器的双波段红外图像的生成方法 |
| CN103424189A (zh) * | 2013-08-24 | 2013-12-04 | 西安电子科技大学 | 红外多光谱成像系统性能测试装置及方法 |
| CN103677011A (zh) * | 2013-11-28 | 2014-03-26 | 北京振兴计量测试研究所 | 一种适用于真空条件下面源黑体宽温度范围控制系统 |
| EP2899517A1 (en) * | 2014-01-27 | 2015-07-29 | Kidde Technologies, Inc. | Apparatuses, systems and methods for self-testing optical fire detectors |
| CN204202752U (zh) * | 2014-12-05 | 2015-03-11 | 昆明北方红外技术股份有限公司 | 红外目标模拟器靶标装置 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 张凯等: "红外动态场景目标模拟器系统设计", 《红外与激光工程》 * |
| 邹营营: "基于卡塞格林光学系统的红外目标模拟器技术研究", 《中国优秀硕士学位论文全文数据库信息科技辑》 * |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107525437A (zh) * | 2017-09-04 | 2017-12-29 | 中国航发南方工业有限公司 | 红外目标模拟器及导弹跟踪能力的检测方法 |
| CN109917617A (zh) * | 2017-12-12 | 2019-06-21 | 北京振兴计量测试研究所 | 抗冷反射红外靶标制备方法及抗冷反射红外靶标 |
| CN109917617B (zh) * | 2017-12-12 | 2022-06-14 | 北京振兴计量测试研究所 | 抗冷反射红外靶标制备方法及抗冷反射红外靶标 |
| CN109029921A (zh) * | 2018-08-03 | 2018-12-18 | 中国电子科技集团公司第十研究所 | 用于多传感器光电设备调焦调轴的目标模拟器 |
| CN109029921B (zh) * | 2018-08-03 | 2024-04-26 | 中国电子科技集团公司第十一研究所 | 用于多传感器光电设备调焦调轴的目标模拟器 |
| CN110926620A (zh) * | 2018-09-19 | 2020-03-27 | 北京振兴计量测试研究所 | 一种基于单晶硅基底的红外靶标及其制作方法、保护结构 |
| CN110926620B (zh) * | 2018-09-19 | 2021-02-26 | 北京振兴计量测试研究所 | 一种基于单晶硅基底的红外靶标及其制作方法、保护结构 |
| RU194396U1 (ru) * | 2019-07-02 | 2019-12-09 | Закрытое акционерное общество "МНИТИ" (ЗАО "МНИТИ") | Инфракрасное коллиматорное устройство |
| CN111521068A (zh) * | 2020-03-18 | 2020-08-11 | 哈尔滨新光光电科技股份有限公司 | 一种红外点源引偏装置及控制方法 |
| CN111521068B (zh) * | 2020-03-18 | 2022-04-12 | 哈尔滨新光光电科技股份有限公司 | 一种红外点源引偏装置及控制方法 |
| RU208601U1 (ru) * | 2021-08-16 | 2021-12-27 | Акционерное общество "Научно-производственное объединение "Государственный институт прикладной оптики" (АО "НПО ГИПО") | Инфракрасный коллиматор |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN105334636B (zh) | 2017-12-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105334636A (zh) | 一种长焦距红外目标模拟器 | |
| Cui et al. | The large sky area multi-object fiber spectroscopic telescope (LAMOST) | |
| Su et al. | Active optics in LAMOST | |
| Hyde et al. | Eyeglass: a very large aperture diffractive space telescope | |
| TWI464542B (zh) | 微影投射曝光裝置的照射系統 | |
| TW201908871A (zh) | 具有光瞳鏡（pupil mirror）之反射折射投影物鏡、投影曝光裝置、及投影曝光方法 | |
| TW201104366A (en) | Optical apparatus, exposure apparatus, exposure method, and method for producing device | |
| Rao et al. | 1.8-m solar telescope in China: Chinese large solar telescope | |
| JP2002118058A (ja) | 投影露光装置及び方法 | |
| CN109581827B (zh) | 光刻投影物镜最佳焦面检测装置及方法 | |
| JP6048867B2 (ja) | Ｘ線光学システム | |
| WO2004012207A2 (en) | Optical device for high energy radiation | |
| CN103814331A (zh) | 在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置 | |
| CN102365565A (zh) | 光学组件 | |
| US10261425B2 (en) | Projection exposure apparatus with a highly flexible manipulator | |
| Chan et al. | Alignment and bonding of silicon mirrors for high-resolution astronomical x-ray optics | |
| Pan et al. | FEA based opto-mechanisms design and thermal analysis of a dynamic SFS with an ultra-long exit pupil distance | |
| TWI730666B (zh) | 具有次鏡調焦機構之光學系統 | |
| CN102495468A (zh) | 减小极紫外光刻投影系统变形的投影物镜结构优化方法 | |
| West et al. | Progress at the Vatican advanced technology telescope | |
| Wang et al. | Metrology camera system of prime focus spectrograph for Suburu telescope | |
| CN105474100A (zh) | 光学部件 | |
| Wang et al. | Thermo-optical Analysis and Correction Method for an Optical Window in Low Temperature and Vacuum | |
| CN117369222B (zh) | 一种极紫外物镜装调全息图的制备系统和制备方法 | |
| CN111781797B (zh) | 一种多通道弯晶成像系统及其装调方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |