CN105141813B - 蓝宝石摄像头窗口片的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，具体步骤包括晶体生长、晶体掏棒、晶体切割、研磨、倒角、退火、双面抛光、激光取片、镀膜、涂油墨热烘等工序；本发明制成的摄像头窗口片成片质量高，废品率低，生产效率高。
Description
技术领域
本发明涉及一种蓝宝石片的制备方法，尤其涉及一种蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，属于蓝宝石加工技术领域。
背景技术
现代生活中，手机已经成为人们必不可少的电子产品，而绝大部分手机都具有拍照的功能。传统手机覆盖在摄像头上用以保护摄像头的窗口片由玻璃制成，玻璃的莫氏硬度只有7，耐磨性较差。
随着科技的进步，玻璃材质的手机摄像头窗口片正逐渐被蓝宝石材料取代。蓝宝石具有很好的热特性，极好的电气特性和介电特性，可以在高温下保持高强度、优良的热属性和透过率，并且防化学腐蚀。用蓝宝石为原料制成的手机摄像头窗口片，清晰度高、立体感好、表面耐划伤，消费者满意度高。
中国专利文献ZL201410294312.8公开了一种蓝宝石材料手机窗口加工方法，其具体实施方法为：取蓝宝石材料，用激光进行预抛光；把抛光后的晶块状蓝宝石进行激光切割，切割成片料后，裁剪成已设计好尺寸的方形块，供塑型工序用；将激光切割后的晶片边缘修整成圆弧状，以此改善薄片边缘的机械强度；将倒角后的晶片粗磨，去除切片时造成的晶片切割损伤层及改善晶片的平坦度；把粗磨后的晶片，用激光进行塑形；把塑型好的晶片的废料激光切割掉，裁剪成既定的形状。该方法工序设计不够合理，会直接影响窗口片的质量和成品率。
发明内容
本发明解决的技术问题是：提出一种成片质量高，废品率低，生产效率高的蓝宝石摄像头窗口片的制备方法。
为了解决上述技术问题，本发明提出的技术方案是：一种蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，包括以下具体步骤：
步骤一、晶体生长；在晶体生长炉的坩埚内装入纯净的Al2O3原料，所述坩埚上方设有可旋转和升降的提拉杆，提拉杆的下端夹设有A晶向、M晶向或C晶向的籽晶；将晶体生长炉内抽真空并通入保护气体，升温至2100～2200℃，使得Al2O3熔融，控制熔体的液面温度为2055℃，将籽晶置于Al2O3熔体的上表面使其与熔体接触，持续0.5～1h；待籽晶与熔体充分沾润后，提拉并转动籽晶，从而实现缩颈—扩肩—等径生长；缩颈阶段，控制熔体的液面温度为2050℃，以3～5mm/h的速度向上提拉籽晶，以45～48r/min的速度转动籽晶；扩肩阶段，控制熔体的液面温度为2048℃，以8～10mm/h的速度向上提拉籽晶，以50～55r/min的速度转动籽晶；等径阶段，控制熔体的液面温度为2052℃，以5～8mm/h的速度向上提拉籽晶，以48～50r/min的速度转动籽晶；待晶体生长结束后，将晶体生长炉内的温度降至1580～1680℃，再对晶体进行退火处理，控制温度以80～100℃/h的速度缓慢降温并持续18～22h，从而得到晶体；
步骤二、晶体掏棒；对晶体进行定向，然后使用掏棒机进行掏棒，从而得到晶棒；
步骤三、晶体切割；采用金刚砂线切割设备对晶棒进行切割，从而得到晶片；
步骤四、研磨；采用研磨机对晶片进行研磨；研磨时，加入研磨液，研磨盘对晶片加压至0.02～0.022Mpa，研磨盘的转速为1000～1200r/min；研磨完成后用无水乙醇清洗；所述研磨液组分包括：0.5～2％的颗粒大小为10～20μm的立方氮化硼粉末，14～16％的烷基酚聚氧乙烯醚，4～6％的甘油，9～11％的聚丙二醇400，其余为去离子水；
步骤五、倒角；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行倒角处理；
步骤六、退火；将晶片放入退火炉内，以180～220℃/h的速度进行升温将温度升至1600℃，升温时在300℃、800℃、1600℃分别保温2～6h，然后以200℃/h的速度进行降温，降温时在1000℃、500℃分别保温2～3h冷却至室温取出；
步骤七、双面化学抛光；先用无水乙醇对晶片进行清洗，然后将清洗后的晶片放入双面抛光机中固定；抛光时，加入抛光液，抛光盘对晶片加压至0.12～0.15Mpa，抛光盘的转速为1000～1500r/min、将抛光好的晶片用无水乙醇清洗后，在室温下进行自然冷却；所述抛光液组分包括：0.5～2％的颗粒大小为1～6μm的立方氮化硼粉末，14～16％的烷基酚聚氧乙烯醚，4～6％的甘油，9～11％的聚丙二醇400，0.5～2％的纳米二氧化硅，使得抛光液PH值为11.0～13.0的碱性溶液，其余为去离子水；抛光过程中不断补充碱性溶液以保持抛光液的PH值；
步骤八、激光取片；将抛光后的晶片放入激光切割机中并通入保护气体，将晶片按需求切割成相应大小；
步骤九、镀膜；采用光学真空镀膜机对晶片的正反两面镀抗反射膜，抗反射膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐层镀覆而成且层数为4～8层，最靠近晶片的一层采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或铝的氧化物，所述高折射率氧化物是钛或钽的氧化物；
步骤十、涂油墨；将镀膜后的晶片盖上镂空板，在晶片的边缘处刷涂油墨且重复刷涂三层；
步骤十一、热烘；将涂完油墨的晶片放入热烘机中热烘2～3h后，空冷至室温。
对上述技术方案的改进为：所述步骤一中，将晶体生长炉内的温度降至1600℃，再对晶体进行退火处理，控制温度以100℃/h的速度缓慢降温并持续22h。
对上述技术方案的改进为：所述步骤三中，金刚砂线的直径为0.14～0.16mm，金刚砂线上金刚石的粒径为30～40μm，金刚砂线在切割时以12～15m/s的速度运动，晶体相对于金刚砂线的移动速度为0.2～0.3mm/min，切割时不断向金刚砂线喷洒切割液，所述切割液中含有粒径为20～30μm的金刚石颗粒和粒径为50～60μm的刚玉颗粒。
对上述技术方案的改进为：所述步骤四中，所述研磨液中含有粒径为3～6μm的氧化铝颗粒。
对上述技术方案的改进为：所述步骤六中，升温时，在300℃保温2h，在800℃保温3h，在1600℃保温4h。
对上述技术方案的改进为：所述步骤七中，所述碱性溶液为KOH。
对上述技术方案的改进为：所述步骤七中，所述抛光液PH值为12.0。
对上述技术方案的改进为：所述步骤七中，抛光盘对晶片加压至0.135Mpa。
对上述技术方案的改进为：所述步骤八中，激光束的直径为0.015～0.02mm，切割速度为3～5mm/s。
对上述技术方案的改进为：所述步骤九中，所述光学真空镀膜机，采用离子源产生电子光束，先将低折射率氧化物或高折射率氧化物液化后凝固进行预熔，再将凝固后的低折射率氧化物或高折射率氧化物气化喷射到晶面上形成膜。
本发明具有积极的效果：
(1)本发明的摄像头窗口片制备方法，先研磨、抛光再激光取片，可以提高研磨、抛光的生产效率，由于蓝宝石硬度大，抛光时必须施加较大的压力，在抛光之前退火有利于消除线切割、研磨等机械加工工序所产生的内应力，使得晶片在抛光时不宜碎裂，有效提高成品率。
(2)本发明的摄像头窗口片制备方法，严格控制晶体生长时的界面温度、拉升速度、旋转速度和退火参数，将界面温度控制在2048～2052℃，拉升速度控制在3～10mm/h，旋转速度控制在45～55r/min，退火温度控制在1580～1680℃(优选1600℃)，以80～100℃/h的速度缓慢降温并持续18～22h，从而使得晶体的产能高，缺陷密度低，质量好，成品率高，可以大大地降低生产成本。
(3)本发明的摄像头窗口片制备方法，严格控制研磨和抛光的参数以及研磨液和抛光液的成分，有利于提高研磨和抛光的效率，提高研磨和抛光的成品率，制备出的晶片结构完整，无物理损伤，表面细腻，光滑，形变小。研磨液和抛光液中，适量的立方氮化硼粉末充当磨料，硬度高，耐磨性好；烷基酚聚氧乙烯醚、甘油、聚丙二醇400和去离子水形成的悬浮液黏度和界面膜性质稳定，使得磨料悬浮稳定，均匀度好，不会粘并，有利于提高研磨和抛光的质量和效率。适量的烷基酚聚氧乙烯醚是一种非离子表面活性剂，其性质稳定，具有分散、乳化、润湿等多种性能，是悬浮液获得优异性能最主要的成分；甘油比重合适，与水和有机溶液都有很好的溶解性，作为辅助分散剂非常适合；聚丙二醇400具有乳化、润湿的作用，并且可以有效增稠，有效提升悬浮液的黏度和界面膜性质。另外，抛光液中含有适量的纳米SiO2，粒度均匀、分散性好、平坦化效率高。碱性溶液KOH使得抛光液为碱性，通过化学腐蚀辅助抛光，从而抛光效果更好，抛光效率更好。为了保持抛光液的稳定性，从而保证抛光的效率和质量，必须不断地补充碱性溶液，维持抛光液PH值基本不变。
(4)本发明的摄像头窗口片制备方法，通过镀膜工序，增加透光性，降低反射性，可以使得蓝宝石晶片原来89％的透光率，提升至94％以上。镀膜工序中将低折射率氧化物或高折射率氧化物液化后凝固进行预熔，可以使得氧化物的分布更加均匀，提升镀膜的效果。
(5)本发明的摄像头窗口片制备方法，通过涂刷三层油墨然后烘干，使得晶片的边缘不透光，可以有效地防止光线从晶片的侧面进入，对成像造成影响。
(6)本发明的摄像头窗口片采用蓝宝石为基材制成，由于蓝宝石硬度高，耐磨性好，使得窗口片不易磨损和划伤。通过本发明的摄像头窗口片制备方法制成的窗口片，光洁度高，透光性好，光学性能达标，且成片质量高，废品率低，生产效率高，应用前景广阔。
具体实施方式
本实施例的蓝宝石摄像头窗口片的制备流程包括如下步骤：
步骤一、晶体生长；在晶体生长炉的坩埚内装入纯净的Al2O3原料，所述坩埚上方设有可旋转和升降的提拉杆，提拉杆的下端夹设有A晶向、M晶向或C晶向的籽晶；将晶体生长炉内抽真空并通入保护气体，升温至2200℃，使得Al2O3熔融，控制熔体的液面温度为2055℃，将籽晶置于Al2O3熔体的上表面使其与熔体接触，持续1h；待籽晶与熔体充分沾润后，提拉并转动籽晶，从而实现缩颈—扩肩—等径生长；缩颈阶段，控制熔体的液面温度为2050℃，以5mm/h的速度向上提拉籽晶，以48r/min的速度转动籽晶；扩肩阶段，控制熔体的液面温度为2048℃，以10mm/h的速度向上提拉籽晶，以55r/min的速度转动籽晶；等径阶段，控制熔体的液面温度为2052℃，以8mm/h的速度向上提拉籽晶，以50r/min的速度转动籽晶；待晶体生长结束后，将晶体生长炉内的温度降至1680℃，再对晶体进行退火处理，控制温度以100℃/h的速度缓慢降温并持续22h，从而得到晶体；
步骤二、晶体掏棒；对晶体进行定向，然后使用掏棒机进行掏棒，从而得到晶棒；
步骤三、晶体切割；采用金刚砂线切割设备对晶棒进行切割，从而得到晶片；
步骤四、研磨；采用研磨机对晶片进行研磨；研磨时，加入研磨液，研磨盘对晶片加压至0.022Mpa，研磨盘的转速为1200r/min；研磨完成后用无水乙醇清洗；所述研磨液组分包括：2％的颗粒大小为20μm的立方氮化硼粉末，16％的烷基酚聚氧乙烯醚，6％的甘油，11％的聚丙二醇400，其余为去离子水；
步骤五、倒角；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行倒角处理，；
步骤六、退火；将晶片放入退火炉内，以220℃/h的速度进行升温将温度升至1600℃，升温时在300℃保温2h、在800℃保温3h、在1600℃保温4h，然后以200℃/h的速度进行降温，降温时在1000℃、500℃分别保温3h冷却至室温取出；
步骤七、双面化学抛光；先用无水乙醇对晶片进行清洗，然后将清洗后的晶片放入双面抛光机中固定；抛光时，加入抛光液，抛光盘对晶片加压至0.15Mpa，抛光盘的转速为1500r/min、将抛光好的晶片用无水乙醇清洗后，在室温下进行自然冷却；所述抛光液组分包括：2％的颗粒大小为6μm的立方氮化硼粉末，16％的烷基酚聚氧乙烯醚，6％的甘油，11％的聚丙二醇400，2％的纳米二氧化硅，使得抛光液PH值为13.0的碱性溶液，其余为去离子水；抛光过程中不断补充碱性溶液以保持抛光液的PH值；
步骤八、激光取片；将抛光后的晶片放入激光切割机中并通入保护气体，将晶片按需求切割成相应大小；
步骤九、镀膜；采用光学真空镀膜机对晶片的正反两面镀抗反射膜，抗反射膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐层镀覆而成且层数为8层，最靠近晶片的一层采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或铝的氧化物，所述高折射率氧化物是钛或钽的氧化物；
步骤十、涂油墨；将镀膜后的晶片盖上镂空板，在晶片的边缘处刷涂油墨且重复刷涂三层；
步骤十一、热烘；将涂完油墨的晶片放入热烘机中热烘2～3h后，空冷至室温。
实施例2
本实施例的蓝宝石摄像头窗口片的制备流程包括如下步骤：
步骤一、晶体生长；在晶体生长炉的坩埚内装入纯净的Al2O3原料，所述坩埚上方设有可旋转和升降的提拉杆，提拉杆的下端夹设有A晶向、M晶向或C晶向的籽晶；将晶体生长炉内抽真空并通入保护气体，升温至2100℃，使得Al2O3熔融，控制熔体的液面温度为2055℃，将籽晶置于Al2O3熔体的上表面使其与熔体接触，持续0.5h；待籽晶与熔体充分沾润后，提拉并转动籽晶，从而实现缩颈—扩肩—等径生长；缩颈阶段，控制熔体的液面温度为2050℃，以3mm/h的速度向上提拉籽晶，以45r/min的速度转动籽晶；扩肩阶段，控制熔体的液面温度为2048℃，以8mm/h的速度向上提拉籽晶，以50r/min的速度转动籽晶；等径阶段，控制熔体的液面温度为2052℃，以5mm/h的速度向上提拉籽晶，以48r/min的速度转动籽晶；待晶体生长结束后，将晶体生长炉内的温度降至1580℃，再对晶体进行退火处理，控制温度以80℃/h的速度缓慢降温并持续18h，从而得到晶体；
步骤二、晶体掏棒；对晶体进行定向，然后使用掏棒机进行掏棒，从而得到晶棒；
步骤三、晶体切割；采用金刚砂线切割设备对晶棒进行切割，从而得到晶片；
步骤四、研磨；采用研磨机对晶片进行研磨；研磨时，加入研磨液，研磨盘对晶片加压至0.02Mpa，研磨盘的转速为1000r/min；研磨完成后用无水乙醇清洗；所述研磨液组分包括：0.5％的颗粒大小为10μm的立方氮化硼粉末，14％的烷基酚聚氧乙烯醚，4％的甘油，9％的聚丙二醇400，其余为去离子水；
步骤五、倒角；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行倒角处理，；
步骤六、退火；将晶片放入退火炉内，以180℃/h的速度进行升温将温度升至1600℃，升温时在300℃保温2h、在800℃保温4h、在1600℃保温5h，然后以200℃/h的速度进行降温，降温时在1000℃、500℃分别保温2h冷却至室温取出；
步骤七、双面化学抛光；先用无水乙醇对晶片进行清洗，然后将清洗后的晶片放入双面抛光机中固定；抛光时，加入抛光液，抛光盘对晶片加压至0.12Mpa，抛光盘的转速为1000r/min、将抛光好的晶片用无水乙醇清洗后，在室温下进行自然冷却；所述抛光液组分包括：0.5％的颗粒大小为1μm的立方氮化硼粉末，14％的烷基酚聚氧乙烯醚，4％的甘油，9％的聚丙二醇400，0.5％的纳米二氧化硅，使得抛光液PH值为11.0的碱性溶液，其余为去离子水；抛光过程中不断补充碱性溶液以保持抛光液的PH值；
步骤八、激光取片；将抛光后的晶片放入激光切割机中并通入保护气体，将晶片按需求切割成相应大小；
步骤九、镀膜；采用光学真空镀膜机对晶片的正反两面镀抗反射膜，抗反射膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐层镀覆而成且层数为4层，最靠近晶片的一层采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或铝的氧化物，所述高折射率氧化物是钛或钽的氧化物；
步骤十、涂油墨；将镀膜后的晶片盖上镂空板，在晶片的边缘处刷涂油墨且重复刷涂三层；
步骤十一、热烘；将涂完油墨的晶片放入热烘机中热烘2h后，空冷至室温。
实施例3
本实施例的蓝宝石摄像头窗口片的制备流程包括如下步骤：
步骤一、晶体生长；在晶体生长炉的坩埚内装入纯净的Al2O3原料，所述坩埚上方设有可旋转和升降的提拉杆，提拉杆的下端夹设有A晶向、M晶向或C晶向的籽晶；将晶体生长炉内抽真空并通入保护气体，升温至2150℃，使得Al2O3熔融，控制熔体的液面温度为2055℃，将籽晶置于Al2O3熔体的上表面使其与熔体接触，持续1h；待籽晶与熔体充分沾润后，提拉并转动籽晶，从而实现缩颈—扩肩—等径生长；缩颈阶段，控制熔体的液面温度为2050℃，以4mm/h的速度向上提拉籽晶，以46r/min的速度转动籽晶；扩肩阶段，控制熔体的液面温度为2048℃，以9mm/h的速度向上提拉籽晶，以50r/min的速度转动籽晶；等径阶段，控制熔体的液面温度为2052℃，以5～8mm/h的速度向上提拉籽晶，以48r/min的速度转动籽晶；待晶体生长结束后，将晶体生长炉内的温度降至1600℃，再对晶体进行退火处理，控制温度以90℃/h的速度缓慢降温并持续20h，从而得到晶体；
步骤二、晶体掏棒；对晶体进行定向，然后使用掏棒机进行掏棒，从而得到晶棒；
步骤三、晶体切割；采用金刚砂线切割设备对晶棒进行切割，从而得到晶片；
步骤四、研磨；采用研磨机对晶片进行研磨；研磨时，加入研磨液，研磨盘对晶片加压至0.02Mpa，研磨盘的转速为1100r/min；研磨完成后用无水乙醇清洗；所述研磨液组分包括：1％的颗粒大小为15μm的立方氮化硼粉末，15％的烷基酚聚氧乙烯醚，5％的甘油，10％的聚丙二醇400，其余为去离子水；
步骤五、倒角；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行倒角处理，；
步骤六、退火；将晶片放入退火炉内，以200℃/h的速度进行升温将温度升至1600℃，升温时在300℃保温2h、在800℃保温3h、在1600℃保温5h，然后以200℃/h的速度进行降温，降温时在1000℃、500℃分别保温2h冷却至室温取出；
步骤七、双面化学抛光；先用无水乙醇对晶片进行清洗，然后将清洗后的晶片放入双面抛光机中固定；抛光时，加入抛光液，抛光盘对晶片加压至0.13Mpa，抛光盘的转速为1200r/min、将抛光好的晶片用无水乙醇清洗后，在室温下进行自然冷却；所述抛光液组分包括：1％的颗粒大小为3μm的立方氮化硼粉末，15％的烷基酚聚氧乙烯醚，5％的甘油，10％的聚丙二醇400，1％的纳米二氧化硅，使得抛光液PH值为12.0的碱性溶液，其余为去离子水；抛光过程中不断补充碱性溶液以保持抛光液的PH值；
步骤八、激光取片；将抛光后的晶片放入激光切割机中并通入保护气体，将晶片按需求切割成相应大小；
步骤九、镀膜；采用光学真空镀膜机对晶片的正反两面镀抗反射膜，抗反射膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐层镀覆而成且层数为6层，最靠近晶片的一层采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或铝的氧化物，所述高折射率氧化物是钛或钽的氧化物；
步骤十、涂油墨；将镀膜后的晶片盖上镂空板，在晶片的边缘处刷涂油墨且重复刷涂三层；
步骤十一、热烘；将涂完油墨的晶片放入热烘机中热烘3h后，空冷至室温。
本发明的蓝宝石摄像头窗口片的制备方法不局限于上述实施例所述的具体技术方案，凡采用等同替换形成的技术方案均为本发明要求的保护范围。
Claims (9)
1.一种蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，其特征在于，包括以下具体步骤：
步骤一、晶体生长；在晶体生长炉的坩埚内装入纯净的Al2O3原料，所述坩埚上方设有可旋转和升降的提拉杆，提拉杆的下端夹设有A晶向、M晶向或C晶向的籽晶；将晶体生长炉内抽真空并通入保护气体，升温至2100～2200℃，使得Al2O3熔融，控制熔体的液面温度为2055℃，将籽晶置于Al2O3熔体的上表面使其与熔体接触，持续0.5～1h；待籽晶与熔体充分沾润后，提拉并转动籽晶，从而实现缩颈—扩肩—等径生长；缩颈阶段，控制熔体的液面温度为2050℃，以3～5mm/h的速度向上提拉籽晶，以45～48r/min的速度转动籽晶；扩肩阶段，控制熔体的液面温度为2048℃，以8～10mm/h的速度向上提拉籽晶，以50～55r/min的速度转动籽晶；等径阶段，控制熔体的液面温度为2052℃，以5～8mm/h的速度向上提拉籽晶，以48～50r/min的速度转动籽晶；待晶体生长结束后，将晶体生长炉内的温度降至1580～1680℃，再对晶体进行退火处理，控制温度以80～100℃/h的速度缓慢降温并持续18～22h，从而得到晶体；
步骤二、晶体掏棒；对晶体进行定向，然后使用掏棒机进行掏棒，从而得到晶棒；
步骤三、晶体切割；采用金刚砂线切割设备对晶棒进行切割，从而得到晶片；
步骤四、研磨；采用研磨机对晶片进行研磨；研磨时，加入研磨液，研磨盘对晶片加压至0.02～0.022Mpa，研磨盘的转速为1000～1200r/min；研磨完成后用无水乙醇清洗；所述研磨液组分包括：0.5～2％的颗粒大小为10～20μm的立方氮化硼粉末，14～16％的烷基酚聚氧乙烯醚，4～6％的甘油，9～11％的聚丙二醇400，其余为去离子水；
步骤五、倒角；采用数控机床的金刚石砂轮对晶片的边角进行倒角处理；
步骤六、退火；将晶片放入退火炉内，以180～220℃/h的速度进行升温将温度升至1600℃，升温时在300℃、800℃、1600℃分别保温2～6h，然后以200℃/h的速度进行降温，降温时在1000℃、500℃分别保温2～3h冷却至室温取出；
步骤七、双面化学抛光；先用无水乙醇对晶片进行清洗，然后将清洗后的晶片放入双面抛光机中固定；抛光时，加入抛光液，抛光盘对晶片加压至0.12～0.15Mpa，抛光盘的转速为1000～1500r/min、将抛光好的晶片用无水乙醇清洗后，在室温下进行自然冷却；所述抛光液组分包括：0.5～2％的颗粒大小为1～6μm的立方氮化硼粉末，14～16％的烷基酚聚氧乙烯醚，4～6％的甘油，9～11％的聚丙二醇400，0.5～2％的纳米二氧化硅，使得抛光液PH值为11.0～13.0的碱性溶液，其余为去离子水；抛光过程中不断补充碱性溶液以保持抛光液的PH值；
步骤八、激光取片；将抛光后的晶片放入激光切割机中并通入保护气体，将晶片按需求切割成相应大小；
步骤九、镀膜；采用光学真空镀膜机对晶片的正反两面镀抗反射膜，抗反射膜由低折射率氧化物和高折射率氧化物逐层镀覆而成且层数为4～8层，最靠近晶片的一层采用低折射率氧化物，所述低折射率氧化物是硅或铝的氧化物，所述高折射率氧化物是钛或钽的氧化物；
步骤十、涂油墨；将镀膜后的晶片盖上镂空板，在晶片的边缘处刷涂油墨且重复刷涂三层；
步骤十一、热烘；将涂完油墨的晶片放入热烘机中热烘2～3h后，空冷至室温。
2.根据权利要求1所述蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，其特征在于：所述步骤三中，金刚砂线的直径为0.14～0.16mm，金刚砂线上金刚石的粒径为30～40μm，金刚砂线在切割时以12～15m/s的速度运动，晶体相对于金刚砂线的移动速度为0.2～0.3mm/min，切割时不断向金刚砂线喷洒切割液，所述切割液中含有粒径为20～30μm的金刚石颗粒和粒径为50～60μm的刚玉颗粒。
3.根据权利要求1所述蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，其特征在于：所述步骤四中，所述研磨液中含有粒径为3～6μm的氧化铝颗粒。
4.根据权利要求1所述蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，其特征在于：所述步骤六中，升温时，在300℃保温2h，在800℃保温3h，在1600℃保温4h。
5.根据权利要求1所述蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，其特征在于：所述步骤七中，所述碱性溶液为KOH。
6.根据权利要求1所述蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，其特征在于：所述步骤七中，所述抛光液PH值为12.0。
7.根据权利要求1所述蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，其特征在于：所述步骤七中，抛光盘对晶片加压至0.135Mpa。
8.根据权利要求1所述蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，其特征在于：所述步骤八中，激光束的直径为0.015～0.02mm，切割速度为3～5mm/s。
9.根据权利要求1所述蓝宝石摄像头窗口片的制备方法，其特征在于：所述步骤九中，所述光学真空镀膜机，采用离子源产生电子光束，先将低折射率氧化物或高折射率氧化物液化后凝固进行预熔，再将凝固后的低折射率氧化物或高折射率氧化物气化喷射到晶面上形成膜。
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